KR100269615B1

KR100269615B1 - 챔버 불순물 제거장치

Info

Publication number: KR100269615B1
Application number: KR1019970075337A
Authority: KR
Inventors: 선정민
Original assignee: 김영환; 현대반도체주식회사
Priority date: 1997-12-27
Filing date: 1997-12-27
Publication date: 2000-10-16
Also published as: KR19990055402A

Abstract

본 발명에 따른 챔버 불순물 제거장치는 고주파 전원(RF POWER)을 공급하는 고주파 전원 공급장치와, 상기 공급된 고주파 전원(RF POWER)이 인가되어 플라즈마를 발생시키는 타켓과, 진공상태에서 내부의 웨이퍼위의 박막을 형성하는 알루미늄 재질의 접지된 챔버 쉴드를 포함하는 스퍼터 챔버중 상기 챔버 쉴드 내벽의 불순물 생성을 방지하기 위하여 음극(-)단은 접지되어 직류전원(DC POWER)를 공급하는 직류 전원 공급장치와, 상기 직류 전원 공급장치의 양극(+)단과 상기 챔버 쉴드에 연결되어 고주파 성분의 흐름을 막는 고주파 차단 필터와, 상기 챔버 쉴드와 접지사이에 연결된 고주파 공진 필터를 포함하여 고주파 플라즈마 에노징 방법을 사용하여 챔버 쉴드내벽의 표면을 산화시켜 불순물 입자 발생을 억제할 수 있다.

Description

챔버 불순물 제거장치

본 발명은 챔버 불순물 제거장치에 관한 것으로서, 특히 고주파 플라즈마를 이용하는 스퍼터 챔버에 플라즈마 에노징 방법을 사용하여 챔버내벽의 표면을 산화시켜 풀순물 입자 발생을 억제할 수 있는 챔버 불순물 제거장치에 관한 것이다.

도 1은 통상의 스퍼터 챔버의 구성도이다.

통상의 스퍼터 챔버는 고주파 전원(RF POWER)을 공급하는 고주파 전원 공급장치(1)와, 상기 공급된 고주파 전원이 인가되어 플라즈마를 발생시키는 타켓(2)과, 진공상태에서 내부의 웨이퍼위의 박막을 형성하는 알루미늄 재질의 챔버 쉴드(3)를 포함한다. 상기 챔버 쉴드(3)는 공정진행중 접지된다.

상기 통상의 스퍼터 챔버는 고주파 전원 공급장치(1)로부터 고주파 전원(RF POWER)이 공급된후 플라즈마를 발생시켜 내부에 주입되는 공정가스를 이온화시켜 챔버 쉴드(3)하부의 웨이퍼 위의 박막을 형성한다.

그러나, 종래의 기술에서는 일정기간 공정을 진행하면 이온화된 가스의 입자가 챔버 쉴드내벽에 증착되어 이후의 공정에서 이물질이 발생되거나 챔버 쉴드의 성분인 알루미늄이 이온화되는 원인이 되므로 주기적으로 세척을 하여야 하는 문제점을 가진다.

따라서, 본 발명의 목적은 상기 종래의 문제점을 해결하기 고주파 플라즈마 에노징 방법을 사용하여 챔버 쉴드내벽의 표면을 산화시켜 불순물 입자 발생을 억제할 수 있는 챔버 불순물 제거장치를 제공하는데 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 챔버 불순물 제거장치는 고주파 전원(RF POWER)을 공급하는 고주파 전원 공급장치와, 상기 공급된 고주파 전원(RF POWER)이 인가되어 플라즈마를 발생시키는 타켓과, 진공상태에서 내부의 웨이퍼위의 박막을 형성하는 알루미늄 재질의 접지된 챔버 쉴드를 포함하는 스퍼터 챔버중 상기 챔버 쉴드 내벽의 불순물 생성을 방지하기 위하여 음극(-)단은 접지되어 직류전원(DC POWER)를 공급하는 직류 전원 공급장치와, 상기 직류 전원 공급장치의 양극(+)단과 상기 챔버 쉴드에 연결되어 고주파 성분의 흐름을 막는 고주파 차단 필터와, 상기 챔버 쉴드와 접지사이에 연결된 고주파 공진 필터를 포함한다.

도 1은 통상의 스퍼터 챔버의 구성도

도 2는 본 발명에 따른 챔버 불순물 제거장치를 추가한 스퍼터 챔버의 구성도

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *

1. 고주파 전원 공급장치 2. 타켓

3. 챔버 쉴드 100. 챔버 불순물 제거장치

101. 고주파 차단 필터 102. 직류 전원 공급장치

103. 고주파 공진 필터 C. 케패시터

L. 리액터

이하, 첨부한 도면을 참고하여 본 발명을 상세히 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 챔버 불순물 제거장치를 추가한 스퍼터 챔버의 구성도이다.

본 발명에 따른 챔버 불순물 제거장치(100)는 고주파 전원(RF POWER)을 공급하는 고주파 전원 공급장치(1)와, 상기 공급된 고주파 전원(RF POWER)이 인가되어 플라즈마를 발생시키는 타켓(2)과, 진공상태에서 내부의 웨이퍼위의 박막을 형성하는 알루미늄 재질의 접지된 챔버 쉴드(3)를 포함하는 스퍼터 챔버중 상기 챔버 쉴드 내벽의 불순물 생성을 방지하기 위하여 음극(-)단은 접지되어 직류전원(DC POWER)를 공급하는 직류 전원 공급장치(102)와, 상기 직류 전원 공급장치의 양극(+)단과 상기 챔버 쉴드에 연결되어 고주파 성분의 흐름을 막는 고주파 차단 필터(101)와, 상기 챔버 쉴드와 접지사이에 연결된 고주파 공진 필터(103)를 포함한다.

상기 고주파 공진 필터(103)은 케패시터(C)와, 리액터(L)의 직렬공진회로로 공급되는 상기 스퍼터 챔버에 공급되는 고주파 전원(RF POWER)의 주파수에 대응하여 임피던스가 '0' 이 되도록 구성한다.

상기 챔버 불순물 제거장치(100)는 다음과 같이 동작한다.

상기 고주파 공진 필터(103)에 의하여 상기 챔버 쉴드(3)는 고주파 전원(RF POWER)에 대하여 접지가 된다. 그리고 상기 챔버 쉴드(3)에 직류 전원 공급장치(102)에 의하여 직류전원(DC POWER)이 공급되어 양극(+)화되고 고주파 차단 필터(101)에 의하여 직류 전원 공급장치(102)에는 고주파 전원(RF POWER)은 차단된다.

상기 스퍼터 챔버에 고주파 전원(RF POWER)이 인가되면 챔버 쉴드(3)내에는 상기 고주파 전원(RF POWER)에 의하여 타켓2)에서 전자들이 활성화된다. 상기 챔버 쉴드(3) 내부의 O₂플라즈마는 상기 활성화된 전자들의 열에너지에 의하여 O￣ 이온이 생성된다.

상기 양극(+)와된 챔버 쉴드(3)에 의하여 상기 생성된 O￣ 이온이 끌려가 알루미늄성분인 챔버 쉴드(3)의 내벽이 산화된다.

따라서, 본 발명은 간단한 회로장치를 가지고 고주파 플라즈마 에노징 방법을 사용하여 챔버 쉴드내벽의 표면을 산화시켜 불순물 입자 발생을 억제할 수 있으므로 주기적인 세척이 필요없는 잇점을 가진다.

Claims

고주파 전원(RF POWER)을 공급하는 고주파 전원 공급장치와, 상기 공급된 고주파 전원(RF POWER)이 인가되어 플라즈마를 발생시키는 타켓과, 진공상태에서 내부의 웨이퍼위의 박막을 형성하는 알루미늄 재질의 접지된 챔버 쉴드를 포함하는 스퍼터 챔버중 상기 챔버 쉴드 내벽의 불순물 생성을 방지하는 챔버 불순물 제거장치에 있어서,

음극(-)단은 접지되어 직류전원(DC POWER)를 공급하는 직류 전원 공급장치와, 상기 직류 전원 공급장치의 양극(+)단과 상기 챔버 쉴드에 연결되어 고주파 성분의 흐름을 막는 고주파 차단 필터와,

상기 챔버 쉴드와 접지사이에 연결된 고주파 공진 필터를 포함하여 고주파 전원(RF POWER)에 대하여는 접지상태를 유지하고, 상기 챔버 쉴드는 직류전원에 의한 양극화를 시켜 고주파 플라즈마 에노징 방법에 의한 챔버 쉴드내벽을 산화시킬 수 있는 것이 특징인 챔버 불순물 제거장치.
청구항 1에 있어서, 상기 고주파 공진 필터는 케패시터(C)와, 리액터(L)의 직렬공진회로로 공급되는 상기 스퍼터 챔버에 공급되는 고주파 전원(RF POWER)의 주파수에 대응하여 임피던스가 '0' 이 되도록 구성한 것이 특징인 챔버 불순물 제거장치.