1300404 玖、發明說明： (一） 發明所屬之技術領域 本發明涉及超純水製造系統及其運轉方法，特别涉及這 樣一種超純水製造系統及其運轉方法，其中在多個並列設 置的各二次純水製造系列中分别備有過濾器芯子的系列中 ，即使將過濾器芯子更換後也能向各使用場所供給水質穩 定的超純水。 (二） 先前技術 第3圖表示已有的典型超純水製造系統的一例。這種超純 水製造系統由用原水1 〇3製造純水的一次純水製造系列1 〇 1 ，以及將這種純水精製成超純水的二次純水製造系列1 02 構成。這種一次純水製造系列1 〇 1中，例如利用前處理裝置 104除去工業用水等原水103中的一部分懸浮物質和有機物 後，將這種處理水送入脫鹽裝置，例如二床三塔式脫鹽裝 置105中。脫鹽裝置105是一種離子交換裝置，除去前處理 裝置104的處理水中的雜質離子。在脫鹽裝置105的後段連 接逆滲透膜裝置（RO裝置）1 06，在RO裝置106中可以除去經 脫鹽裝置1 0 5除去了離子的處理水中的無機離子、有機物和 微粒等雜質。RO裝置106的後段連接真空脫氣裝置107，可 以除去來自RO裝置106的處理水中的溶解氧。在真空脫氣 裝置107的後段與混合床式脫鹽裝置108相連，用混合床式 脫鹽裝置1 0 8可以製造高純度水，將其供給一次純水罐1 0 9 。上述RO裝置106，也可以設置在一次純水罐109之前，例 如將第3圖中的RO裝置1 〇 6與混合床式脫鹽裝置1 〇 8的位置 1300404 互換配置。 二次純水製造系列1 02，一般根據使用的超純水的水質、 使用場所和使用的水量設置若干個系列。第3圖表示二次純 水製造系列102設置成兩系列l〇2a、102b的兩系列的情況。 這種二次純水製造系列1 02中，例如用紫外線氧化裝置 1 10a、1 10b對一次純水罐1〇9排出的純水照射紫外線，純水 中的有機物或者即使是有機酸也能被氧化分解，同時進行 殺菌。在此後段中，設有本身屬於可以更換的混合床式離 子裝置的過濾器芯子1 1 1 a、1 1 1 b，可以捕捉除去被一次純 水製造系列1 〇 1帶入的極微量雜質和被紫外線氧化裝置 1 10a、1 10b分解生成的成份。在被捕捉的這些雜質成份達 到飽和產生泄漏之前，必須定期更換各過濾器芯子。從過 濾器芯子1 1 1 a、1 1 1 b排出的處理水，經裝有超濾膜和精密 過濾膜、逆向滲透膜等的膜處理裝置1 12a、1 12b除去微粒 等，製成超純水。將所製成的超純水通過各供給管路1 1 3 a 、113b供給各使用場所114a、114b。 所供給的超純水，被使用場所1 1 4 a、1 1 4 b使用時未被使 用的剩餘超純水、未被使用場所1 14a、1 14b使用時供給的 超純水，經由返回管路1 15a、1 15b全部被送回一次純水罐 109，通常在由一次純水罐109-紫外線氧化裝置1 l〇a、1 1 〇b —過濾器芯子111a、111b—膜處理裝置112a、112b—供給 管路1 13a、1 13b-返回管路1 15a、1 15b— —次純水罐1〇9構 成的閉路內循環。之所以以此方式使超純水循環，是因爲 例如使用場所1 1 4 a、1 1 4 b中的超純水不使用時一旦停止運 -8- 1300404 轉，停止時水就會滯留在配管和構成系列的各單元中，使 細菌產生增殖，離子成份和有機物數量雖然微少但是卻能 從管壁中溶出，往往使超純水的水質變差，而且在停止和 再次啓動時的衝擊下往往會從各單元中放出微粒或者促進 溶出，此外即使在使用場所1 14a、1 14b使用超純水的場合 下，被送到使用場所114a、1 14b的超純水一旦被全部使用 ，在返回管路11 5 a、1 1 5 b的配管中就會滯留超純水，也會 產生相當的細菌增殖作用，或者往往使離子成份等溶出。 又，針對上述那種一般的超純水製造系統，在專利文獻1 中提出一種超純水製造系統，這種系統由在二次純水製造 系列中使多個過濾器芯子爲可以更換的離子交換裝置，及 在上述離子交換裝置處理的處理水進一步處理的膜處理裝 置，及以上述膜處理裝置的非透過水作爲洗滌水分别選擇 性地通入其前段部分的上述各離子交換裝置之中，將洗滌 排水回收到一次純水製造系列內的洗滌配管系所構成。 專利文獻1 :日本特開平6- 1 5 264號（申請專利範圍）。 (三）發明內容： 然而，在上述那種傳統超純水製造系統中存在以下問題。 首先，在第3圖所示的一般傳統超純水製造系統中，當更 換過濾器芯子1 1 1 a、1 1 1 b中任何一個時，都必須停止製造 超純水，此期間內不能使用超純水，即使開始通水也必須 用大量純水洗滌除去初期更換的過濾器芯子內的離子交換 樹脂的初期溶出物和伴隨更換操作的配管等中的污物，而 且即使迅速進行更換操作，直到能够向使用場所供水之前 -9- 1300404 也需要花費很長時間。也就是說，當更換後的過濾器芯子 達到規定的性能之前必須進行洗滌和沖洗，即使一達到規 定的性能後就立即向使用場所供水，由於洗滌製品’例如 半導體製品的成品率也大多變差，所以決定經過充分時間 後（例如一周至一個月）才向使用場所供水。 而且在上述專利文獻1爲了縮短過濾器芯子更換操作後 純水洗滌的時間，設計了一種能够互相更換過濾器芯子的 離子交換裝置，一邊向各離子交換裝置分别選擇性地通水 ，向使用場所供水，一邊洗滌過濾器芯子。但是這種方案 ® 必須加大洗滌用水部分和二次純水製造規模，因而會造成 設備設置面積的增大和能量成本的增加。 因此，本發明課題在於提供一種超純水製造系統及其運 轉方法，即使其二次純水製造系列中的過濾器芯子更換後 ，也能向使用場所迅速供給水質穩定的超純水，與已有的 一般系統相比，設置面積和能量成本不會產生實質性增加。 爲了解決上述課題，本發明涉及的超純水製造系統，其 中包括一次純水製造系列，及供給由上述一次純水製造系 胃 列製造的純水用的一次純水罐，及至少備有能够更換的過 濾器芯子、將上述一次純水罐中的純水精製成水質要求不 同的多種超純水的、互相並列設置的多個二次純水製造系 列，及向各使用場所供給由各二次純水製造系列製造的超 純水用的超純水供給管路，其中以使各過濾器芯子處理水 的供給處可互相切換的方式，將對水質要求相對較高的高 水質二次純水製造系列的過濾器芯子出口管路與水質要求 -10- 1300404 相對較低的低水質二次純水製造系列的過濾器芯子出口管 路連續。 這種超純水製造系統中，較佳地’在各過滤器芯子出口 管路與各超純水供給管路之間，設有膜處理裝置，例如裝 有超濾膜和精密濾膜、逆向滲透膜等構成的膜處理裝置。 而且，上述超純水供給管路，連接於從上述使用場所將 未使用的超純水向上述一次純水罐返送用的返回管路，關 於從二次純水製造系列至使用場所，較佳地，使未使用的 超純水進行通常循環。 本發明涉及的超純水製造系統的運轉方法，其中包括利 用至少備有可以更換的過濾器芯子的、水質要求不同的多 個二次純水製造系列，將由一次純水製造系列製造、供給 至一次純水罐的純水精製成超純水，向各使用場所供給超 純水，其特徵在於對水質要求相對較高的高水質二次純水 製造系列的過濾器芯子更換後，至經預先試驗求出的處理 性能穩定期間經過（例如後述實施例中的一周時間）之前， 將上述高水質二次純水製造系列中的過濾器芯子的處理水 ，供給對水質要求相對較低的低水質二次純水製造系列中 的過濾器芯子的出口管路’同時將上述低水質二次純水製 造系列中的過濾器芯子的處理水，供給上述高水質二次純 水製造系列中的過濾器芯子的出口管路，上述處理性能穩 定期間經過後，恢復成通常供給；將上述高水質二次純水製 造系列的過濾器芯子的處理水供給到上述高水質二次純水 製造系列中的過濾器芯子的出口管路，將低水質二次純水 1300404 製造系列中的過濾器芯子的處理水供給到低水質二次純水 製造系列中的過濾器芯子的出口管路。 在這種超純水製造系統的運轉方法，各過濾器芯子的處 理水經過膜處理後，例如利用超濾膜和精密濾膜、逆向滲 透膜等處理後，供給各使用場所爲理想的。 而且，將各使用場所未使用的超純水返送到上述一次純 水罐’對使用場所未使用的超純水進行常時循環爲理想的。 本發明涉及的超純水製造系統及其運轉方法，適用於製 造電子部件材料，例如半導體製造使用的洗滌用水，更具 體而言適用於晶圓和晶片、各種電路基板、液晶基板等電 子部件材料的製造使用的洗滌用水。 上述那種本發明涉及的超純水製造系統及其運轉方法， 以並列設置水質要求各異的多個二次純水製造系列作爲前 提，特别適用於對水質要求相對較高的高水質二次純水製 造系列中的過濾器芯子進行更換的場合。而且，此時由未 被更換而殘留的、對水質要求相對較低的低水質要求的二 次純水製造系列中的過濾器芯子處理的水質至此能够穩定 加以利用，其結果即使將該處理水直接供給高水質二次純 水製造系列中的過濾器芯子的出口管路也不會產生特别問 題，能够保持水質優良。本發明正是著眼於這一點才得以 完成的。 也就是說，高水質二次純水製造系列中的過濾器芯子更 換後，該過濾器芯子的處理水被供入低水質二次純水製造 系列中的過濾器芯子的出口管路，即供入僅要求低水質超 1300404 純水的低純水系列中，通過使此供給系列維持預定的處理 性能穩定期間，該期間被更換的過濾器芯子就能在正常運 轉狀態下被充分洗滌乾淨。而且’經未被更換而殘留的、 來自低水質二次純水製造系列中的過濾器芯子的處理水， 雖然被供入高水質二次純水製造系列中的過濾器芯子的出 口管路，即被供入對水質要求更高的高純水的製造系列， 但是由於這種過爐器芯子的處理水至此維持在穩定而優良 的水質下，所以如上所述，即使被高純水系列回收也實質 上不會產生任何問題，能够迅速而穩定地供給高純水系列 ® 所要求的水質的超純水。這種管路切換的結果，更換上述 過濾器芯子後，能够極爲迅速地供給滿足各使用場所要求 的水質的超純水。本發明，由於僅在過濾器芯子出口一側 設置切換機構，所以系統全體的設置面積並未增大，而且 能量成本也不增加。此外，洗滌更換的過濾器芯子的用水 ，可以直接供給低水質二次純水製造系列，例如即使流過 洗滌水的場合下也僅僅是該流過的水量，所以從這一角度 來看設置面積和能量成本均不會增大。 ® 上述預定處理性能穩定期間經過之後，可以將通常的處 理系統，即在高水質二次純水製造系列的過濾器芯子的處 理水，直接供給高水質二次純水製造系列中的過濾器芯子 的出口管路，將在低水質二次純水製造系列的過濾器芯子 的處理水直接供給低水質二次純水製造系統中的過濾器芯 子的出口管路，恢復到通常的供給系統。 (四）實施方式 -13- 1300404 以下參照附圖說明本發明理想的實施方式。 第1圖表示本發明一種實施方式所涉及的超純水製造系 統。這種超純水製造系統由用原水3製造純水的一次純水製 造系列1，以及將此純水精製成超純水的二次純水製造系列 2構成。在此一次純水製造系列1，例如用前處理裝置4除去 工業用水等原水3中的一部分懸浮物質和有機物質，將這種 處理水送入脫鹽裝置，例如二床三塔式脫鹽裝置5中。脫鹽 裝置5是離子交換裝置，可以除去前處理裝置4的處理水中 的雜質離子。在脫鹽裝置5的後段與逆向滲透膜裝置（R0裝 ® 置）6相連，利用RO裝置6可以除去經脫鹽裝置5除去了離子 的處理水中的無機離子、有機物、微粒等雜質。在RO裝置 6的後段，連接有真空脫氣裝置7，可以除去R〇裝置6排出 的處理水中融解的氧。在真空脫氣裝置7的後段連接混合床 式脫鹽裝置8^用混合床式脫鹽裝置8可以製造高純度的純 水，將其供給一次純水罐9。上述的R Ο裝置6也可以配置在 一次純水罐9之前，例如第1圖中的RO裝置6與混合床式脫 鹽裝置8的位置也可以互換設置。 β 二次純水製造系列2 —般可以根據使用的超純水的水質 、使用場所和使用水量設置若干系列，在實施方式，表示 二次純水製造系列2被設置成Α系列2 a和Β系列2 b兩系列的 情況。 在這種二次純水製造系列2，例如用紫外線氧化裝置丨〇 & 、1 0 b對一次純水罐9排出的純水照射紫外線，純水中的有 機物或者即使是有機酸也能被氧化分解，同時進朽細菌的 -14- 1300404 殺菌。在此後段，設有可以更換的混合床式離子交換裝置 的過濾器芯子1 1 a、1 1 b，可以捕捉除去由一次純水製造系 列1帶入的極微量雜質和被紫外線氧化裝置1 0a、1 Ob分解生 成的成份。被捕捉的這些雜質成份達到飽和產生泄漏之前 ，必須定期更換各過濾器芯子1 1 a、1 1 b。從過濾器芯子1 1 a 、1 1 b排出的處理水，可以用本實施方式中作爲膜處理裝置 的超濾膜處理裝置1 2 a和作爲膜處理裝置的精密濾膜裝置 1 2b除去微粒等，精製成超純水。所精製成的超純水，經由 供給管路13a、13b供給各使用場所14a、14b。 所供給的超純水在使用場所1 4 a、1 4 b使用時未被使用的 剩餘超純水，以及使用場所1 4 a、1 4 b不使用時所供給的全 部超純水，經由管路1 5 a、1 5 b被返送到一次純水罐9中，常 時在由一次純水罐紫外線氧化裝置1 〇a、1 〇b—過濾器芯 子11a、lib-膜處理裝置12a、12b-M共給管路13a、13b — 返回管路15a、15b—膜處理裝置12a、12b->供給管路13a、 13b—返回管路15a、15b— —次純水罐9構成的閉路內循環 。之所以這樣使超純水循環，是因爲如上所述，爲了防止 因超純水的滯留會引起細菌增殖，或者離子成份和有機物 數量雖然微少但是卻能從管壁中溶出使超純水的水質變差 ，或者爲了防止停止和再次啓動時的衝擊使微粒從各單元 溶出或者促進溶出。 迄今’雖然說明的是通常的運轉路線，但是第3圖所示的 現有結構實質上並未改變。本發明，將水質要求相對較高 的高水質二次純水製造系列的過濾器芯子與水質要求相對 -15- 1300404 較低的低水質二次純水製造系列的過濾器芯子，以使各過 濾器芯子處理水的供給處可相互切換的方式連接。 也就是說，本實施方式，二次純水製造系列2由0.2 5微米 級以下的LSI製造工序中需要純度較高（高水質）超純水的 工序，例如從成分分離形成至閘電極形成爲止的工序中使 用的A系列2a，以及對水質要求相對不高的工序，例如配線 工序中使用的B系列2b構成。但是，超純水流水線的劃分並 不限於上述的情況，例如對可靠性要求較高的DRAM的電容 器工序，以及即使在配線工序中對於要求低接觸阻抗的接 觸孔下部基板的洗滌，也都需要使用相對較高的高純度的 超純水。 在過濾器芯子1 la和過濾器芯子1 lb的處理水側的配管， 即連接各過濾器芯子11a、lib與各膜處理裝置12a、12b的 過濾器芯子出口管路16a、16b上，分别設有分支部分，過 濾器芯子1 la的處理水也可以供給超濾膜裝置12 a和精密濾 膜裝置12b中任何一個膜處理裝置，而且過濾器芯子lib的 處理水也可以供給超濾膜裝置12a和精密濾膜裝置12b中任 何一個膜處理裝置。分别在過濾器芯子1 1 a的出口管路1 6a 上設有閥VI，在其分支管路17a上設有閥V3，在過濾器芯 子1 lb的出口管路16b上設有閥V2,在其分支管路17b上設有 閥V4，通過這些閥V 1〜V4的開關，能够將各過濾器芯子的 處理水選擇性地供給任何一個過濾器芯子的出口管路，或 者進一步供給任何一個膜處理裝置中。 在通常運轉時，打開閥VI關閉閥V3，在A系列2a，將來 1300404 自過濾器芯子1 la的處理水供給超濾膜裝置12a，製造高純 度超純水，由使用場所1 4 a，例如作爲L S I基板的洗滌用水 等使用；而且，在B系列2b的場合下，打開閥V2關閉閥V4 ，將來自過濾器芯子11 b的處理水供給精密濾膜裝置1 2 b， 製造一般超純水，供使用場所14b使用。 A系列2 a的過濾器芯子11 a除去由一次純水製造系列1帶 入的極微量雜質和在紫外線氧化裝置10a中生成的成份，當 被捕捉的這些雜質達到飽和之前，以一年一次的頻度進行 更換。 當A系列2a的過濾器芯子1 la實施更換操作後，爲了除去 初期系列內的污物，使過濾器芯子的處理水流過數小時後（ 只有少量流過的水），爲了將處理水送到要求一般超純水的 使用場所1 4b，打開閥V3，同時關閉閥V 1。這樣，被更換 的過濾器芯子1 1 a的處理水，經過精密濾膜裝置1 2 b處理後 ，可以供給使用場所1 4 b。爲了同時向要求高純度超純水的 使用場所14a供給超純水，打開閥V4，關閉閥V2，將來自 過濾器芯子1 1 b的處理水供給超濾膜裝置1 2 a，過濾器芯子 1 1 b的處理水經超濾膜裝置1 2 a處理後，供給到使用場所1 4 a 。過濾器芯子1 1 b由於未更換而一直使用，所以如上所述， 即使供給到要求高純度超純水的系列也能穩定地供給足够 高水質的超純水，經過超濾膜裝置1 2a處理，能够極爲迅速 地供給滿足使用場所1 4a對水質要求的超純水。 這樣將對水質要求極高的過濾器芯子1 1 a更換後，調查了 更換本來應當供給來自過濾器芯子的處理水的系列，而供 1300404 給超純水時對使用場所中的洗滌部件的影響。表1表示向高 純度純水系列（使用場所1 4 a的系統）供給來自過·器芯子 1 1 b的處理水進行洗滌時的在監測器用矽晶片上附著的金 屬的量（單位：原子數目/平方厘米）和更換後通水的曰數。 此時，過濾器芯子1 1 b使用了六個月。在此0日表示實施更 換的當曰。 表1 更換前 〇曰 1曰 3曰 1周 30曰 金屬量 lxlO9 lxlO9 lxlO9 lxlO9 lxlO9 lxlO9
而且，表2表示向一般純水系列供給來自過濾器芯子1 1 a 的處理水期間，以及在該供給期間之後通過切換閥門向高 純度純水系列供給來自過濾器芯子11 a的處理水，在使用場 所14a進行洗滌時，在監測器用矽晶片上附著的金屬量（單 位：原子數目/平方厘米）和至此更換後通水的日數。其中0 日表示將過濾器芯子1 1 a更換後立即向高純度純水系列使 用場所14a供給該處理水。 表2 更換前 0曰 1曰 3曰 1周 30曰 金屬量 lxlO9 9xl09 3xl〇9 2xl09 lxlO9 lxlO9 正如表1表明的那樣，更換高純度超純水系列之A系列2 a 用的過濾器芯子1 1 a時，即使向高純度超純水系統使用場所 1 4 a供給是一般超純水系列B系列2 b中的過濾器芯子1 1 b的 處理水’也没有發現在基板表面上附著的金屬量增加，所 -18- 1300404 以證明更換系列是控制金屬附著量用的有效手段。又，從 表2可以看出，本試驗例，將處理性能穩定期間定位一周以 上通水後的過濾器芯子1 1 a返回到通常處理系統中使用時 ，没有發現在基板表面上附著的金屬量增加，所以說明系 列的更換期間至少定爲一周是適當的。但是這種處理穩定 期間，較佳地，根據採用本發明的系統，通過試驗事先求 出最佳期間，而且該最佳値將會隨系統而變。 此外，採用與上述同樣的試驗，硏究了 TO C (有機物碳總 量）。也就是說，起因物質雖然尙未查明，但是卻發現使用 更換過濾器芯子後的超純水製造半導體等部件時，成品率 往往變差，而且直至過濾器芯子更換後超純水中的TO C達 到穩定之前，需要一段通水時間。 更換過濾器芯子後，調查了將本來應供給過濾器芯子的 系列替換，供給超純水時，使用場所供給水中的TOC。表3 表示向高純度純水系列（使用場所14a的系統）供給來自過 濾器芯子1 1 b的處理水時，洗滌水中的Τ Ο C濃度和更換後通 水的日數。此時過濾器芯子11 b使用了六個月。其中〇日表 示更換的當曰。 表3 更換前 〇曰 1曰 3曰 1周 30曰 TOC 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 表4表示向一般純水系列供給來自過濾器芯子1 1 a的處理 水期間，以及在該期間後，通過切換閥門，向高純度純水 -19- 1300404 系列供給來自過濾器芯子1 1 a的處理水，在使用場所1 4a進 行洗滌時的洗滌水中的Τ Ο C濃度，以及至此更換後通水的 曰數。其中〇日表示更換過濾器芯子1 i a後立即向高純度純 水系列使用場所1 4 a供給該處理水。 表4 更換前 〇曰 1曰 3曰 1周 30曰 TOC 0.5 3.0 0.9 0.7 0.5 0.5 正如表4說明的那樣，更換高純度超純水系列之a系列2a Φ 用過濾器芯子1 1 a時，即使向高純度超純水系列使用場所 14 a供給是一般超純水系列B系列2b的過濾器芯子1 lb的處 理水，因爲也没有發現洗滌水中Τ Ο C濃度增加，所以證明 更換系列是穩定地在低水平下控制Τ Ο C的有效手段。從表4 可以看出，本試驗例中，通過將處理性能穩定期間定爲一 周以上通水後的過濾器芯子1 1 a返回到通常處理系統中使 用，没有發現洗滌水中TOC濃度增加，所以說明系列的更 換期間至少定爲一周是適當的。但是這種處理穩定期間也 ® 優選根據採用本發明的系統，通過試驗事先求出最佳期間 ，而且該最佳値將會隨系統而變。 此外，在上述實施方式，雖然二次純水製造系列是就二 系列2a、2b的情況進行說明的，但是在本發明也可以並 列設置三個以上系列。在並列設置三系列以上的場合下、 更換對水質要求相對較高系統中的過濾器芯子的場合下 ，在與對水質要求相對較低系統中的過濾器芯子之間，可 -20- 1300404 以切換處理水出口管路。例如，正如第2圖所表示的三系 統場合下，過濾器芯子的出口管路部分那樣，相對並列設 置的過濾器芯子21a、21b和21c(依次從高純度至低純度的 系統）的各出口管路22a、22b和22c，分别設置支管路23a 、23b、23c 和 23d，以及閥門 VII、V12、V13、V14、V15 、V 1 6和V 1 7，可以在更換過濾器芯子2 1 a的情況下，在 出口管路22a與出口管路2 2b之間，在更換過濾器芯子21b 的情況下，在出口管路2 2 b與出口管路2 2 c之間，分别切 換供給處。 綜上所述，按照本發明涉及的超純水製造系統及其運轉 方法，能够提供一種實用而容易實施的超純水製造系統， 這種系統裝置結構既極爲簡單，又能將超純水水質維持在 高水質，僅用更換過濾器芯子所需的最小必要停機時間就 能使超純水製造系統以穩定狀態運轉，不僅能極大的抑制 通過水量，而且速3¾極爲迅速地向使用場所供給預定的超 純水。而且由於系統的設置面積和能量成本也不會產生實 質性增加。 (五）圖式簡單說明 第1圖是本發明的一種實施方式所涉及的超純水製造 系統的機械系統示意圖。 第2圖是表示本發明的另一種實施方式所涉及的超純水 製造系統中的過濾器芯子的出口管路部分的機械系統示意 圖。 第3圖是現有的超純水製造系統的機械系統示意圖。 -21- 1300404 主要部分之代表符號說明 1 —* 次 純 水 製 造 系 列 2 二 次 純 水 製 造 系 列 2a A 系 列 2 b B 系 列 3 原 水 4 刖 處 理 裝 置 5 二 床 -- 塔 式 脫 鹽 裝置 6 逆 向 滲 透 膜 裝 置 (RO裝置） 7 真 空 脫 氣 裝 置 8 混 合 床 式 脫 鹽 裝 置 9 —* 次 純 水 罐 10a， 10b 紫 外 線 氧 化 裝 置 11a， llb，21a，21b，21c 過 濾 器 心 子 12a 超 濾 膜 處 理 裝 置 12b 精 密 濾 膜 處 理 裝 置 13a， 13b 供 給 管 路 14a， 14b 使 用 場 所 15a， 15b 返 回 管 路 16a， 16b 出 □ 管 路 17a, 17b 分 支 管 路 2 2a， 22b?22c 出 □ 管 路 23a， 23b，23c 支 管 路 V 1〜V 4 閥
-22-