JPH0217994A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPH0217994A JPH0217994A JP63167802A JP16780288A JPH0217994A JP H0217994 A JPH0217994 A JP H0217994A JP 63167802 A JP63167802 A JP 63167802A JP 16780288 A JP16780288 A JP 16780288A JP H0217994 A JPH0217994 A JP H0217994A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- organic matter
- organic substance
- inorganic
- dissolved
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 31
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 34
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910001410 inorganic ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 3
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 64
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 45
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 22
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 21
- 239000008399 tap water Substances 0.000 claims description 20
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 18
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000005446 dissolved organic matter Substances 0.000 claims description 8
- 238000005374 membrane filtration Methods 0.000 claims description 5
- 238000007872 degassing Methods 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 55
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 abstract description 55
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001455 metallic ions Chemical class 0.000 abstract 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 14
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 11
- 238000009279 wet oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- -1 niragel Chemical compound 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 description 2
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- XYZSNCGFOMVMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxa-2$l^{2}-stanna-4$l^{6}-tungstacyclobutane 4,4-dioxide Chemical compound O=[W]1(=O)O[Sn]O1 XYZSNCGFOMVMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000195493 Cryptophyta Species 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000700605 Viruses Species 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical class [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、例えば電子工業半導体製造に用いることの
できる純度の極めて高い超純水を製造する装置に関する
。
できる純度の極めて高い超純水を製造する装置に関する
。
(従来の技術)
一般に半導体製造に用いる超純水は、製品に与える影響
が大きいために水質に対する要求が厳しいものであり、
あらゆる不純物、例えば固形物、溶解性塩類、溶存ガス
、有機物、コロイド、藻やバクテリアなどの微生物等が
存在しないことが望まれる。
が大きいために水質に対する要求が厳しいものであり、
あらゆる不純物、例えば固形物、溶解性塩類、溶存ガス
、有機物、コロイド、藻やバクテリアなどの微生物等が
存在しないことが望まれる。
このため、普通の純水製造装置では十分ではなく、さら
に厳密な処理を行なう装置が求められている。
に厳密な処理を行なう装置が求められている。
第3図のこのような超純水製造装置の従来例を示してお
り、原水として使用される水道水1に対して、そこに含
有される残留塩素及び有機物を除去する活性炭濾過装置
2と、水道水中の懸濁物を除去するためにルコート沢過
等の精密濾過を用いた固形物濾過装rI13と、溶存イ
オン分を除去ずるなめの温床式イオン交換樹脂装置4と
、水道水中の溶存ガスを除去するための脱気装置5とを
備えている。
り、原水として使用される水道水1に対して、そこに含
有される残留塩素及び有機物を除去する活性炭濾過装置
2と、水道水中の懸濁物を除去するためにルコート沢過
等の精密濾過を用いた固形物濾過装rI13と、溶存イ
オン分を除去ずるなめの温床式イオン交換樹脂装置4と
、水道水中の溶存ガスを除去するための脱気装置5とを
備えている。
さらにこの脱気装置5の後段には、1通水を一時的に貯
留するための貯4(!6と、この貯槽6に貯留されてい
る水を吸い上げるポンプ7と、このポンプ7により貯槽
6からの濾過水を加圧して供給され、イオン分の十分な
除去を行なう混床式カートリッジイオン交換樹脂装置で
あるボリッシャ8と、残存微粒子を0.3〜数μ程度ま
で除去するために有機膜を用いたフィルタエレメントを
濾過器とする純水r過装置9とを備え、この純水濾過装
置9から目的の超純水10を取出す構成としている。
留するための貯4(!6と、この貯槽6に貯留されてい
る水を吸い上げるポンプ7と、このポンプ7により貯槽
6からの濾過水を加圧して供給され、イオン分の十分な
除去を行なう混床式カートリッジイオン交換樹脂装置で
あるボリッシャ8と、残存微粒子を0.3〜数μ程度ま
で除去するために有機膜を用いたフィルタエレメントを
濾過器とする純水r過装置9とを備え、この純水濾過装
置9から目的の超純水10を取出す構成としている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、このような従来の超純水製造装置では、
固形物、溶解塩類、溶存ガス、コロイド、バクテリアな
どは十分に除去できて良好であるが、有機物については
十分な除去ができず、TOCで数10PPbの残留が避
けられない問題点があった。
固形物、溶解塩類、溶存ガス、コロイド、バクテリアな
どは十分に除去できて良好であるが、有機物については
十分な除去ができず、TOCで数10PPbの残留が避
けられない問題点があった。
これは、第3図の従来の超純水製造装置では、微量有機
物を除去できる装置や機能を備えておらず、逆に水道水
の濾過中に有機物を溶出すると考えられるイオン交換樹
脂が溶解塩類除去用として用いられておつ、同様にコロ
イド除去のためにも高性能フィルタとして有機膜フィル
タエレメントが用いられているためである。
物を除去できる装置や機能を備えておらず、逆に水道水
の濾過中に有機物を溶出すると考えられるイオン交換樹
脂が溶解塩類除去用として用いられておつ、同様にコロ
イド除去のためにも高性能フィルタとして有機膜フィル
タエレメントが用いられているためである。
しかるに、このように得られる純水中にamではあって
も有機物が含まれていると、今後ますますミクロ領域を
追及する超々LSI等の半導体デバイス用洗浄水として
好ましくない。
も有機物が含まれていると、今後ますますミクロ領域を
追及する超々LSI等の半導体デバイス用洗浄水として
好ましくない。
そこで、従来から、有機物の含まれていない超純水の製
造のできる装置の出現が強く望まれていた。
造のできる装置の出現が強く望まれていた。
この発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされた
もので、製造工程内に溶存微量有機物を完全に酸化分解
できる有機物酸化装置を設けると共に、微量有n物を酸
化分解処理した後の工程には有機物溶出源となりやすい
有機材料を使用しないようにし、有機物を含まない超純
水を製造できるようにした超純水製造装置を提供するこ
とを目的とする。
もので、製造工程内に溶存微量有機物を完全に酸化分解
できる有機物酸化装置を設けると共に、微量有n物を酸
化分解処理した後の工程には有機物溶出源となりやすい
有機材料を使用しないようにし、有機物を含まない超純
水を製造できるようにした超純水製造装置を提供するこ
とを目的とする。
つまり、製造工程内に設ける溶存微量有機物を完全に酸
化分解できる有機物分解装置として、分解性能、信頼性
、安全性、経済性などの観点から、過酸化水素添加後、
紫外線照射する装置や、高温高圧下の湿式酸化装置を用
い、これらの有機物酸化装置により水道水中の溶存有機
物を完全に分解すると共に、バクテリアやビールスなど
の微生物も完全に除去するようにする。
化分解できる有機物分解装置として、分解性能、信頼性
、安全性、経済性などの観点から、過酸化水素添加後、
紫外線照射する装置や、高温高圧下の湿式酸化装置を用
い、これらの有機物酸化装置により水道水中の溶存有機
物を完全に分解すると共に、バクテリアやビールスなど
の微生物も完全に除去するようにする。
そして、この有機物酸化装置より下流側の工程では有機
物を溶出しやすい有機材料を使用しないようにし、実用
上問題となる溶存微量イオン分及びコロイドなどの固形
物の除去のためには、次のような対策をとる。
物を溶出しやすい有機材料を使用しないようにし、実用
上問題となる溶存微量イオン分及びコロイドなどの固形
物の除去のためには、次のような対策をとる。
(1)有機物分解後の溶存イオン除去対策超純水製造工
程に設ける有機物分解装置は上述のように過酸化水素−
紫外線酸化反応、高温湿式酸化反応により溶存有機物を
酸化分解するものであるが、一方、処理装置を構成する
金属材料についても苛酷な条件となるために金属材料か
ら若干の重金属溶出が避けられない、そこで、有機物分
解後においては、溶出重金属イオン、例えば鉄、ニラゲ
ル、マンガン、クロムなどのイオンを除去することが不
可欠となる。
程に設ける有機物分解装置は上述のように過酸化水素−
紫外線酸化反応、高温湿式酸化反応により溶存有機物を
酸化分解するものであるが、一方、処理装置を構成する
金属材料についても苛酷な条件となるために金属材料か
ら若干の重金属溶出が避けられない、そこで、有機物分
解後においては、溶出重金属イオン、例えば鉄、ニラゲ
ル、マンガン、クロムなどのイオンを除去することが不
可欠となる。
しかしながら、上述のように重金属イオン除去にイオン
交換樹脂や逆浸透膜のような有機系材料は、それらから
若干の有機物の溶出が生じ得るので用いることができな
い。
交換樹脂や逆浸透膜のような有機系材料は、それらから
若干の有機物の溶出が生じ得るので用いることができな
い。
そこで、この重金属イオンの除去のために無機系イオン
交換材を用いることにするが、無機イオン交換材は金属
材料から溶出する重金属イオンなどに対してはその除去
性能が優れており、イオン交換樹脂と比較しても遜色無
いことが確認されているとはいえ、電離症の大きいアル
カリ金属、例えばカリウム、ナトリウム、リチウムなど
のイオンについてはイオン交換樹脂に比べて性能が劣る
。
交換材を用いることにするが、無機イオン交換材は金属
材料から溶出する重金属イオンなどに対してはその除去
性能が優れており、イオン交換樹脂と比較しても遜色無
いことが確認されているとはいえ、電離症の大きいアル
カリ金属、例えばカリウム、ナトリウム、リチウムなど
のイオンについてはイオン交換樹脂に比べて性能が劣る
。
このため、無機イオン交換材を使用するには、除去が困
難なアルカリイオンが存在しないことが条件となるが、
有機物酸化装置の上流側でアルカリイオンを含む全ての
イオンをこれらに対して除去性能の良いイオン交換樹脂
により除去しておくならば、有機物酸化装置の下流側に
はアルカリイオンが溶出することはなく重金属イオンの
み除去すればよくなる。
難なアルカリイオンが存在しないことが条件となるが、
有機物酸化装置の上流側でアルカリイオンを含む全ての
イオンをこれらに対して除去性能の良いイオン交換樹脂
により除去しておくならば、有機物酸化装置の下流側に
はアルカリイオンが溶出することはなく重金属イオンの
み除去すればよくなる。
この重金属イオンを除去するために用いられる無機イオ
ン交換材としては、例えば酸化チタニウム、酸化ジルコ
ニウムなどの金属酸化物、あるいはリン酸ジルコニウム
、タングステン酸錫などの金属酸塩が用いられる。
ン交換材としては、例えば酸化チタニウム、酸化ジルコ
ニウムなどの金属酸化物、あるいはリン酸ジルコニウム
、タングステン酸錫などの金属酸塩が用いられる。
(2)有機物分解後の微粒固形物除去対策有機物分解後
の処理対象不純物は、上記の重金属イオンと無機系微粒
固形物であり、超純水においては微粒固形物の除去が不
可欠である。
の処理対象不純物は、上記の重金属イオンと無機系微粒
固形物であり、超純水においては微粒固形物の除去が不
可欠である。
超純水の微粒固形物を除去する濾過装置としては、超濾
過装置や逆浸透装置等があるが、超濾過装置は0.3〜
数μ程度のr過能力を持つフィルタエレメントを濾過器
のケースに取付けたものであり、このエレメントの材質
はセルロースや合成樹脂などの有機系が多用され、その
他にグラスファイバーなどの無機系材料も用いられる。
過装置や逆浸透装置等があるが、超濾過装置は0.3〜
数μ程度のr過能力を持つフィルタエレメントを濾過器
のケースに取付けたものであり、このエレメントの材質
はセルロースや合成樹脂などの有機系が多用され、その
他にグラスファイバーなどの無機系材料も用いられる。
そして、逆浸透装置ではエレメントに半透膜が用いられ
、その材質は全て有R膜が用いられ、ポアサイズは0.
002〜0.005μで、コロイド粒子も完全に除去で
きる。
、その材質は全て有R膜が用いられ、ポアサイズは0.
002〜0.005μで、コロイド粒子も完全に除去で
きる。
しかし、これらの超濾過装置や逆浸透装置の有機材料の
ものは用いることができないので、無機膜エレメントを
用いることによりこの問題を解決する。
ものは用いることができないので、無機膜エレメントを
用いることによりこの問題を解決する。
無機エレメントとしては、アルミナなど化学的に安定な
材料を用い、多孔質支持体の表面に微細孔の層を形成し
たもので、0.005μ程度までのコロイド性微粒固形
物も濾過てきる。しかも、この無機膜エレメントを含む
微粒固形物濾過装置には溶出する恐れのある有機物が含
まれておらず、装置からの有機物の溶出が無い。
材料を用い、多孔質支持体の表面に微細孔の層を形成し
たもので、0.005μ程度までのコロイド性微粒固形
物も濾過てきる。しかも、この無機膜エレメントを含む
微粒固形物濾過装置には溶出する恐れのある有機物が含
まれておらず、装置からの有機物の溶出が無い。
こうして、水道水中のアルカリイオンや有機物は有機物
酸化装置の上流側で濾過しておき、なお処理水中に含ま
れている有機物を有機物酸化装置により完全に除去し、
この有機物酸化装置の下流側では処理水中に含まれてい
る不純物としての重金属イオンや無機固形物を無機イオ
ン交換手段と無npipp過手段により除去することに
より、有機物を含まない超純水を得ることができるので
ある。
酸化装置の上流側で濾過しておき、なお処理水中に含ま
れている有機物を有機物酸化装置により完全に除去し、
この有機物酸化装置の下流側では処理水中に含まれてい
る不純物としての重金属イオンや無機固形物を無機イオ
ン交換手段と無npipp過手段により除去することに
より、有機物を含まない超純水を得ることができるので
ある。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
この発明の超純水製造装置は、水道水から有機物や残留
塩素を除去する有機物濾過手段と、水道水中の懸濁物を
除去する固形物濾過手段と、水道水中の溶存イオン成分
を除去する温床式イオン交換樹脂装置とを前段濾過装置
群として配置し、この前段濾過装置群の出側に水道水中
から溶存有機物を酸化除去する有機物酸化装置を配置し
、この有機物酸化装置の出側に説気手段と、重金属イオ
ンを除去するための無機イオン交換手段と、無機微粒固
形物を除去するための無機M濾過手段とを後段濾過装置
群として配置し、これら後段r過装置群を有機溶存物を
溶出しない無機材料の配管、機器、分離膜、部品等で構
成したものである。
塩素を除去する有機物濾過手段と、水道水中の懸濁物を
除去する固形物濾過手段と、水道水中の溶存イオン成分
を除去する温床式イオン交換樹脂装置とを前段濾過装置
群として配置し、この前段濾過装置群の出側に水道水中
から溶存有機物を酸化除去する有機物酸化装置を配置し
、この有機物酸化装置の出側に説気手段と、重金属イオ
ンを除去するための無機イオン交換手段と、無機微粒固
形物を除去するための無機M濾過手段とを後段濾過装置
群として配置し、これら後段r過装置群を有機溶存物を
溶出しない無機材料の配管、機器、分離膜、部品等で構
成したものである。
(作用)
この発明の超純水製造装置では、前段濾過装置群により
まず水道水中の残留塩素や有機物、懸濁物、アルカリイ
オンなどのイオンを除去し、有機物酸化装置に導く。
まず水道水中の残留塩素や有機物、懸濁物、アルカリイ
オンなどのイオンを除去し、有機物酸化装置に導く。
製造工程内に設ける溶存微量有機物を完全に酸化分解す
る有機物酸化装置としては1、分解性能、信頼性、安全
性、経済性などを考慮して過酸化水素添加後紫外線照射
する装置や、高温高圧下の湿式酸化装置を用い、この有
機物酸化装置により濾過水中の溶存有機物を完全に酸化
分解して除去し、その処理水を後段濾過装置群に与える
。
る有機物酸化装置としては1、分解性能、信頼性、安全
性、経済性などを考慮して過酸化水素添加後紫外線照射
する装置や、高温高圧下の湿式酸化装置を用い、この有
機物酸化装置により濾過水中の溶存有機物を完全に酸化
分解して除去し、その処理水を後段濾過装置群に与える
。
後段濾過装置群では、前記有機物酸化装置により溶出し
得る重金属イオン、例えば鉄、ニッケル、マンガン、ク
ロムなどのイオンを無機イオン交換手段によって除去し
、さらに処理水中に含まれている無n微粒固形物を無機
膜濾過手段によって除去し、こうして水道水中に含まれ
ている全ての不純物を取り除き、有機物不含の超純水を
取出すことができる。
得る重金属イオン、例えば鉄、ニッケル、マンガン、ク
ロムなどのイオンを無機イオン交換手段によって除去し
、さらに処理水中に含まれている無n微粒固形物を無機
膜濾過手段によって除去し、こうして水道水中に含まれ
ている全ての不純物を取り除き、有機物不含の超純水を
取出すことができる。
(実施例)
以下、この発明の実施例を図に示す実施例に基づいて詳
説する。
説する。
第1図は、有機物酸化装置として過酸化水素添加−紫外
線照射装置を用いた実施例であり、第3図に示した従来
例と同一の構成部分には同一の符号を付しである。
線照射装置を用いた実施例であり、第3図に示した従来
例と同一の構成部分には同一の符号を付しである。
第1図に示す超純水製造装置は、水道水1を原水とし、
有機物及び残留塩素を除去するための活性炭濾過装置2
と、水中の懸濁物を除去するための固形物濾過装置3で
プレコート濾過などの精密濾過を用いたものと、溶存す
るアルカリなどのイオン分を完全に除去する混床式イオ
ン交換樹脂装置4とを前段濾過装置群として備えている
。
有機物及び残留塩素を除去するための活性炭濾過装置2
と、水中の懸濁物を除去するための固形物濾過装置3で
プレコート濾過などの精密濾過を用いたものと、溶存す
るアルカリなどのイオン分を完全に除去する混床式イオ
ン交換樹脂装置4とを前段濾過装置群として備えている
。
有機物酸化袋g111は、過酸化水素12を処理水中に
注入する過酸化水素混和槽13と、この過酸化水素混和
水に対して紫外線を照射する紫外線反応装置14と、水
中の残留過酸化水素を分解するための残留過酸化水素分
解装置15とで構成されている。
注入する過酸化水素混和槽13と、この過酸化水素混和
水に対して紫外線を照射する紫外線反応装置14と、水
中の残留過酸化水素を分解するための残留過酸化水素分
解装置15とで構成されている。
この有機物酸化装置11の下流側には、水中の炭酸ガス
等を除去する脱気装置5と、貯槽6と、この貯4i’V
6の水を汲上げて加圧するポンプ7と、鉄、ニッケル、
マンガン、クロムなどの重金属イオンを除去するために
無機イオン交換材を充填した無機イオン交換装置16と
、水中の懸濁物を除去するために無機膜をエレメントと
する無機膜濾過装置17とを後段濾過装置群として備え
ている。
等を除去する脱気装置5と、貯槽6と、この貯4i’V
6の水を汲上げて加圧するポンプ7と、鉄、ニッケル、
マンガン、クロムなどの重金属イオンを除去するために
無機イオン交換材を充填した無機イオン交換装置16と
、水中の懸濁物を除去するために無機膜をエレメントと
する無機膜濾過装置17とを後段濾過装置群として備え
ている。
上記の構成の超純水製造装置の動作について、次に説明
する。
する。
原水として水道水1を活性炭濾過装置2に導入して有機
物及び残留塩素を除去し、次にプレコート濾過などの精
密濾過を用いた固形物r過装置3に導入して水中の懸濁
物を除去する。
物及び残留塩素を除去し、次にプレコート濾過などの精
密濾過を用いた固形物r過装置3に導入して水中の懸濁
物を除去する。
次いで、温床式イオン交換vIJ脂装置4へ通水して溶
存するアルカリなどのイオン分を完全に除去する。
存するアルカリなどのイオン分を完全に除去する。
しかる後、有機物酸化装置11の過酸化水素混和槽13
に処理水を導入する。この過酸化水素混和槽13には過
酸化水素12が残留有機物を十分酸化できる量だけ注入
されており、ここで処理水が過酸化水素と混和される。
に処理水を導入する。この過酸化水素混和槽13には過
酸化水素12が残留有機物を十分酸化できる量だけ注入
されており、ここで処理水が過酸化水素と混和される。
そして、この過酸化水素と混和された処理水は紫外線反
応装置14に導入され、残留有機物(C,H,O)を紫
外線(UV)で励起して過酸化水素(H2O,t)で完
全に酸化分解する。
応装置14に導入され、残留有機物(C,H,O)を紫
外線(UV)で励起して過酸化水素(H2O,t)で完
全に酸化分解する。
つまり、
煽宿樗麹(C,H,O) +H202
U■
−CO2+H20
の化学反応により残留有機物を分解するのである。
こうして残留有機物の分解された処理水は、次に未反応
の過酸化水素を分解するために、銀触媒等を充填した残
留過酸化水素分解装置15に導入され、過酸化水素を完
全に分解、除去する。
の過酸化水素を分解するために、銀触媒等を充填した残
留過酸化水素分解装置15に導入され、過酸化水素を完
全に分解、除去する。
つまり、
銀触媒
2)i20t−一一一一中2H20十02の化学反応に
基づいて残留過酸化水素が分解されるのである。
基づいて残留過酸化水素が分解されるのである。
次いで、処理水は脱気4ff5に導入され、炭酸ガス等
を除去し、貯槽6に貯えられる。
を除去し、貯槽6に貯えられる。
そして、この貯槽6から貯留水がポンプ7により加圧さ
れ、無機イオン交換装置16に導かれ、紫外線反応装置
14や残留過酸化水素分解装置15などの金属材料から
溶出した重金属イオン(鉄、ニッケル、マンガン、クロ
ムなどのイオン分)が無機イオン交換材により完全に吸
着、除去されるさらに、この後、処理水は無機膜をエレ
メントとする無11WA濾過装置17に導入され、無機
物の懸濁物あるいは二10イド分が除去される。
れ、無機イオン交換装置16に導かれ、紫外線反応装置
14や残留過酸化水素分解装置15などの金属材料から
溶出した重金属イオン(鉄、ニッケル、マンガン、クロ
ムなどのイオン分)が無機イオン交換材により完全に吸
着、除去されるさらに、この後、処理水は無機膜をエレ
メントとする無11WA濾過装置17に導入され、無機
物の懸濁物あるいは二10イド分が除去される。
こうして無機膜濾過波!17を出た処理水は有機物を含
まず、高度に浄化された有機物不合超純水18として半
導体デバイス用洗浄水として利用されることになる。
まず、高度に浄化された有機物不合超純水18として半
導体デバイス用洗浄水として利用されることになる。
このようにして、この実施例の場合、有機物酸化装置1
1として過酸化水素添加後、紫外線照射装置14により
残留有機物を分解除去し、この後の工程には有機物の溶
出が生じない機器構成を採ることにより有機物を完全に
除去した超純水を製造することができるのである。
1として過酸化水素添加後、紫外線照射装置14により
残留有機物を分解除去し、この後の工程には有機物の溶
出が生じない機器構成を採ることにより有機物を完全に
除去した超純水を製造することができるのである。
第2図は有機物酸化装置11として湿式酸化装置を用い
た超純水製造装置の実施例であり、活性炭濾過装置2か
ら温床式イオン交換樹脂装置4までの部分の構成と、脱
気装置5から無機膜濾過装置17までの部分の構成は第
1図に示した実施例と同一の構成をとっている。
た超純水製造装置の実施例であり、活性炭濾過装置2か
ら温床式イオン交換樹脂装置4までの部分の構成と、脱
気装置5から無機膜濾過装置17までの部分の構成は第
1図に示した実施例と同一の構成をとっている。
この実施例の特徴は有機物酸化装置11の構成にあり、
この有機物酸化装置11は、ブロア19、このブロア1
9からのエアーによりバブリングするバブリング貯槽2
0、高圧ボン121、熱交換器22、燃料23の燃焼に
より加熱する加熱装置24、湿式酸化装置25、冷却水
26により冷却するクーラー27から構成されている。
この有機物酸化装置11は、ブロア19、このブロア1
9からのエアーによりバブリングするバブリング貯槽2
0、高圧ボン121、熱交換器22、燃料23の燃焼に
より加熱する加熱装置24、湿式酸化装置25、冷却水
26により冷却するクーラー27から構成されている。
したがってこの実施例の超純水製造装置では、原水であ
る水道水1を活性炭濾過装置2に導入して残留塩素や有
機物を除去し、固形物r過装置3で懸濁物を除去し、さ
らに温床式イオン交換樹脂装fff4で溶存アルカリイ
オンなどのイオン分を除去する。
る水道水1を活性炭濾過装置2に導入して残留塩素や有
機物を除去し、固形物r過装置3で懸濁物を除去し、さ
らに温床式イオン交換樹脂装fff4で溶存アルカリイ
オンなどのイオン分を除去する。
この後、ブロア19によりエアーが連続的に注入されて
いるバブリング貯槽20に処理水を導入し、ここで溶存
酸素が飽和するまでバブリングし、貯留する。
いるバブリング貯槽20に処理水を導入し、ここで溶存
酸素が飽和するまでバブリングし、貯留する。
こうして溶存酸素の飽和した処理水は、高圧ポンプ21
により加圧して熱交換器22へ導入され、十分に昇温さ
せな後にさらに加熱袋r!!、24により湿式酸化反応
が生ずる温度(150〜300℃)まで昇温させ、湿式
酸化装置25に導入する。
により加圧して熱交換器22へ導入され、十分に昇温さ
せな後にさらに加熱袋r!!、24により湿式酸化反応
が生ずる温度(150〜300℃)まで昇温させ、湿式
酸化装置25に導入する。
湿式酸化装置25では、その内部において原水中の、さ
らにはイオン交換樹脂などがら溶出した残留有機物(C
,H,O)を水中の溶存酸素(02)により高温高圧下
で完全に湿式酸化分解させる。
らにはイオン交換樹脂などがら溶出した残留有機物(C
,H,O)を水中の溶存酸素(02)により高温高圧下
で完全に湿式酸化分解させる。
残留有機物(C,H,O)+02
高温高圧
CO□+H,0
こうして湿式酸化装置25を出た高温高圧の湿式酸化処
理水は熱交換器へ導入され、ここで高圧ポンプ21から
の処理水と熱交換して高圧ポンプ21からの処理水を加
熱し、同時に湿式酸化処理水側は冷却され、続いてクー
ラー27に通されてさらに冷却されて常温になり、脱気
槽5に導かれる。
理水は熱交換器へ導入され、ここで高圧ポンプ21から
の処理水と熱交換して高圧ポンプ21からの処理水を加
熱し、同時に湿式酸化処理水側は冷却され、続いてクー
ラー27に通されてさらに冷却されて常温になり、脱気
槽5に導かれる。
脱気槽5では炭酸ガスのような溶存ガスが除去され、貯
4!6に貯留される。
4!6に貯留される。
この貯槽6に貯留された処理水は、その後ポンプ7で加
圧されて無機イオン交換装置16に導入され、湿式酸化
装置25、熱交換器22、加熱装置24などから溶出し
た重金属イオンが完全に吸着、除去される。
圧されて無機イオン交換装置16に導入され、湿式酸化
装置25、熱交換器22、加熱装置24などから溶出し
た重金属イオンが完全に吸着、除去される。
次に、この処理水が無IIWAr過装置t17に導入さ
れ、無機微粒固形物がさらに除去され、有機物不含の超
純水18が送り出されてくる。
れ、無機微粒固形物がさらに除去され、有機物不含の超
純水18が送り出されてくる。
このようにして、この実施例でも湿式酸化装置25によ
り処理水中の残留有機物を分解除去し、この後の工程に
は有機物が溶出しない機器構成を採り、無機イオン、無
機固形物を除去するようにして有機物不含の超純水を製
造することができるのである。
り処理水中の残留有機物を分解除去し、この後の工程に
は有機物が溶出しない機器構成を採り、無機イオン、無
機固形物を除去するようにして有機物不含の超純水を製
造することができるのである。
[発明の効果]
以上のようにこの発明によれば、処理水中の溶存有機物
を有機物酸化装置により分解除去し、この後の工程には
有機物の溶出しない機器を用いて処理水中の無機イオン
と無機微粒固形物を除去するようにしているため、従来
の装置では本来的に除去のできなかった溶存有機物を除
去することができ、有機物不含の超純水を得ることがで
きる。
を有機物酸化装置により分解除去し、この後の工程には
有機物の溶出しない機器を用いて処理水中の無機イオン
と無機微粒固形物を除去するようにしているため、従来
の装置では本来的に除去のできなかった溶存有機物を除
去することができ、有機物不含の超純水を得ることがで
きる。
第1図はこの発明の一実施例の系統図、第2図はこの発
明の他の実施例の系統図、第3図は従来例の系統図であ
る。 l・・・水道水 2・・・活性炭濾過装置3
・・・固形物濾過装置 4・・・温床式イオン交換樹脂装置 5・・・脱気装置 6・・・貯槽7・・・ポン
プ 11・・・有機物酸化装置12・・・過酸
化水素 13・・・過酸化水素混和槽 14・・・紫外線反応装置 15・・・残留過酸化水素分解装置 16・・・残留無機イオン交換装置 17・・・無II膜濾過装置 18・・・超純水19・
・・ブロア 20・・・バブリング貯槽21・
・・高圧ポンプ 22・・・熱交換器23・・・燃
料 24・・・加熱装置25・・・湿式酸化
装置 26・・・冷却水27・・・クーラー 代理人 弁理士 則 近 憲 佑
明の他の実施例の系統図、第3図は従来例の系統図であ
る。 l・・・水道水 2・・・活性炭濾過装置3
・・・固形物濾過装置 4・・・温床式イオン交換樹脂装置 5・・・脱気装置 6・・・貯槽7・・・ポン
プ 11・・・有機物酸化装置12・・・過酸
化水素 13・・・過酸化水素混和槽 14・・・紫外線反応装置 15・・・残留過酸化水素分解装置 16・・・残留無機イオン交換装置 17・・・無II膜濾過装置 18・・・超純水19・
・・ブロア 20・・・バブリング貯槽21・
・・高圧ポンプ 22・・・熱交換器23・・・燃
料 24・・・加熱装置25・・・湿式酸化
装置 26・・・冷却水27・・・クーラー 代理人 弁理士 則 近 憲 佑
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 水道水から有機物や残留塩素を除去する有機物濾過手段
と、水道水中の懸濁物を除去する固形物濾過手段と、水
道水中の溶存イオン成分を除去する混床式イオン交換樹
脂装置とを前段濾過装置群として配置し、 この前段濾過装置群の出側に水道水中から溶存有機物を
酸化除去する有機物酸化装置を配置し、この有機物酸化
装置の出側に脱気手段と、重金属イオンを除去するため
の無機イオン交換手段と、無機微粒固形物を除去するた
めの無機膜濾過手段とを後段濾過装置群として配置し、 これら後段濾過装置群を有機溶存物を溶出しない無機材
料の配管、機器、分離膜、部品等で構成して成る超純水
製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63167802A JPH0217994A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63167802A JPH0217994A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | 超純水製造装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0217994A true JPH0217994A (ja) | 1990-01-22 |
Family
ID=15856379
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63167802A Pending JPH0217994A (ja) | 1988-07-07 | 1988-07-07 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0217994A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03224674A (ja) * | 1990-01-30 | 1991-10-03 | Tengen:Kk | 純水製造装置 |
WO1994018127A1 (en) * | 1993-02-03 | 1994-08-18 | Kurita Water Industries Ltd. | Pure water manufacturing method |
WO1994023816A1 (en) * | 1993-04-14 | 1994-10-27 | Nippon Sanso Corporation | Dissolved oxygen reducing apparatus |
JP2003010849A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-14 | Kurita Water Ind Ltd | 二次純水製造装置 |
JP2006345602A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Toshiba Schneider Inverter Corp | インバータ装置 |
JP2007160231A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Japan Organo Co Ltd | 超純水システム |
CN100406393C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-07-30 | 奥加诺株式会社 | 超纯水制造系统及其运转方法 |
JP4552327B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2010-09-29 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
JP2012061443A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 純水または超純水の製造装置及び製造方法 |
-
1988
- 1988-07-07 JP JP63167802A patent/JPH0217994A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03224674A (ja) * | 1990-01-30 | 1991-10-03 | Tengen:Kk | 純水製造装置 |
WO1994018127A1 (en) * | 1993-02-03 | 1994-08-18 | Kurita Water Industries Ltd. | Pure water manufacturing method |
US5571419A (en) * | 1993-02-03 | 1996-11-05 | Kurita Water Insustries Ltd. | Method of producing pure water |
WO1994023816A1 (en) * | 1993-04-14 | 1994-10-27 | Nippon Sanso Corporation | Dissolved oxygen reducing apparatus |
US5766321A (en) * | 1993-04-14 | 1998-06-16 | Nippon Sanso Corporation | Apparatus for reducing dissolved oxygen |
JP4552327B2 (ja) * | 2001-01-18 | 2010-09-29 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置 |
JP2003010849A (ja) * | 2001-07-02 | 2003-01-14 | Kurita Water Ind Ltd | 二次純水製造装置 |
CN100406393C (zh) * | 2003-03-04 | 2008-07-30 | 奥加诺株式会社 | 超纯水制造系统及其运转方法 |
JP2006345602A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Toshiba Schneider Inverter Corp | インバータ装置 |
JP2007160231A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Japan Organo Co Ltd | 超純水システム |
JP2012061443A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Japan Organo Co Ltd | 純水または超純水の製造装置及び製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6464867B1 (en) | Apparatus for producing water containing dissolved ozone | |
US4595498A (en) | Water-polishing loop | |
US9156001B2 (en) | Method and apparatus for further purifying ultrapure water | |
JP5045099B2 (ja) | 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法 | |
US5156739A (en) | System for purifying and degasifying water by reverse osmosis | |
JPH0217994A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP3734207B2 (ja) | オゾン水製造方法 | |
JP2003192343A (ja) | 高純度硝酸バリウムの製造方法 | |
JP2002210494A (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH10216721A (ja) | 超純水製造装置 | |
JPH0648708A (ja) | 過酸化水素を製造するためのアントラキノン法の水素化循環路のパラジウムブラック含有作業溶液から触媒不含の作業溶液を分離する方法 | |
JPH09253638A (ja) | 超純水製造装置 | |
CN109775904A (zh) | 一种利用LED行业含As废水制备电子级超纯水的处理方法 | |
JP5842347B2 (ja) | 超純水製造用サブシステム | |
JP2001179252A (ja) | 酸化性物質低減純水製造方法及び装置 | |
JPH0929251A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2005246126A (ja) | 純水又は超純水の製造装置及び製造方法 | |
JP4826864B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
JP5135654B2 (ja) | 二次純水製造装置 | |
JP2008086854A (ja) | 純水製造装置 | |
JPH0813353B2 (ja) | 純水の製造装置 | |
JP2004154713A (ja) | 超純水製造装置 | |
JP2015231609A (ja) | 超純水製造方法 | |
JPH09220560A (ja) | 超純水製造装置 | |
Sternberg | Membrane utilization in hazardous metal removal from wastewater in the electronic industry |