TW200412455A - Method of forming a color filter having various thickenesses and a transflective LCD with the color filter - Google Patents
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Description
200412455 五、發明說明(l) ----- 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種半穿透式液晶顯示器及其製備方 法,且特別是有關於一種具有不同厚度的彩色濾光 穿透式液晶顯示器及其製備方法。 & 【先前技術】 反射式液晶顯示器(reflective iiquid crystal display,RLCD)可分為「全反射式」與「半穿透式」兩大 類。全反射式LCD不用背光源,利用附在LCD面板上的反射 板來反射外部光線,好處是極為省電,但是缺點是在較暗 的環境看不到顯示螢幕内容且對比度較差,因此一般會用 前光源作為辅助光源。而半穿透式LCD (trans fleet ive L C D)是當外部光線足夠時就用外部光源,不足時可點亮背 光源,是兼具省電以及具輔助光線的方式,因此是許多手 機、個人數位助理(PDA)以及手提電腦等攜帶式液晶顯示 裝置的優先選擇。 請參閱第1圖,第1圖係顯示習知半穿透式LCD結構之 一例的示意圖。 習知半穿透式LCD之結構,其結構包括有: 一下基底100,其上具有一絕緣層110; 一下電極120,位於該絕緣層1 1〇上,該下電極120具 有一反射區122與一穿透區124,其中該反射區122例如是 鋁層,而該穿透區124例如是銦錫氧化物(ITO)層; 一上基底1 6 0,其内側表面上具有一彩色濾光片1 5 0
0632-8321TWf(nl)ftf*;AU91054;JACKY.ptd 第6頁 200412455 五、發明說明(2) 上; 一上電極140,位於該彩色濾光片150上;以及 一液晶層130,設置於該上基底160與該下基底1〇〇之 然而,上述習知半穿透式LCD在反射模式(reflective mode)時’環境光(ambient light,即反射光)17〇透過彩 色濾光片150的次數是兩次。而在穿透模式(transmissive mode)時,背光(backlight,即穿透光)180透過彩色濾光 片1 50的次數是一次◦因此造成在反射模式與穿透模式下 的顯示顏色無法相同,亦即有色彩濃度(色飽和度,co 1 or pur ity)相差很大的問題,而降低半穿透式LCI)的顯示品質 (display-quality) ° 近來’業界提出一種具有不同厚度的彩色濾光片之半 穿透式LCD。以下利用第2A〜2C圖來說明上述半穿透式LCD 之彩色濾光片製造流程。 首先,請參閱第2A圖,先在一基底200上形成圖案化 的一透明光阻層210,該透明光阻層21〇係對應半穿透式 LCD 的反射區(refiective regi〇n)2〇i。 接著,請參閱第2B圖,形成圖案化的一紅色光阻層 220於部分基底2〇〇與部分透明光阻層21〇上。 接著’請參閱第2 C圖,依序形成圖案化的一綠色光阻 層230與一藍色光阻層240於部分基底2〇〇與部分透明光阻 層2 1 0上。如此,習知之具有不同厚度的彩色濾光片2 5 〇即
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光阻=〇’,由:習知製程中必須在基底200上先形成透明 =v:而需要增加-道光罩,而增加成本。並且 主佈在透明光阻層21〇上的該红 層23 0及藍色光阻層24 、、色先阻層220、、、、彔色光阻 易控制該紅色光阻ν2 Π表二亚不平坦,㈣習知製程不 24“6 Η^先層 綠色光阻層230及藍色光阻層 、、子.,因而不易完全解決色彩濃度(色飽和度, color purity)相差的問題。 【發明内容】 有鏗於此,本發明之一目的在於提供一種半穿透式 LCD,其特徵在於其具有不同厚度的彩色濾光片。 本發明之另一目的,在於提供一種具不同厚度的彩 色濾光片,主要應用於半穿透SLCD。 本發明之又另一目的,在於提供一種具有不同厚度的 彩色濾光片之製備方法。 身為達上述目的,本發明提供一種具有不同厚度彩色濾 光片之半穿透式液晶顯示裝置,其中第一基底與第二基底 對向设置,彩色濾光片位於第一基底上,且對應穿透區之 彩色濾光片具有第一厚度,對應反射區之彩色濾光片具有 第一厚度,第一厚度大於第二厚度。此外,液晶層夾設於 弟一基底與彩色滤光片之間。 上述之具有不同厚度彩色濾光片之半穿透式液晶顯示 裝置中,第一基底為下基底,且包含薄膜電晶體陣列,第
〇632-8321TWf(nl)倂案;AU91〇54;mCKY.ptd 第 8 頁 200412455 五、發明說明(4) 二基底為上基底。或者,第二基底為下基底,且包含一薄 膜電晶體陣列,第一基底為上基底。 其中’具有不同厚度彩色濾光片之製造方法,包括下 列步驟:(a)提供一基底,該基底具有一第一區與一第二 區;(b)形成一厚彩色光阻層於該基底上;以及(c )藉由微 影程序去除部份位在該第二區中的該厚彩色光阻層,而形 成一薄彩色光阻層於位在該第二區中的該基底上。 其中’該第一區係對應半穿透式液晶顯示器 (transflective LCD)之穿透區(transmissive region), 而A第一區係對應半穿透式液晶顯示器(七π n s ^ 1 e c ^丨v e LCD)之反射區(reflective 。 “還有,步驟(c)之去除部份位在該第二區中的該厚彩 ,光1Γ f的方法,係藉由利用光罩進行曝光和顯影而達 使用^ # I ί該厚彩色光阻層係由正型光阻劑所組成時, 於第二IS夕括對應於第一區之完全遮光圖案以及對應 '~ 〇σ 〇卩份透光圖案。當該厚彩色光阻層传由負型光 ^ ^ ^ 便用的光罩係包括對應於第一區之完全透 先圖案以及對應於第二區之部份透光圖案。[…透 為使本發明之上述目的 下文特舉較佳與^ 付傲和慢點能更明顯易懂 叮牛平乂 1土只施例,並配合 下: σ所附圖式,作詳細說明如 【實施方式】
200412455 五、發明說明(5) 之具有不同厚度之彩色濾光片的製程,其中,本發明所揭 示之液晶顯示器所使用之其他元件係與習知相同,不再此 贅述。這裡要特別說明的是,為了簡單明瞭地顯示本發明 之特徵’第3A〜3C圖係顯示對應任一晝素(pixe 1 )的彩色濾 光片製程剖面圖。並且,每一晝素之間的可以形成有黑色 矩陣(black matrix)圖案,但在此省略其圖示。 首先’請參閱第3A圖,提供一基底3〇〇,該基底3〇〇具 有一第一區301與一第二區302。其中,該基底300例如是 玻璃基板。還有,第一區3〇1係對應半穿透sLCI)裝置之穿 透區(transmissive region),而第二區3 0 2係對應半穿透 式 LCD 裝置之反射區(refiective region)。 其久’仍睛參閱第3A圖’塗佈一厚彩色光阻(color re si st)層310於基底300上。其中該厚彩色光阻層310的顏 色例如是紅色、綠色或藍色。 其次’清參閱第3 B圖,去除部份位在第二區3 〇 2中的 厚彩色光阻層310,而形成一薄彩色光阻層32〇於位在第二 區302中的基底3 0 0上。在此,舉2個例子說明形成第3B圖 之方法,但並非限定本發明。 第1例 當厚彩色光阻層3 1 0係由正型光阻劑(p 0 s丨t丨v e photoresist)所組成時,則去除部份位在第二區3〇2中的 厚彩色光阻層3 1 0的方法,如下述步驟。 3月參閱弟4圖,進行利用一曝光源(eXp〇sure light,
0632-83217Wf(nl)fff^;AU91054;JACKY.ptd 第 10 頁 200412455 五、發明說明(6) 未圖示)與一光罩(reticle 〇r ph〇t〇mask)41〇的一微影程 序(photolithography procedure),對厚彩色光阻層310 進行微影而去除部份位在第二區3 〇 2中的厚彩色光阻層 310,藉以在該第二區3〇2中的該基底3〇〇上形成薄彩色光 阻層320。其中,該光罩41〇包括··對應第一區3(Π的一第 一圖案420 (即完全遮光圖案),以及對應第二區302的一 第二圖案430 (即部份透光圖案)。其中第一圖案420係用 以遮蔽該第一區301,以避免曝光源照射至第一區3〇1的厚 彩色光阻層310。第二圖案430係用以降低穿透該第二區 302的曝光強度’亦即該光罩4丨〇之第二圖案可使曝光 解析度降低,最低可使解析度降為丨/2左右。 由於第二圖案4 3 0需具有降低曝光強度的效果,可利 用一半調圖案(ha If-tone pattern)加以達成。舉一範 例,此第二圖案43 0可由以適當間隙(s丨丨t)丨〇 5 〇相隔開之 複數個微圖案1 0 60所構成,微圖案1〇6〇可為透光圖案或不 透光圖案,但是當微圖案1〇6〇為透光圖案時,圖中用以分 隔各微圖案1 0 6 0的間隙1〇50就必須為非透光。反之,當微 圖案ίο⑽為非透光圖案時,間隙1〇5〇就必須為透光,如第 4圖所不。藉由控制上述微圖案丨〇 6 〇及/或間隙1 〇 π的尺 =,使光線被部份阻礙而無法完全透過,就能在進行微影 步驟日守降低透光強度而令厚彩色光阻層31〇不會完全被顯 影掉,㈣於顯影完後仍殘留有_定厚度的彩色光阻層 (即薄彩色光阻層320 )。至於微圖案1〇6〇之形狀設計並未 特別限定,可為任何形狀,例如:矩形、圓形、方形、長
200412455 五、發明說明(7) 方形、/菱形或三角形等等,或是該微圖案1〇6〇整體係為, 長條形。另外,薄彩色光阻層3 2 〇的膜厚,則可藉由控制 上述微圖案1 0 6 〇及/或間隙1 0 5 0的尺寸來進行調整。 第2例 ϊ尽彩色光阻層3 1 〇係由負型光阻劑(n e g a t i v e photoresist)所組成時,則去除部份位在第二區3〇2中的 厚彩色光阻層3 1 〇的方法,如下述步驟。 請參閱第5圖,進行利用一曝光源(未圖示)與一光罩 5 1 0的一微影程序,對厚彩色光阻層3丨〇進行微影而去除部 份位在第二區3 0 2中的厚彩色光阻層3 1 〇,因而形成薄彩色 光阻層320於位在該第二區302中的該基底3〇〇上。其中, 該光罩5 1 0包括:對應第一區3 〇 1的一第一圖案5 2〇 (即透 光圖案),以及對應第二區3〇2的一第二圖案5 3 0 (即部份 透光圖案)。其中第一圖案5 2 〇係用以使該第一區3 〇 1之厚 彩色光阻層310完全曝光。第二圖案5 30係用以降低穿透該 第二區302的曝光強度,亦即該光罩5 1〇之第二圖案53〇可 使曝光解析度降低,最低可使解析度降為丨/ 2左右。 由於第一圖案5 3 0需具有降低曝光強度的效果,可利 用一半調圖案(half-tone pattern)加以達成。舉一範 例,此第二圖案5 3 0可由以適當間隙(s 1丨t)丨〇 7 〇相隔開之 複數個微圖案1080所構成,微圖案logo可為透光圖案或不 透光圖案,但是當微圖案1080為透光圖案時,圖中用以分 隔各微圖案1 0 8 0的間隙1 〇 7 〇就必須為非透光,如第5圖所
0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;】ACKY.ptd 第12頁 200412455 五、發明說明(8) ------- 不、。反之,當微圖案1080為非透光圖案時,間隙1 0 7 0就必 須為透光。藉由控制上述微圖案1〇8〇及/或間隙1〇7〇的尺 寸,使光線被部份阻礙而無法完全透過,就能在進 步驟時降低透光強度而令厚彩色光阻層31〇不會完全 影掉—,〜亦即於顯影完後仍殘留有一定厚度的彩色光阻層…、 (即薄衫色光阻層32 0 )。至於微圖案1 080之形狀設計並 特別限^ ]可為任何形狀,例如:矩形、圓形、方形、長 方形、曼形或三角形等等,或是該微圖案丨〇 8 〇整體係為一 長條形。另外,薄彩色光阻層32〇的膜厚,則可藉由控制 上述微圖案1 08 0及/或間隙1 0 7 0的尺寸來進行調整。 另外這裡要說明的是,上述厚彩色光阻層31〇所使用 的正型光阻劑或負型光阻劑,兩者均屬於感光性樹脂或高 分子材料。正型光阻劑是光阻本身難溶於顯影劑,但經曝 光後,會解離成一種溶於顯影液的結構;負型光阻劑是光 阻經曝光後會產生鏈結,使曝光後的光阻結構不溶於顯影 劑。只要是一般市售之彩色”正型光阻”或”負型光阻π皆適 用於本案製程中而能達成本案之功效。 之後,請參閱第3C圖,為了利於將來要進行後續製 程’可於該厚彩色光阻層31 〇與該薄彩色光阻層32〇上形成 一具有高穿透率(或稱高透明度)的平坦層(transparent planarization layer,或稱〇verc〇at)33〇。其中,該平 坦層3 3 0係由有機絕緣材料或無機絕緣材料所組成,有機 絕緣材料例如是苯并環丁烯(BCB)、丙烯酸樹脂(acryl resin)等等,而無機絕緣材料例如是Si〇2、等等。如
200412455 五、發明說明(9) --- 此’即完成了本發明的具有不同厚度的彩色濾光片。 這裡要特別提醒的是,本發明僅使用一道微影步驟以 及一個光罩(4 1 〇 / 5 1 〇 )來形成具有不同厚度之彩色據光 片’因此可以降低製造成本。更者,由於本發明的彩色濾 光片是形成於平坦的基底3 〇 〇上,因而可以容易地控 /一 色濾光片的厚度。 I 衫 再來’請參閱第6圖,用以說明本發明的具有不同厚 度的彩色濾光片,應用於一半穿透式LCD裝置的結構示^ 圖。在此為了不混淆本案之特徵,故不予詳述半穿。 LCD裝置的製程。 % 一種具有不同厚度的彩色濾光片的半穿透式LCD裝置 690,包括下述組成: 又 一下基底6 0 0,其上具有一絕緣層61〇,且該下基底 6 0 0可以包含有薄膜電晶體陣列(未圖示)。 一 下電極(或稱反射電極,refiective electr〇de) 6 2 0,位於該絕緣層61〇上,該下電極62〇具有 反射區6 2 2與穿透區6 2 4,其中該反射區6 2 2例如是鋁層, 而該穿透區624例如是銦錫氧化物(IT〇)層或銦鋅氧化物 (ΙΖΟ)層。 一上基底6 60 ’其相對應於該下基底6〇〇之一表面上具 有一彩色濾光片650,其中該彩色濾光片65〇具有第一厚度 區651與_第二厚度區6 52,其中,於本發明之一較佳實施例 中’該第一#厚度區651係為厚度較厚的區域且對應該穿透 區6 24,而第二厚度區6 52係為厚度較薄的區域且對應該反
0632-8321TWf(nl)iif^;AU91054;JACKY.ptd 第14頁 200412455 五、發明說明(ίο) 射區622。 一平坦層(或稱覆蓋層,overcoat)645,位於該彩色滤 光片650上而相對應於該上基底,該平坦層為一高 穿透率之材質所形成,其材質例如是5 i 〇2、s i Νχ等等。 一上電極(或稱共通電極,common electrode)640,位 於該透明的平坦層6 4 5上而相對應於該彩色濾光片β 5 〇,該 上電極640例如是ΙΤ0或ΙΖ0層。 一液晶層63 0,係夾於該上基底6 6 0與該下基底6 〇 〇之 間。 因此,上述半穿透式LCD裝置6 90在反射模式 (reflective mode)時’因為環境光(ambient light,即 反射光)670透過彩色濾光片650的第二厚度區652之次數是 兩次。而在穿透模式(transmissivemode)時,背光 (backlight,即穿透光)680透過彩色濾光片6 5 0的第一厚 度區651之次數是一次。由於第一厚度區651比第二厚度區 6 5 2的厚度厚,所以使得在反射模式與穿透模式下的顯示 顏色相近,亦即解決習知色彩濃度(色飽和度,c〇1〇r purity)相差很大的問題,而能提升顧示品質 (display-quality) 〇 再請參閱第7圖,用以說明本發明的具有不同厚度的 彩色濾光片’應用於另一型的半穿透式LCD裝置的結構示 意圖。第7圖所示之半穿透式LCD裝置係採用⑶A(c〇1〇r filter on array)之技術,其能增進上下基板的對準度。 在此為了不混淆本案之特徵,故不予詳述上述半穿透式 0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;JACKY.ptd 第15頁 200412455 五、發明說明(11) LCD裝置的製程。 一種具有不同厚度的彩色濾光片的半穿透式LCD裝置 7 9 0 ’包括下述組成·· 一下基底7〇〇,其上具有一絕緣層71〇,且該下基底 6 0 0可以包含有薄膜電晶體陣列(未圖示)。 一下電極(或稱反射電極,reflective electrode) 720 ’位於該絕緣層72 0上,該下電極720具有反射區722與 牙透區724 ’其中該反射區722例如是紹層,而該穿透區 724例如是銦錫氧化物(IT0)層或銦辞氧化物(IZ0)層。 經由本發明方法製造之具有不同厚度的一彩色濾光片 730 ’形成於該下電極72〇上。其中該彩色濾光片73〇具有 第一厚度區731與第二厚度區732,其中,該第一厚度區 731係為厚度較厚的區域且對應該穿透區724,而第二厚度 區7 3 2係為厚度較薄的區域且對應該反射區7 2 2。 一平坦層(或稱覆蓋層,overcoat) 740,位於該彩色濾 光片730上’該平坦層74〇為一高穿透率之材質所形成,其 材質例如是S i 02、S i Nx等等。 一上基底760,其相對應於該下基底7〇〇。 上電極(或稱共通電極,c〇mm〇ri electrode)750,位 於该上基底76 0上,該上電極75〇例如是丨^或丨加層。 一液晶層75 5,係夾於該上基底76 0與該下基底70 0之 間。 ^因此’上述半穿透式LCD裝置7 90在反射模式時,因為 %境光(即反射光)7 7 0透過彩色濾光片7 3 〇的第二厚度區
0632-8321TWf(nlXif^;AU91054;JACKY.ptd 第16頁 即穿透光)780 是一次。由於 所以使得在反 解決習知色彩 顯示品質。 形成具有不同 ’但是該具有 穿透率的光罩 區及一半穿透 不同的區域。 的解析度或穿透 除,而形成一具 光片應用於半穿 度的彩色濾光片 穿透式LCD裝f 更者,比較於 成於平坦的基底 各區的膜厚,因 or purity)柏差 200412455 五、發明說明(12) 7 3 2之次數是兩次。而在穿透模式時,背光( 透過彩色濾光片730的第一厚度區731之次數 第一厚度區731比第二厚度區732的厚度厚, 射模式與穿透模式下的顯示顏色相近,亦即 濃度(色飽和度)相差很大的問題,而能提升 以上僅舉一利用一具有半調圖案的光罩 厚度之半穿透式LCD裝置之彩色濾光片為例 不同厚度之彩色濾光片亦可利用一具有不同 加以達成,例如於一光罩中同時具有一穿透 區’使光阻的曝光程度不同,而使光阻形成 【本發明之特徵與優點】 本發明之特徵在於··利用光罩上不同 率,使相對應反射區之彩色濾光片部分移 有不同厚度之彩色濾、光片,並將該彩色濾 透式LCD裝置。 如此,經由本發明,使得具有不同厚 能夠以-道光罩來形成,不僅可以提升半 之顯不品質’亦能達成降低成本之目的。 !知:法二:於本發明的彩色濾光片是形 容易地控制彩色渡光片中 色彩濃度(色飽和度,c〇1 0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;JACKY.ptd 第17頁 200412455
0632-8321TWf(nlM并案;AU91054;JACKY.ptd
第18頁 200412455 圖式簡卓說明 第1圖係顯示習知半穿透式LCD結構之一例的示意圖; 第2A〜2C圖係顯示習知具有不同厚度之彩色濾光片的 製程剖面圖; 第3A〜3C圖係顯示本發明之具有不同厚度之彩色濾光 片的製程剖面圖; 第4圖係顯示當彩色光阻係正型光阻時,本發明所採 用之光罩的上視不意圖, 第5圖當彩色光阻係負型光阻時,本發明所採用之光 罩的上視示意圖; 第6圖係顯示本發明的具有不同厚度的彩色濾光片, 應用於一半穿透式LCD裝置的結構示意圖; 第7圖係顯示本發明的具有不同厚度的彩色濾光片, 應用於另一型半穿透式LCD裝置的結構示意圖。
明圖一 說 號 符分 示部 圖知 [S 第 第 圖 1 00〜下基底; 1 1 0〜絕緣層; 1 2 0〜下電極; 1 2 2〜反射區; 124〜穿透區; 1 3 0〜液晶層; 1 4 0〜上電極; 1 5 0〜彩色濾光片;
0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;JACKY.ptd 第19頁 200412455 圖式簡單說明 1 6 0〜上基底; 1 7 0〜外部光(即反射光); 1 8 0〜背光(即穿透光); 2 0 0〜基底; 2 0 1〜反射區; 2 1 0〜透明光阻層; 220〜紅色光阻層; 230〜綠色光阻層; 240〜藍色光阻層;
2 5 0〜習知之具有不同厚度的彩色濾光片。 本案部分(第3A〜3C圖、第4圖、第5圖、第6圖、第7圖) 3 0 0〜基底; 301〜穿透區; 3 0 2〜反射區; 310〜厚彩色光阻層; 3 2 0〜薄彩色光阻層; 3 3 0〜透明的平坦層;
410、510〜光罩; 420、5 2 0〜第一圖案; 430、5 3 0〜第二圖案; 1050 、 1070〜間隙(slit); 1 0 6 0、1 0 8 0〜微圖案; 6 0 0、70 0〜下基底;
0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;JACKY.ptd 第20頁 200412455 圖式簡單說明 6 1 0、7 1 0〜絕緣層; 620、720〜下電極; 622、722〜反射區; 624、724〜穿透區; 6 3 0、7 5 5〜液晶層; 640、750〜上電極; 645、740〜平坦層; 6 5 0、73 0〜彩色濾光片; 651 、731〜厚區;
6 52、732〜薄區; 6 60、76 0〜上基底; 6 70、770〜環境光(即反射光); 6 80、78 0〜背光(即穿透光); 6 90、7 9 0〜半穿透式LCD裝置。
0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;JACKY.ptd 第21頁
Claims (1)
- 200412455六、申請專利範圍 i .一種異有不同厚度彩色濾光片之半穿透式液晶顯示 裝置,具有/穿透區與一反射區’該半穿透式液晶顯示裝 置包括·· 一第一基底與一對向之一第二基底; 一彩色濾、光片’值於該第一基底上’其中對應該穿透 區之該彩色濾光片具有一第一厚度,對應該反射區之該彩 色濾、光片具有/第一厚度’該第一厚度大於該第二厚度; 以及 一液晶層’夾於該第二基底與該彩色濾光片之間。2.如申請專利範圍第1項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之半穿透式液晶顯示裝置,其中該第一基底包含一薄 膜電晶體陣列° 3 ·如申請專利範圍第1項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之半穿透式液晶顯示裝置,其中該第二基底包含一薄 膜電晶體陣列° 4 ·如申請專利範圍第1項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之半穿透式液晶顯示裝置,更包括一平坦層設於該彩 色濾光片和該液晶層之間。5· —種具有不同厚度彩色濾光片之半穿透式液晶顯示 裝置,包括: 一下基底,其上具有一絕緣層; 一下電極’开》成於該絕緣層上,該下電極具有一反射 區與一穿透區, 一上基底,對向於該下基底;0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;JACKY.ptd 第22頁 200412455 六、申請專利範圍 '- 彩色濾、光片’設置於該上基底之一表面,其中号Γ〜 色濾光片具有一第一厚度區與一第二厚度區,其中該第2 厚度,的厚度大於該第二厚度區’而且該第一厚度區係; 應該穿透區,而第二厚度區係對應該反射區; 、 一上電極’形成於該彩色濾、光片上且對向於咳下 底;以及 、以泰 一液晶層,夾於該上基底與該下基底之間。 ^ 6·如申請專利範圍第5項所述之具有不同厚度彩色淚 光片之半穿透式液晶顯示裝置,更包括一平坦層設置於二 采7色丨慮光片和該液晶層之間。 = 7· —種具有不同厚度彩色濾、光片之半穿透式液晶顯 裝置,包括: 一下基底’其上具有一絕緣層; 一下電極,形成於該絕緣層上,該下電極具有一反射 區與一穿透區; 一彩色濾光片’形成於該下電極上,其中該彩色濾光 片具有一第一厚度區與一第二厚度區,其中該第一厚度區 的厚度大於該第一厚度區,而且該第一厚度區係對應該穿 透區,而第二厚度區係對應該反射區; 一上基底,對向於該下基底; 一上電極,形成於該上基底上,且對向於該下基板; 以及 一液晶層,夾於該上電極與該彩色濾光片之間。 8 ·如申請專利範圍第7項所述之具有不同厚度彩色濾、〇632-8321TWf(nl)ffS;AU91054;JACKY.ptd 第23頁 200412455 六、申請專利範圍 光片之半穿透式液晶顯示裝置,更包括一平坦層設置於該 彩色濾光片和該液晶層之間。 9_ 一種具有不同厚度彩色濾光片之製造方法,包括下 列步驟: (a) 提供一基底,該基底具有一第一區與一第二區; (b) 形成一厚彩色光阻層於該基底上;以及 (c) 進行利用一光罩的一微影程序,用以對該厚彩色 光阻層進行微影而去除部份位在該第二區中的該厚彩色光 阻層’因而形成一薄彩色光阻層於位在該第二區中的該基 底上。 I 0 ·如申請專利範圍第9項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之製造方法,其中該光罩上對應於該第二區的圖案係 一半調圖案。 II ·如申凊專利範圍第9項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之製造方法,其中該光罩上對應於該第二區的圖案包 含複數個微圖案。 ' 1 2.如申請專利範圍第9項所述之具有不同厚度彩色渡 光片之製造方法,其中該第一區係對應一半穿透式液晶顯 不器之穿透區,而該第二區係對應該半穿透式液晶顯示哭 之反射區。. ^ ^ 1 3 ·如申請專利範圍第9項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之製造方法,其中該厚彩色光阻層係為正塑光阻劑, ,光罩包括對應該第一區之_完全遮光圖案、以及對應該 第二區之一部份透光圖案。0632-8321TWf(nl)fii^;AU91054;JACKY.ptd 第24頁 200412455 六、申請專利範圍 1 4.如申請專利範圍第9項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之製造方法,其中該厚彩色光阻層係為負型光阻劑, 該光罩包括對應該第一區之一完全透光圖案、以及對應該 第二區之一部份透光圖案。 1 5.如申請專利範圍第9項所述之具有不同厚度彩色濾 光片之製造方法,更包括形成一平坦層覆蓋於該厚彩色光 阻層與該薄彩色光阻層上。0632-8321TWf(nl)倂案;AU91054;JACKY.ptd 第25頁
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