JP4561552B2 - 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び、電子機器 - Google Patents
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Description
前記行方向及び列方向の各々で隣接する前記サブ画素間の前記光反射領域は互いに隣接して形成する工程と、 一方の前記基板にカラーフィルタを形成する工程と、
前記カラーフィルタ上に、前記透過表示領域及び前記反射表示領域に前記透明絶縁膜形成する工程と、
前記透過表示領域に設けられた前記透明絶縁膜に、前記反射表示領域に設けられた前記透明絶縁膜よりも膜厚が薄い薄肉部を形成する工程と、
前記反射表示領域の前記行方向に隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域には、3つの前記サブ画素を周期とした前記薄肉部を形成する工程と、
前記一方の基板の内面上に未硬化の配向材が配置される工程と、
を具備することを特徴とする。
Claims (13)
- 一対の基板及び当該一対の基板間に挟持されてなる液晶を有し、行方向及び列方向に配列されたサブ画素を備えるとともに、当該サブ画素は透過表示領域及び反射表示領域を備える液晶装置であって、
前記行方向及び列方向の各々で隣接する前記サブ画素間の前記光反射領域は互いに隣接して配置されており、
一方の前記基板は、カラーフィルタ及び当該カラーフィルタ上に配置された透明絶縁膜を有し、
前記透明絶縁膜は、前記透過表示領域及び前記反射表示領域に設けられ、
前記透過表示領域に設けられた前記透明絶縁膜は、前記反射表示領域に設けられた前記透明絶縁膜よりも膜厚が薄い薄肉部を有し、
前記反射表示領域の前記行方向に隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域には、3つの前記サブ画素を周期とした前記薄肉部を備え、
前記液晶は、反射表示領域を反映して、前記透過表示領域における層厚より前記反射表示領域における層厚の方が薄いことを特徴とする液晶装置。 - 前記透過表示領域は、前記画素内において島状に設けられてなり、周囲を前記反射表示領域に囲まれてなることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 一対の基板及び当該一対の基板間に挟持されてなる液晶を有し、行方向及び列方向に配列されたサブ画素を備えるとともに、当該サブ画素は透過表示領域及び反射表示領域を備える液晶装置であって、
前記行方向及び列方向の各々で隣接する前記サブ画素間の前記光反射領域は互いに隣接して配置されており、
一方の前記基板は、カラーフィルタ及び当該カラーフィルタ上に配置された透明絶縁膜と、を有し、
前記透明絶縁膜は、前記透過表示領域及び前記反射表示領域に設けられ、
前記透過表示領域に設けられた前記透明絶縁膜は、前記反射表示領域に設けられた前記透明絶縁膜よりも膜厚が薄い薄肉部を有し、
前記反射表示領域の前記行方向に隣接する前記サブ画素の境界、及び前記反射表示領域の前記列方向に隣接する前記サブ画素の境界に沿って前記薄肉部が設けられ、
前記反射表示領域の前記行方向に隣接する前記サブ画素の境に設けられた前記薄肉部は、3つの前記サブ画素を周期として設けられ、
前記液晶は、前記薄肉部を反映して、前記透過表示領域における層厚より前記反射表示領域における層厚の方が薄くなっていることを特徴とする液晶装置。 - 前記サブ画素の境界に沿う領域に設けられた薄肉部は、前記透明絶縁膜の膜厚の30%以上90%以下の深さの表面溝を形成することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記透明絶縁膜は少なくとも2層構造とされ、前記サブ画素の境界に沿う領域に設けられた薄肉部は少なくとも最下層を残すことにより形成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域に設けられた薄肉部は前記透過表示領域に開口していることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記隣接するサブ画素の境界に沿う領域に設けられた薄肉部の幅が10〜19μmの範囲内であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記複数色の着色層のそれぞれ一つを配置した複数の前記サブ画素が含まれる画素が前記有効駆動領域内に周期的に配列され、前記隣接するサブ画素の境界に沿う領域に設けられた薄肉部は前記画素の配列周期に対応して周期的に形成されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の液晶装置。
- 前記隣接するサブ画素の境界に沿う領域に設けられた薄肉部が青色のカラーフィルタと赤色のカラーフィルタとの間に設けられていることを特徴とする請求項8に記載の液晶装置。
- 一対の基板及び当該一対の基板間に挟持されてなる液晶を有し、行方向及び列方向に配列されたサブ画素を備えるとともに、当該サブ画素は透過表示領域及び反射表示領域を備える液晶装置の製造方法において、
前記行方向及び列方向の各々で隣接する前記サブ画素間の前記光反射領域を互いに隣接して形成する工程と、
一方の前記基板にカラーフィルタを形成する工程と、
前記カラーフィルタ上に、前記透過表示領域及び前記反射表示領域に前記透明絶縁膜形成する工程と、
前記透過表示領域に設けられた前記透明絶縁膜に、前記反射表示領域に設けられた前記透明絶縁膜よりも膜厚が薄い薄肉部を形成する工程と、
前記反射表示領域の前記行方向に隣接する前記サブ画素の境界に沿う領域に、3つの前記サブ画素を周期とした前記薄肉部を形成する工程と、
前記一方の基板の内面上に未硬化の配向材が配置される工程と、
を具備することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 一対の基板及び当該一対の基板間に挟持されてなる液晶を有し、行方向及び列方向に配列されたサブ画素を備えるとともに、当該サブ画素は透過表示領域及び反射表示領域を備える液晶装置の製造方法において、
前記行方向及び列方向の各々で隣接する前記サブ画素間の前記光反射領域を互いに隣接して形成する工程と、
一方の前記基板にカラーフィルタを形成する工程と、
前記カラーフィルタ上に、前記透過表示領域及び前記反射表示領域に前記透明絶縁膜形成する工程と、
前記透過表示領域に設けられた前記透明絶縁膜に、前記反射表示領域に設けられた前記透明絶縁膜よりも膜厚が薄い薄肉部を形成する工程と、
前記反射表示領域の前記行方向に隣接する前記サブ画素の境界、及び前記反射表示領域の前記列方向に隣接する前記サブ画素の境界に沿って前記薄肉部を設け、
前記反射表示領域の前記行方向に隣接する前記サブ画素の境に設けられた前記薄肉部を、3つの前記サブ画素を周期として形成する工程と、前記一方の基板の内面上に未硬化の配向材が配置される工程と、を具備することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記配向材が配置される工程において、前記配向材は、前記透明絶縁膜の前記薄肉部を流動してなることを特徴とする請求項10又は11に記載の液晶装置の製造方法。
- 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の液晶装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
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