SU646391A1 - Полевой транзистор - Google Patents
Полевой транзисторInfo
- Publication number
- SU646391A1 SU646391A1 SU772537101A SU2537101A SU646391A1 SU 646391 A1 SU646391 A1 SU 646391A1 SU 772537101 A SU772537101 A SU 772537101A SU 2537101 A SU2537101 A SU 2537101A SU 646391 A1 SU646391 A1 SU 646391A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- substrate
- field
- effect transistor
- gate
- source
- Prior art date
Links
Landscapes
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
(54) ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР
1
Изобретение относитс к полупроводниковым приборам, и частности к интеграЛьным схемам. Наиболее эффективно оно может быть использовано при построении больших интегральных схем, логических и запоминающих устройств.
Известен полевой транзистор с затвором в виде выпр мл ющего перехода металлполупроводник (1)..
Наиболее близким к изобретению по технической сущности вл етс полевой транзистор с затворными област ми, расположенными на поверхности подложки и выполненными в виде перехода металл-полупроводник , со стоковой областью, расположенной между затворными област ми, и с истоком 2.
Известные конструкции полевых транзисторов имеют существенный недостаток, заключающийс в относительно малой щирине стоковой области и большом сопротивлении растекани тока стока, что ограничи-. вает величины коммутируемых приборам токов и в результате ограничивает быстродействие прибора. Кроме того, реализаци прибора обуславливает повышение требований к минимальным размерам окон на фотошаблоне и к разрешающей способности фотолитографических операций.
Цель изобретени - увеличение быстродействи полевого транзистора.
Эта цель достигаетс тем, что в подложке на рассто нии .введени в область стока от пойерхности, не превЬ1шающем толщины сло объемного зар да выпр мл ющего контакта затвор-исток, расположена дополнительна область противоположного подложке типа проводимости таким . образом, что ее проекци полностью перекрывает контакт стоковой области г подложке.
На чертеже изображен полевой транзистор , имеющий область истока 1, омический контакт 2 области стока, затворные области .3, дополнительную область 4 противоположного истоку типа проводимости и область канала 5.
В предложенной конструкции (6ласть канала 5 перекрываетс слоем объемного зар да затвор-исток перехода, выполненного в виде диода Шоттки, когда на затворе .имеет место отрицательный или нул.евой (по отношению к области 1) потенциал. Когда
в области 3 приложен продолжительный потенциал , то область объемного зар да уменьшаетс и между истоком 1 и стоком 2 имеет место гальваническа св зь.
Уменьшение длины канала в предложенном транзисторе достигаетс посредством расположени краев области 4 и области 3 в одном вертикальном сечении.
В , данной структуре ширина области 2 может быть выбрана достаточно большой и, следовательно, транзистор имеет малое последовательное сопротивление между истоком и стоком. Это позвол ет истгользовать прибор дл коммутации токов относительно больших величин и, следовательно, уменьшить врем переходных процессов паразитных емкостей.
Транзистор может быть изготовлен по рбычной технологии, прин той при производстве пoлyп Jвoдниkoвыx приборов и интегральных схем.
Claims (2)
- Формула изобретениПолевой транзистор с затворными област ми , расположенными на поверхности подложки и выполненными в виде перехода металл-полупроводник , со становой областью, расположенной между затворными област ми , и с истоком, отличающийс тем, что, с целью повышени быстродействи , в подложке на рассто нии от поверхности, не превышающем толшины сло объемного зар да выпр мл ющего контакта затвор-исток , расположена - дополнительна область противоположного подложке типа проводимости таким образом, что ее проекци полностью перекрывает контакт стоковой Области в подложке.Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе1,Патент США № 3804681, кл. 148-188, 1974.
- 2.Авторское свидетельство СССР № 602055,-кл. Н 01 L 27/04, 06.01.77.
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772537101A SU646391A1 (ru) | 1977-11-01 | 1977-11-01 | Полевой транзистор |
CS900577A CS199407B1 (en) | 1977-01-06 | 1977-12-29 | Injection integrated circuit |
NL7800046A NL7800046A (nl) | 1977-01-06 | 1978-01-02 | Geintegreerde injectieschakeling. |
DD20309578A DD136907A1 (de) | 1977-01-06 | 1978-01-04 | Integrierte injektionsschaltung |
CH9178A CH616276A5 (en) | 1977-01-06 | 1978-01-04 | Integrated injection circuit |
DE19782800335 DE2800335A1 (de) | 1977-01-06 | 1978-01-04 | Integrierte injektionsschaltung |
FR7800244A FR2377123A1 (fr) | 1977-01-06 | 1978-01-05 | Circuit logique integre |
PL20382778A PL119495B1 (en) | 1977-01-06 | 1978-01-05 | Intergrated injector circuit |
GB39578A GB1565918A (en) | 1977-01-06 | 1978-01-05 | Integrated injection circiut devices |
JP48078A JPS53108291A (en) | 1977-01-06 | 1978-01-06 | Integration implating circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU772537101A SU646391A1 (ru) | 1977-11-01 | 1977-11-01 | Полевой транзистор |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU646391A1 true SU646391A1 (ru) | 1979-02-05 |
Family
ID=20730257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU772537101A SU646391A1 (ru) | 1977-01-06 | 1977-11-01 | Полевой транзистор |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU646391A1 (ru) |
-
1977
- 1977-11-01 SU SU772537101A patent/SU646391A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS55148464A (en) | Mos semiconductor device and its manufacture | |
SE8007492L (sv) | Felteffekttransistor av mos-typ | |
KR960015960A (ko) | 반도체 장치 | |
SU646391A1 (ru) | Полевой транзистор | |
JPS6064471A (ja) | 高電圧絶縁ゲ−ト型電界効果トランジスタ | |
KR970067909A (ko) | 박막 반도체 장치 | |
JPS54101680A (en) | Semiconductor device | |
JPS6484667A (en) | Insulated-gate transistor | |
JPS6020910B2 (ja) | 静電誘導トランジスタ及び半導体集積回路 | |
JPS5685851A (en) | Complementary mos type semiconductor device | |
JPS6255303B2 (ru) | ||
KR920015367A (ko) | 반도체 메모리장치 | |
JPS54151380A (en) | Mos transistor | |
JPS5772388A (en) | Junction type field-effect semiconductor device and its manufacdure | |
GB1373960A (en) | Field effect transistors | |
JPS57121271A (en) | Field effect transistor | |
JPS54162973A (en) | Manufacture of schottky junction-type field effect transistor | |
JPS57162371A (en) | Mos semiconductor memory device | |
JPS55108773A (en) | Insulating gate type field effect transistor | |
KR970053874A (ko) | 낮은 정전용량을 갖는 모스트랜지스터 | |
JPS5780777A (en) | Semiconductor device | |
DE69122342D1 (de) | Niederspannungsbauelement in einem Substrat für hohe Spannungen | |
JPH06151865A (ja) | 半導体装置 | |
KR19980084371A (ko) | 이중-확산 모스 트랜지스터에 대한 모델링 방법 | |
JPS63128675A (ja) | 切り込み型絶縁ゲ−ト静電誘導トランジスタ |