SE529223C2 - Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas - Google Patents

Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas

Info

Publication number
SE529223C2
SE529223C2 SE0501038A SE0501038A SE529223C2 SE 529223 C2 SE529223 C2 SE 529223C2 SE 0501038 A SE0501038 A SE 0501038A SE 0501038 A SE0501038 A SE 0501038A SE 529223 C2 SE529223 C2 SE 529223C2
Authority
SE
Sweden
Prior art keywords
mel
peak
elements
peaks
phase
Prior art date
Application number
SE0501038A
Other languages
English (en)
Other versions
SE0501038L (sv
Inventor
Tommy Larsson
Lennart Karlsson
Original Assignee
Seco Tools Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seco Tools Ab filed Critical Seco Tools Ab
Priority to SE0501038A priority Critical patent/SE529223C2/sv
Priority to DE602006002920T priority patent/DE602006002920D1/de
Priority to EP06445019A priority patent/EP1722009B1/en
Priority to AT06445019T priority patent/ATE409758T1/de
Priority to KR1020060040671A priority patent/KR100858855B1/ko
Priority to CNB2006100794675A priority patent/CN100525968C/zh
Priority to US11/429,450 priority patent/US8507108B2/en
Priority to JP2006129492A priority patent/JP2006312235A/ja
Publication of SE0501038L publication Critical patent/SE0501038L/sv
Publication of SE529223C2 publication Critical patent/SE529223C2/sv

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C27/00—Alloys based on rhenium or a refractory metal not mentioned in groups C22C14/00 or C22C16/00
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C23C14/0647—Boron nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C23C14/0658—Carbon nitride
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0664—Carbonitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0676—Oxynitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/042—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material including a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxides, ZrO2, rare earth oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/048—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with layers graded in composition or physical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Drilling Tools (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Description

20 25 30 35 40 V529 223 2 kan skikt innehållande h-MeX fas fås vilka jämfört med känd teknik uppvisar förbättrade prestanda vid metallbearbetning. Skikten om- fattar kristaller av h-MeX med eller utan samexistens av c-NaCl- typ struktur av nitrider och/eller karbider och/eller oxider.
Skikten utfälls med användning av PVD-teknik, företrädesvis genom bågförångning. I Kort beskrivning av figurerna Figur l. Röntgendiffraktogram med användning av CuKa strålning och 6-26 geometri erhållet från ett h-NbN-skikt enligt uppfinningen i utfällt tillstånd.
Figur 2. Röntgendiffraktogram med användning av CuKd strålning och 6-26 geometri erhållet från ett (Nb,Zr)N-skikt med atomförhållandet Nb/Zr = 29/7l i utfällt tillstànd.
Figur 3. Röntgendiffraktogram med användning av CuKa strålning och en konstant strykande infallsvinkel av l° mellan primärstråle och provyta och vid skanning endast av detektorn från ett NbN-skikt enligt uppfinningen i utfällt tillstånd.
Figur 4. Röntgendiffraktogram med användning av CuKa strålning och 6-26 geometri erhållet från ett (Nb,Zr)N-skikt enligt uppfinningen med atomförhållandet Nb/Zr = 86/14 i utfällt tillstånd.
Detaljerad beskrivning av uppfinningen Enligt föreliggande uppfinning föreligger ett skärverktyg för spànavskiljande bearbetning omfattande en kropp av en hård leger- ing av hårdmetall, cermet, keramik, kubisk bornitrid baserat mate- rial, eller snabbstål, ovanpå vilken en slitstark beläggning är utfälld sammansatt av ett eller flera skikt av refraktära före- ningar omfattande åtminstone ett skikt omfattande kristaller av h- MeX~fas. Ytterligare skikt består av nitrider och/eller karbider och/eller oxider av elementen Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Si och Al, växt med användning av Fysikalisk ångbeläggning (PVD), el- ler andra beläggningsteknologier än PVD såsom plasmaförstärkt ke- misk ångavsättning (PACVD) och/eller kemisk ångavsättning (CVD).
Verktyg enligt föreliggande uppfinning är speciellt användbara i metallbearbetningstillämpningar där spåntjockleken är liten och arbetsmaterialet är hårt såsom kopiefräsning med användning av so- lida pinnfräsar, skär för fräshuvuden eller borrning av härdade stål. h-Mex-skikten omfattar kristaller av h-MeX-fas. Sammansätt- ningen kan anges som MelaMe2L1Xb där Mel är ett eller flera av 10 15 20 25 30 35 40 529» 223 s elementen V, Cr, Nb, och Ta, företrädesvis V, Cr och Nb, och Me2 är ett eller flera av elementen Ti, Zr, Hf, Al, Al, och Si, och a > 0,5 och X ett eller C, 0 och B. Icke-metall till metall här definierat som R = (atom-% X)/(atom-% Mel + atom-% Me2) av h-(Me1,Me2)X-fasen, är mellan 0,5 och 1,0, företrädesvis mellan 0,75 och 1,0. h-MeX-skiktet omfattande h-(Me1,Me2)X-fas kännetecknas av: Existensen av en kristallin hexagonal fas, h-(Mel,Me2)X, de- tekterad med röntgendiffraktion (XRD) i 0-20 och/eller strykande infall geometri som uppvisar ett eller flera av följande särdrag: - en h-(Mel,Me2)X (100) topp, i av CuKa strålning vid ungefär 35 °20, - en h-(Mel,Me2)X (101) topp, i av CuKa strålning vid ungefär 39 °20, - en h-(Mel,Me2)X (102) topp, i av CuKd strålning vid ungefär 48 °20, - en h-(Mel,Me2)X (110) topp, i fallet h-NbN med användning av CuKa strålning vid ungefär 62 °20, V - en h-(Mel,Me2)X (103) topp, i av CuKd strålning vid ungefär 62 °20, - en h-(Mel,Me2)X (112) topp, i fallet h-NbN med användning av CuKd strålning vid ungefär 72 °20, - en h-(Mel,Me2)X (201) topp, i av CuKa strålning vid ungefär 75 °20, - en h-(Mel,Me2)X (202) topp, i fallet h-NbN med användning av CuKd strålning vid ungefär 83 °20.
- När Me och X inte är Nb och N, respektive, och Si, företrädesvis Ti, Zr, flera av elementen N, atomförhållandet, fallet h-NbN med användning fallet h-NbN med användning fallet h-NbN med användning fallet h-NbN med användning fallet h-NbN med användning kan topplägena 'vara förskjutna.
- Förhållandet, L, mellan ytan av h-(Mel,Me2)X (110) plus (103) topparna (= A(h-(Me1,Me2)X1m+m3) och c-(Mel,Me2)X (200) toppen (= A(C-(Me1,Me2)Xm0), d v S L = A(h-Mel,Me2)X1w+m3)/ A(C- MeXm0) i röntgendiffraktogrammet, i 0-20 geometri, från skiktet, är större än 0,1, företrädesvis större än 0,2, och/eller att topp- till-bakgrund förhållandet för h-(Mel,Me2)X (110) plus (103) topparna är större än 2, företrädesvis större än 4.
- Texturen definierad som förhållandet, K, mellan ytan av h- (Me1,Me2)X (100) toppen, med användning av CuKa strålning i 0-20- geometri, och h-(Mel,Me2)X (110) plus (103) topparna är mellan O och 0,5 och företrädesvis mellan 0,0 och 0,25.
- FWHM (Full halvvärdesbredd) värdet av h-(Mel,Me2)X (110) Plus (103) toppen i röntgendiffraktogrammet, i 0-20 geometri, från lO 15 20 25 30 35 40 529 225 4 beläggningen är mellan 0,5 och 3,0 °29 och h-(Mel,Me2)X (100) toppen är mellan 0,4 och 2,5 °29 samt att - Strukturen av h-(Mel,Me2)X är av anti-NiAs-typ.
- X består av mindre än 30 atom-% O och/eller B med rest av N och/eller C.
Skiktet omfattande h-(Mel,Me2)X har en betydligt ökad hårdhet jämfört med ett kubiskt enkelfasskikt av NaCl typ c-MeX struktur, se Exempel 1, demonstrerat av systemet h-(Nb,Zr)N OCh C"(Nb,Zr)N- Den totala beläggningstjockleken, om h-(Mel,Me2)X-inne- hållande skikt enligt föreliggande uppfinning kombineras med andra skikt, är mellan 0,1 och l5 um, företrädesvis mellan 0,5 och 12 pm, med den totala tjockleken av icke h-(Mel,Me2)X innehållande skikt varierande mellan 0,5 och 10 pm. y I en alternativ utföringsform h-(Mel,Me2)X innehållande skikt av 0,5 och 12 um tjocklek, med eller utan andra skikt enligt be- skrivningen ovan, kan ett yttre 0,5 till 5 um tjockt skikt bestå- ende av ett solitt lågfriktionsmaterial baserat på MoS2, DLC eller MeC/C, där Me är Cr, W, Ti eller Ta, utfällas ovanpå beläggningen.
I ytterligare en alternativ utföringsform är h-(Mel,Me2)X in- nehållende skikt, mellan 0,1 een 2 pm tjocka, ett av ett till fem olika materiel 1 en 1,0 till 15 pm tjock multiskiktbeläggning bestående av individuellt 2f500, företrädesvis 5-200, skikt.
I ytterligare en alternativ utföringsform kan h-(Mel,Me2)X innehållande skikt av 0,5 och 20 pm tjocklek utfällas ovanpå en CVD-beläggning som kan omfatta ett eller flera skikt av kristallin Al203.
I ytterligare en alternativ utföringsform används åtminstone ett h-(Mel,Me2)X innehållande skikt av 0,1 och 1,0 pm tjocklek för metallbearbetningsapplikationer där spåntjockleken är mycket li- ten.
Metoden använd för att växa skikt, omfattande h-(Mel,Me2)X- fas enligt föreliggande uppfinning, här exemplifierad av systemet Nb-Zr-N, är baserad på bågförångning av en legerad, eller kompo- sitkatod, underföljande villkor: Nb-Zr katodsammansättning är >70 atom-% Nb, företrädesvis >80 atom-% Nb och balans av Zr.
Förångningsströmmen är mellan 50 A och 200 A beroende på ka- todstorlek och katodmaterial. Vid användning av katoder 63 mm i diameter är föràngningsströmmen helst mellan 70 A och 140 A.
Substratförspänning är mellan -lO V och -300 V, företrädesvis mellan -40 V och -120 V. 10 15 20 25 30 35 40 529 225 5 Beläggningstemperatur är mellan 400°C och 700°C, företrädesvis mellan 500°C och 700°C.
Om rena Nb- och/eller Zr-katoder används är föràngningsström- men helst mellan 80 A och 140 A för Nb och mellan 60 A och 100 A för Zr. För att få korrekt sammansättning av skiktet, vid rena en- elementkatoder, måste bågströmmen och antalet katoder per element optimeras korrekt. Med användning av dubbelt så många Nb-katoder som Zr-katoder, och/eller en högre bågström på Nb katoderna, kan korrekt skiktsammansättning och struktur i Nb-Zr-systemet uppnås.
Vid tillväxt av skikt innehållande h-(Mel,Me2)X används en Ar+N2 atmosfär bestående av 0-50 vol-% Ar, företrädesvis 0-20 vol- %, vid ett totalt tryck av 0,5 Pa till 9,0 Pa, företrädesvis 1,5 Pa till 5,0 Pa. .
För tillväxt av h-(Mel,Me2)X skikt där X omfattar C och O, skall kol och/eller syre innehållande gaser tillsättas till N2 och/eller Ar+N2 atmosfären (t.ex. Cfib, CH4, CO, C02, 02). Om X även omfattar B kan det tillsättas antingen genom legering av target med B eller genom tillsats av en borinnehållande gas till atmosfä- ren. V För att erhålla den föredragna strukturen enligt denna uppfinning, d v s ett skikt innehållande h-(Mel,Me2)X här exempli- fierat av h-(Nb,Zr)N, har vi funnit att flera beläggningsparamet- rar måste finstämmas. En viktig faktor är förhållandet mellan flö- det av Nb från katoden och partialtrycket av N2, PN2. Nyckelfak- torn tyckas vara att beläggningshastigheten, som är direkt re- laterad till Nb-flödet, är ganska låg i segmenten av rotationsvin- keln där majoriteten av beläggning sker. Beläggningshastigheten skall inte vara alltför hög, här nedan ungefär 4 um/h i enkel ro- tation, med två Nb-katoder skilda av l80°, eller ungefär 1,5 um/h vid trefaldig rotation. Beläggningshastigheterna ovan, vilka egentligen är medelvärden och inte nyckelparametrar, är att ses som grova riktlinjer vid en beläggningstemperatur av 530°C. Vid an- vändning av en högre beläggningshastighet kommer en högre belägg- ningstemperatur att behövas. För varje beläggningshastighet finns det en lägre gräns för PN2 för processen. Ett alltför lågt PN2 ger metallisk Nb(N) och/eller c-NbN i skiktet. I det använda systemet är det bästa resultatet erhållet för tryck högre än 0,5 Pa. Efter- som en nyckelfaktor är att hålla maximal beläggningshastighet låg, är det minimala avståndet mellan katodyta och_substrat viktigt, företrädesvis 150 mm eller mer. Här tycks ett avstånd under 130 mm vara alltför kort. 10 15 20 25 30 35 40 529 223 s Beläggning med skikt innehållande h-(Mel,Me2)X fas av typen beskriven ovan kan även vara möjlig med användning av V och/eller Ta som Mel beroende på likhet med Nb. Användning av Ti, Zr, och Hf, vändning av ett maximalt legeringsinnehåll företrädesvis mindre än 20 atom-%, helst mindre än 15 atom-%, av det totala metallinnehâl- let, baserat på redovisad hårdhet mot sammansättning i Tabell 1 för Nb-Zr-N systemet. Exempel på denna legeringsväg är h- (V,Nb,Ta)N, h-(V,Nb,Ta)L¶(Ti,Zr,Hf)xN med x företrädesvis <0,2 och helst <0,l5. som Me2, som legeringselement skulle även vara giltig med an- För att få gott högtemperaturoxidationsmotstånd är nitrider föredragna jämfört med karbonitrider och karbider. Dessutom skulle förbättrat oxidationsmotstånd kunna uppnås vid legering med en eller flera av Ti, Al och Si som Me2-element och Cr som ett Mel- element. Dessa legeringselement skulle kunna vara närvarande i h- (Mel,Me2)X-fasen också i en andra fas, som skulle kunna vara av c- NaCl typ.
Vid tillväxt av skikt innehållande h-(Mel,Me2)X fas föreligger det risk att den kompressiva restspänningen blir mycket hög, upp till nivåer av 3-8 GPa motsvarande en töjning av O,5% till l,5% (av h-MeX-fasen), som kommer att påverka prestandan ynegativt i skärande tillämpningar när skarpa skäreggar används och/eller när kraven på god vidhäftning är av yttersta betydelse.
En möjlighet att minska de kompressiva restspänningarna är att applicera en eftervärmebehandlingsprocess, eller in-situ behandling, företrädesvis i en atmosfär av Ar och/eller N2 vid temperaturer mellan 600°C och ll00°C under 20 till 600 min.
Föreliggande uppfinning har beskrivits med hänvisning till skikt innehållande h-(Mel,Me2)X fas utfälld med användning av båg- förångning. Det är uppenbart att h-(Me1,Me2)X fas innehållande skikt även kan framställas med användning av andra PVD-teknologier såsom magnetronsputtering, elektronstråleförångning, jonplätering, eller laserablation.
Exempel l Polerade hårdmetallsubstrat med sammansättning 93,5 vikt-% WC-6 vikt-% Co - 0,5 vikt-% (Ta,Nb)C användes. WC-kornstorleken var omkring l um och hårdheten var 1630 HVl0.
Före beläggning, rengjordes substraten i ultraljudsbad med användning av alkalilösning och sprit och placerades därefter i PVD-systemet med användning av en fixtur för enkelrotation. Det kortaste katod-till-substratavståndet var 160 mm. Systemet evakue- 10 15 20 25 30 35 40 529 223 7 rades till ett tryck av mindre än 2,0Xl0-3 Pa, varefter Substraten sputtrades rena med Ar-joner. Skikten växtes med användning av bågförångning av Nb- och Zr-katoder (63 mm i diameter) monterade så att en lodrät metallsammansättningsgradient varierade från Nb0¿7Zrm03 till Nb0¿9Zrm71 (mätt med EDS). Kväveinnehållet (mätt med EDS) av varianten innehållande h-A1N var mellan (Nb,Zr)Nm7F0¿2.
Detta innebär att förhållandet R = (atom-% X)/(atom-% Mel + atom-% Me2) är mellan 0,77 och 0,92 där X är N och Mel är Nb och Me2 är Zr.
Beläggningen utfördes i en 99,995% ren N2 atmosfär vid ett totalt tryck av 3,0 Pa, med användning av en substratförspänning av -110 V i 60 minuter. Skikttjockleken var ungefär 3,5 um. Be- läggningstemperatur var omkring 530°C. Omedelbart efter beläggning ventilerades kammaren med torr N2.
NbN-skikt växtes med användning av ett separat beläggningsex- periment, med användning av samma beläggningsdata som ovan utom att endast rena elementära Nb-katoder användes.
Röntgendiffraktogrammet (CuKa strålning, G-26 geometri) från det utfällda NbN och Nb0¿9Zr0J1N skiktet visas i Figur 1 och Figur 2 respektive. Frånsett topparna motsvarande WC-Co-substraten, finns det få likheter mellan mönstren från NbN och Nb0¿9Zr0fl1N proven. Det utfällda skiktet av Nb0¿9Zr0fl1N, Figur 2, består av en struktur av NaCl-typ som ses vid identifikationen av (111), (200), (220), och (311) topparna. Men röntgendiffraktionsmönstret från NbN är fullständigt olikt. Speciellt, frånvaron av den kubiska NaCl-typ strukturen och närvaron av en stor topp vid 62 °29 (FWHM = 1,2 °29) och en topp vid 38 °26 (FWHM = 1,3 °29), båda av vilka inte ses i Nb0¿9Zr0fl1N. Dessutom finns det en lätt ökning i intensitet från 70 till 75 °20 i NbN, medan det finns en minskning i _ intensitet i samma område för Nb0¿9Zrm7fiJ. Det finns även en klar skillnad i toppläge för toppen vid 34,5 °26 i Nb0¿9Zr0J1N jämfört med toppen vid 34,0 °29 för NbN-skikt. Texturen, definierad som förhållandet (K) mellan ytan av h-(Mel,Me2)X (100) toppen och h- (Me1,Me2)X (110) plus (103) topparna är för NbN-provet 0,12. FWHM för h-NbN (110) plus (103) topparna är 1,2 °26 och för h-NbN (100) toppen 0,7 °29.
Fasidentifikation av NbN i utfällt tillstànd gjordes med röntgendiffraktion med användning av en konstant strykande in- fallsvinkel av 1° mellan primärstràle och provyta och svepning av detektorn för att förstora toppar härstammande från beläggningen, se Figur 3. Närvaron av h-NbN bekräftas vid indexering av diffrak- togrammet till anti-NiAs-typ strukturen. Vid ökande Zr innehåll 10 15 %529 223 8 ökar mängden av c-(Nb,Zr)N (NaCl-typ struktur)- Figur 4 Visar ett röntgenmönster från ett skikt med atomförhållandet Nb/Zr = 86/14 (prov E) i utfällt tillstànd. Förhållandet, L, mellan ytan av h- (Mel,Me2)X (110) toppen vid ungefär 62 °29 (= A(h-(Me1,Me2)X)ll0) och c-(Mel,Me2)X (200) topp vid ungefär 41 °29 (= A(C“ (Mel,Me2)X)200), d v s L = A(h-(Nb,Zr)N)ll0)/ A(C-(Nb,Zr)N)200) är för sådant prov 0,25.
För valda prov i Tabell l, är topp-till-bakgrundförhållandet för h-(Nb,Zr)N (110) (103) topparna 153 (A), 92 (B), 109 (C), 79 (D), och 4,5 (E), respektive.
Hårdhet och E-modul för Nb-Zr-N-skiktet mättes med nanoin- dentation med användning av ett Nano Indenterm II instrument på polerade flacksnitt med användning av maximum last av 25 mN resul- terande i ett maximum intrycksdjup av omkring 200 nm. Hårdhets och E-modulvärdena rapporteras i Tabell l. Det kan klart ses från Tabell l att hàrdheten ökar drastiskt när h-(Nb,Zr)N föreligger i skiktet. Skiktet med Nb/Zr = 86/14, variant E, har en hårdhet mellan nivån för h-(Nb,Zr)N, omkring 43-48 GPA, OCh C-(Nb,ZI)N skikten omkring 33 GPa. plus Vari- ant Tabell 1.
Nb/zr Hàrdhet (at%) (GPa) 100/0 97/3 47 95/5 43 93/7 48 86/14 38 75/25 33 57/43 33 43/57 33 33/67 33 29/71 33 1 529 223 E-Modul (GPa) 595 578 597 493 474 473 497 491 515 Pàvisade faser h-NbN, a=2,98, c=5,49 h-NbN, a=3,00, c=5,§9 C-(Nb,Zr)N a=4,44 h-NbN, a=2,98, c=5,53 c-(Nb,Zr)N a=4,44 h-NbN, a=3,00, c=5,49 c-(Nb,zr)N a=4,45 h-NbN, a=3,0l, c=5,50 c-(Nb,Zr)N a=4,443 c-(Nb,Zr)N a=4,47 C-(Nb,Zr)N a=4,50 c-(Nb,Zr)N a=4,53 C-(Nb,Zr)N a=4,55 c-(Nb,zr)N a=4,55 FWHM FWHM h~(l00) h-(ll0)+ °29 h*(l03) °29 0,7 1,2 0,8 1,5 0,8 1,5 0,8 1,6 0,8 2,2 Restspän- ning (%) -1,6 -0,6 Textur- para- mêter 0,12 0,19 0,52 10 15 20 25 30 35 529 225 10 Exempel 2 Hårdmetallpinnfräsar av typ MM12-12012-B90P-M05 med samman- sättning 90 vikt-% WC-10 vikt-% Co (WC-kornstorlek 0,8 um) bêlades med användning av liknande beläggningsvillkor som i Exempel 1 (namnet på varianterna i Exempel 2 hänvisar till variantnamn i Ex- empel 1 med liknande sammansättning). En fixtur med tre-faldig ro- tation användes. Pinnfräsarna placerades på olika nivåer för att få olika sammansättning. Beläggningsperioden justerades från exem- pel 1 till 140 min för att få 3,0 pm på släppningssidan. Som refe- rens användes en TiN-belagd pinnfräs av samma geometri och sub- strat, här kallat TiN. Skikttjockleken på släppningssidan på denna variant var 1,4 um.
Ett semi-finbearbetningskopierfräsningsprov utfördes med an- vändning av följande skärdata: A DIN XlO0CrMoV 5 1, n = 4050 rpm ap vf 900 mm/min hm = 0,015 mm Efter 30 min i ingrepp mättes maximum fasförslitning, Vbmax, på två olika ställen (i hörnet och 1 mm från hörnet), se Tabell 2.
Material: 59HRC Il ae = 0,9 mm Tabell 2.
Variant Vb max [mm] Vb max [mm] i hörnet 1 mm från hörnet 0,20 0,12 E 0,47 0,28 I 0,68 0,24 TiN 0,82 0,18 Detta kopierfräsningsprov visar att variant C (denna uppfin- ning) har den lägsta förslitningshastigheten följd av varianten E med en struktur blandad mellan h-(Nb,Zr)N och c-(Nb,Zr)N.
Exempel 3 Ett kopierfräsningsprov med användning av RDHW10T3MOT-MDO6- skär belagda likadant som i Exempel 1 (varianter A, C och E).
Livslängden mättes när skären var utslitna definierat som när gnistor uppstod och materialet fick en ojämn yta. Livslängden re- dovisas tabell 3.
Material: DIN X155 CrMoV 12 1, härdat till 58HRC 529 223 n Torrbearbetning vc = 250 m/min fz = 0,2 mm/tand ap = l mm, ae 2 mm Tabell 3. variant Livslängd Egg 1 Livslängd E99 2 (min) (min) A 5,2 4,5 4,3 - 5,4 E 2,5 2,8 TiN 3,1 2,5 I det här provet har varianterna med hög mängd av h-(Nb,Zr)N, som variant A (enkelfas h-NbN) och C, längst livslängd.

Claims (2)

10 15 20 25 30 35 529 223 Krav
1. Skär, solid pinnfräs eller borr för spånavskiljande bearbetning, omfattande ett substrat av hârdmetall, cermet, keramik, kubisk bornitrid baserat material, eller snabbstâl och en beläggning sammansatt av ett eller flera skikt av refraktära föreningar av nitrider och/eller karbider och/eller oxider av elementen Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Si och Al, åtminstone ett skikt omfattar kristallin hexagonal fas, h-(Mel,Me2)X, beskriven med sammansättningen MeLMe2hQg där Mel är ett eller flera av elementen V, Cr, Nb, och Ta och Me2 är ett eller flera av Hf, Al, och Si och a > 0,5 och X ett eller flera av elementen N, C, O och B, förhållandet R = (atom-% X)/(atom-% Mel + atom-% Me2) av MegMe2ngg fasen är mellan 0,5 och 1,0, mellan 0,75 och 1,0, och att X innehåller mindre än 30 atom-% av O + B, röntgendiffraktionsmönster i 6-26 och/eller strykande infall geometri av 1° mellan primärstråle och provyta från kristallin hexagonal fas, h-(Mel,Me2)X, visar en eller flera av följande toppar; k ä n n e t e c k n a t av att elementen Ti, Zr, företrädesvis - en h-(Mel,Me2)X (100) topp - en h-(Mel,Me2)X (101) topp - en h-(Mel,Me2)X (102) topp - en h-(Mel,Me2)X (110) topp - en h-(Mel,Me2)X (103) topp - en h-(Mel,Me2)X (112) topp - en h-(Mel,Me2)X (201) topp - en h-(Mel,Me2)X (202) topp, varvid - förhållandet, L, mellan ytan av h-(Mel,Me2)X (110) plus (103) topparna (= A(h-(Me1,Me2)Xu@uæ) och c-(Me1,Me2)X (200) toppen (= A(c- (Me1,Me2)X2w), d V s L = A(h-Me1,Me2)X1m+m3)/ A(c-MeX2w) diffraktogrammet, i 6-26 geometri, från sagda skikt, är större än 0,1, företrädesvis större än 0,2, och/eller att topp-till-bakgrund förhållandet för h-(Mel,Me2)X (110) plus (103) topparna är större än 2, företrädesvis större än 4, - förhållandet, K, mellan ytan av h-(Mel,Me2)X (100) toppen och h-(Mel,Me2)X (110) plus (103) topparna i röntgendiffraktogrammet, i 6-26 geometri, från sagda skikt är mellan O och 0,5 och företrädesvis mellan 0,0 och 0,25, - FWHM (Full halvvärdesbredd) värdet av h-(Mel,Me2)X (110) plus (103) toppen i röntgendiffraktogrammet, i 6-26 geometri, från sagda i röntgen- 10 15 20 529 223 /3' skikt är mellan 0,5 och 3,0 °29 mellan 0,4 och 2,5 °26 samt att - strukturen hos h-(Mel,Me2)X är av anti-NiAs typ och varvid skiktet utfälls medelst bågförångning av en legerad, eller kompositkatod, underföljande villkor: - föràngningsströmmen är mellan 50 A och 200 A beroende på ka- todstorlek och katodmaterial - substratförspänningen är mellan -10 V och -300 V, företrädesvis mellan -40 V och -120 V - beläggningstemperaturen är mellan 400°C och 700°C, företrädesvis mellan 500°C och 700°C och h-(Mel,Me2)X (100) toppen är - i en Ar+N2 atmosfär bestående av 0-50 vol-% Ar, företrädesvis 0-20 vol-%, vid ett totalt tryck av 0,5 Pa till 9,0 Pa, företrädesvis 1,5 Pa till 5,0 Pa, varvid om X omfattar C och O skall kol och/eller syre innehållande gaser tillsättas till N2 och/eller Ar+N2 atmos- fären såsom C2H2, CH4, CO, C02, 02 samt om X även omfattar B detta tillsätts antingen genom legering av targeten med B eller genom tillsats av en borinnehållande gas till atmosfären.
2. Skärverktyg enligt krav 1 k ä n n e t e c k n a t av att Mel är ett eller flera av elementen V, Cr och Nb, och Me2 är ett eller flera av elementen Ti, Zr, Al och Si.
SE0501038A 2005-05-06 2005-05-06 Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas SE529223C2 (sv)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0501038A SE529223C2 (sv) 2005-05-06 2005-05-06 Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas
DE602006002920T DE602006002920D1 (de) 2005-05-06 2006-04-28 Dünne verschleissfeste Beschichtung
EP06445019A EP1722009B1 (en) 2005-05-06 2006-04-28 Thin wear resistant coating
AT06445019T ATE409758T1 (de) 2005-05-06 2006-04-28 Dünne verschleissfeste beschichtung
KR1020060040671A KR100858855B1 (ko) 2005-05-06 2006-05-04 내마모성 박막 코팅
CNB2006100794675A CN100525968C (zh) 2005-05-06 2006-05-08 耐磨的薄涂层
US11/429,450 US8507108B2 (en) 2005-05-06 2006-05-08 Thin wear resistant coating
JP2006129492A JP2006312235A (ja) 2005-05-06 2006-05-08 薄い耐摩耗性被膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE0501038A SE529223C2 (sv) 2005-05-06 2005-05-06 Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SE0501038L SE0501038L (sv) 2006-11-07
SE529223C2 true SE529223C2 (sv) 2007-06-05

Family

ID=36716909

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SE0501038A SE529223C2 (sv) 2005-05-06 2005-05-06 Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8507108B2 (sv)
EP (1) EP1722009B1 (sv)
JP (1) JP2006312235A (sv)
KR (1) KR100858855B1 (sv)
CN (1) CN100525968C (sv)
AT (1) ATE409758T1 (sv)
DE (1) DE602006002920D1 (sv)
SE (1) SE529223C2 (sv)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4774080B2 (ja) * 2007-08-02 2011-09-14 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜被覆材および冷間塑性加工用金型
SE0702046L (sv) * 2007-09-14 2009-03-15 Seco Tools Ab Belagt skär för bearbetning av titanbaserade legeringar
CN101210310B (zh) * 2007-12-21 2010-12-08 广州有色金属研究院 微型钻头表面改性用多元多层硬质薄膜材料及其制备方法
WO2009110829A1 (en) 2008-03-07 2009-09-11 Seco Tools Ab Thermally stabilized (ti, si)n layer for cutting tool insert
JP5234931B2 (ja) * 2008-06-23 2013-07-10 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜被覆部材および成形用冶工具
RU2528298C2 (ru) * 2008-11-04 2014-09-10 Ёрликон Трейдинг Аг, Трюббах Износостойкое защитное покрытие и способ его получения
EP2401419B1 (de) * 2009-02-27 2018-01-03 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon Schichtsystem sowie beschichtungsverfahren zur herstellung eines schichtsystems
DE102009001675A1 (de) * 2009-03-19 2010-09-23 Eberhard-Karls-Universität Tübingen Schneidwerkzeug
JP5403058B2 (ja) * 2009-08-04 2014-01-29 株式会社タンガロイ 被覆部材
CN102294854B (zh) * 2010-06-24 2014-07-09 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 硬质涂层及其制备方法及具有该涂层的被覆件
TWI547379B (zh) * 2010-12-21 2016-09-01 鴻海精密工業股份有限公司 黃銅與碳化矽陶瓷複合件及其製造方法
US9132484B2 (en) * 2011-08-29 2015-09-15 Kyocera Corporation Cutting tool
EP2679704B1 (en) 2012-06-29 2016-10-12 Seco Tools Ab Coated cutting insert
DE102012017731A1 (de) 2012-09-08 2014-03-13 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Ti-Al-Ta-basierte Beschichtung mit einer verbesserten Temperaturbeständigkeit
JP6011631B2 (ja) * 2012-10-01 2016-10-19 三菱日立ツール株式会社 硬質皮膜被覆工具及びその製造方法
DE102013104254A1 (de) * 2013-04-26 2014-10-30 Walter Ag Werkzeug mit CVD-Beschichtung
RU2538057C1 (ru) * 2013-07-12 2015-01-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента
RU2548862C2 (ru) * 2013-07-12 2015-04-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента
RU2548858C2 (ru) * 2013-07-23 2015-04-20 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента
RU2545941C2 (ru) * 2013-07-23 2015-04-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Ульяновский государственный технический университет" Способ получения износостойкого покрытия для режущего инструмента
CN103586520B (zh) * 2013-10-17 2016-01-27 厦门金鹭特种合金有限公司 一种涂层切削刀具及其制作方法
DE102013018007A1 (de) * 2013-11-29 2015-06-03 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Verfahren zur Verbesserung des Gegenkörperverschleisses im tribologischen Kontakt
US10189089B2 (en) 2014-07-25 2019-01-29 Tungaloy Corporation Coated cutting tool
RU2622532C1 (ru) * 2015-12-15 2017-06-16 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента
RU2622530C1 (ru) * 2015-12-15 2017-06-16 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" (УлГТУ) Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента
RU2620530C1 (ru) * 2015-12-15 2017-05-26 федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Ульяновский государственный технический университет" Способ получения многослойного покрытия для режущего инструмента
JP6960406B2 (ja) * 2015-12-22 2021-11-05 サンドビック インテレクチュアル プロパティー アクティエボラーグ 被覆切削工具及び方法
CN105734505B (zh) * 2016-03-18 2017-12-29 东北大学 一种钛合金切削用复合功能刀具涂层及其制备方法
RU170600U1 (ru) * 2016-06-01 2017-05-02 Общество с ограниченной ответственностью "Сборные конструкции инструмента, фрезы Москвитина" Фреза концевая
RU2627317C1 (ru) * 2016-06-06 2017-08-07 Общество с ограниченной ответственностью "Сборные конструкции инструмента, фрезы Москвитина" Фреза концевая
ES2963346T3 (es) 2017-05-23 2024-03-26 Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon Películas gruesas de recubrimiento multicapa de AITiTaN/AICrN sobre componentes de turbinas

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04128363A (ja) * 1990-09-19 1992-04-28 Limes:Kk 複合材料
DE69527236T2 (de) * 1994-09-16 2003-03-20 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Mehrschichtfilm aus ultrafeinen Partikeln und harter Verbundwerkstoff für Werkzeuge, die diesen Film enthalten
JP3488526B2 (ja) * 1994-12-14 2004-01-19 三菱マテリアル神戸ツールズ株式会社 耐摩耗性に優れた硬質皮膜および硬質皮膜被覆部材
JP4171099B2 (ja) * 1998-04-24 2008-10-22 株式会社神戸製鋼所 耐摩耗性に優れる硬質皮膜
JP2000144376A (ja) * 1998-11-18 2000-05-26 Sumitomo Electric Ind Ltd 摺動特性の良好な皮膜
JP3404003B2 (ja) * 2000-05-23 2003-05-06 日立ツール株式会社 被覆切削工具
JP3417907B2 (ja) * 2000-07-13 2003-06-16 日立ツール株式会社 多層皮膜被覆工具
SE0004203D0 (sv) * 2000-11-16 2000-11-16 Haakan Hugosson A surface coating
DE60124061T2 (de) * 2000-12-28 2007-04-12 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho, Kobe Hartstoffschicht für Schneidwerkzeuge
DE10262174B4 (de) * 2001-07-23 2007-03-15 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.), Kobe Harte verschleissfeste Schicht, Verfahren zum Bilden derselben und Verwendung
SE526336C2 (sv) * 2002-07-01 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med slitstark refraktär beläggning av MAX-fas
SE526339C2 (sv) * 2002-09-04 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med slitstark refraktär beläggning med kompositstruktur
SE526338C2 (sv) * 2002-09-04 2005-08-23 Seco Tools Ab Skär med utskiljningshärdad slitstark refraktär beläggning
DE10242421A1 (de) * 2002-09-06 2004-03-18 Fenker, Martin, Dr. Beschichtung zum Verschleiß- und Korrosionsschutz auf Basis von Niobnitrid oder Niobmetallnitrid sowie Verfahren zur Herstellung derselben
JP4240983B2 (ja) 2002-10-07 2009-03-18 沖電気工業株式会社 入力ピン容量の設定方法
JP2004314185A (ja) * 2003-04-11 2004-11-11 Hitachi Tool Engineering Ltd 被覆超硬ドリル
US7226670B2 (en) * 2003-04-28 2007-06-05 Oc Oerlikon Balzers Ag Work piece with a hard film of AlCr-containing material, and process for its production

Also Published As

Publication number Publication date
KR100858855B1 (ko) 2008-09-17
EP1722009B1 (en) 2008-10-01
US8507108B2 (en) 2013-08-13
KR20060115662A (ko) 2006-11-09
CN100525968C (zh) 2009-08-12
DE602006002920D1 (de) 2008-11-13
EP1722009A1 (en) 2006-11-15
US20070178330A1 (en) 2007-08-02
CN1857836A (zh) 2006-11-08
ATE409758T1 (de) 2008-10-15
SE0501038L (sv) 2006-11-07
JP2006312235A (ja) 2006-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE529223C2 (sv) Belagt skärverktyg innefattande hexagonal h-(Mel,Me2)Xfas
JP6858347B2 (ja) 被覆切削工具
CN102449194B (zh) 纳米叠层涂覆的切削工具
US9388487B2 (en) Nanolaminated coated cutting tool
KR101831014B1 (ko) 코팅된 절삭 공구 인서트
US7083868B2 (en) Composite structured wear resistant coating
US20060292399A1 (en) Composite coating for finishing of hardened steels
US20040110039A1 (en) Precipitation hardened wear resistant coating
US20120114437A1 (en) Nanolaminated coated cutting tool
JP5321975B2 (ja) 表面被覆切削工具
JP2009034781A (ja) 表面被覆切削工具
US20080273933A1 (en) Pvd-Coated Cutting Tool Insert
EP1877595A1 (en) Cutting tool insert, solid end mill or drill coated with wear resistant layer.
JP5395454B2 (ja) 表面被覆切削工具
KR101505222B1 (ko) 다층 금속 산화물 코팅을 구비한 공구 및 코팅된 공구의 제조 방법
US8685531B2 (en) Surface-coated cutting tool
US8685530B2 (en) Surface-coated cutting tool
JP2009208155A (ja) 表面被覆切削工具
JP2010188460A (ja) 表面被覆切削工具
JP2009208156A (ja) 表面被覆切削工具
JP5050277B2 (ja) 表面被覆切削工具

Legal Events

Date Code Title Description
NUG Patent has lapsed