RU97110202A - Устройство предварительного нагрева для печи инфильтрации и осаждения из газовой фазы, способ ввода газа-реагента в вышеназванную печь, фиксатор пористых структур и способ сборки фиксатора вместе с пористыми структурами - Google Patents
Устройство предварительного нагрева для печи инфильтрации и осаждения из газовой фазы, способ ввода газа-реагента в вышеназванную печь, фиксатор пористых структур и способ сборки фиксатора вместе с пористыми структурамиInfo
- Publication number
- RU97110202A RU97110202A RU97110202/02A RU97110202A RU97110202A RU 97110202 A RU97110202 A RU 97110202A RU 97110202/02 A RU97110202/02 A RU 97110202/02A RU 97110202 A RU97110202 A RU 97110202A RU 97110202 A RU97110202 A RU 97110202A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- sealed
- specified
- guide structure
- porous
- channel
- Prior art date
Links
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 title claims 11
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 title claims 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 9
- 230000036633 rest Effects 0.000 claims 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 4
- 238000001171 gas-phase infiltration Methods 0.000 claims 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims 1
- 230000000284 resting Effects 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
Claims (66)
1. Устройство предварительного нагрева для печи инфильтрации и осаждения из газовой фазы, в частности подогреватель газа-реагента, поступающего из газоввода, для использования в печи для инфильтрации газовой фазы химического вещества и химического осаждения из газовой фазы, содержащий направляющую конструкцию, имеющую впускной и выпускной каналы, отличающееся тем, что указанная направляющая конструкция расположена в печи и выполнена герметичной, а подогреватель содержит также герметичную канальную структуру, расположенную в печи и уплотненную с газовводом и с впускным каналом направляющей конструкции с обеспечением поступления практически всего газа-реагента в указанную герметичную направляющую конструкцию и прохождения через нее к указанному выпускному каналу направляющей конструкции.
2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит плоскую крышку, расположенную над указанным выпускным каналом направляющей конструкции и имеющую набор перфораций.
3. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит плоскую крышку, расположенную над указанным выпускным каналом направляющей конструкции и имеющую по меньшей мере одно отверстие, причем указанная плоская крышка уплотнена с указанным выпускным каналом направляющей конструкции с обеспечением прохождения практически всего газа из указанного выпускного канала через указанное по меньшей мере одно отверстие.
4. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в печи установлен токоприемник, имеющий стенку, в зоне которой часть указанной герметичной направляющей конструкции выполнена открытой.
5. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в печи установлен токоприемник, имеющий основание, на котором установлена указанная герметичная канальная структура.
6. Устройство по п. 5, отличающееся тем, что указанные газоввод и герметичная канальная структура уплотнены с указанным основанием токоприемника.
7. Устройство по п.6, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит уплотнительную прокладку, расположенную между указанными герметичной канальной структурой и основанием токоприемника и выполненную с возможностью сжатия.
8. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что указанная герметичная канальная структура содержит по меньшей мере два элемента, образующие уплотненные соединения.
9. Устройство по п. 5, отличающееся тем, что указанная герметичная направляющая конструкция опирается на указанную герметичную канальную структуру.
10. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что в печи установлен токоприемник, имеющий основание, на которое опирается герметичная канальная структура, а указанная герметичная направляющая конструкция опирается на указанную герметичную канальную структуру, при этом подогреватель дополнительно содержит плоскую крышку, расположенную над указанным выпускным каналом направляющей конструкции и имеющую по меньшей мере одно отверстие, причем указанная плоская крышка уплотнена с указанным выпускным каналом направляющей конструкции с обеспечением прохождения практически всего газа из указанного выпускного канала направляющей конструкции через указанное по меньшей мере одно отверстие, причем указанная плоская крышка опирается на указанную герметичную канальную структуру.
11. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что указанная герметичная направляющая конструкция содержит по меньшей мере одну перфорированную пластину.
12. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что указанная герметичная направляющая конструкция содержит разнесенные параллельные перфорированные пластины.
13. Устройство по п. 12, отличающееся тем, что каждая перфорированная пластина содержит набор перфораций, причем указанные перфорации одной перфорированной пластины не совмещены с перфорациями смежной перфорированной пластины.
14. Устройство по п. 13, отличающееся тем, что указанные перфорированные пластины уплотнены по периметру.
15. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что указанная герметичная направляющая конструкция содержит набор, собранных в пакет, смежных перфорированных пластин, определяющих периметр герметичной направляющей конструкции, а также уплотнительные сжимаемые прокладки, установленные по указанному периметру между каждой парой смежных перфорированных пластин.
16. Устройство по п. 5, отличающееся тем, что указанная герметичная канальная структура имеет уступ, на который опирается указанная герметичная направляющая конструкция, при этом указанная герметичная направляющая конструкция содержит набор, собранных в пакет, смежных перфорированных пластин, определяющих периметр герметичной направляющей конструкции, с по меньшей мере первой уплотнительной сжимаемой прокладкой, установленной по указанному периметру между каждой парой смежных перфорированных пластин, и с по меньшей мере второй уплотнительной сжимаемой прокладкой, установленной между указанными уступом и герметичной направляющей конструкцией.
17. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что оно имеет по меньшей мере второй газоввод для подачи газа-реагента в печь, а подогреватель дополнительно содержит по меньшей мере расположенную в печи вторую герметичную направляющую конструкцию, имеющую впускной и выпускной каналы, и по меньшей мере расположенную в печи вторую герметичную канальную структуру, уплотненную с вторым газовводом и указанным впускным каналом второй герметичной направляющей конструкции, с обеспечением прохождения практически всего газа-реагента, поступающего из второго газоввода в указанную вторую направляющую конструкцию и через нее к указанному выпускному каналу второй направляющей конструкции.
18. Устройство по п. 17, отличающееся тем, что он дополнительно содержит по меньшей мере вторую плоскую крышку, расположенную над указанным выпускным каналом второй направляющей конструкции и имеющую набор перфораций.
19. Устройство по п. 17, отличающееся тем, что он дополнительно содержит по меньшей мере вторую плоскую крышку, расположенную над указанным выпускным каналом направляющей конструкции и имеющую по меньшей мере одно отверстие, причем указанная вторая плоская крышка уплотнена с указанным выпускным каналом направляющей конструкции с обеспечением прохождения практически всего газа из указанного выпускного канала направляющей конструкции через указанное по меньшей мере одно отверстие в указанной второй плоской крышке.
20. Способ ввода газа-реагента из газоввода в печь для инфильтрации газовой фазы химического вещества и химического осаждения из газовой фазы, включающий в себя ввод газа-реагента из указанного газоввода в подогреватель газа, расположенный в указанной печи и имеющий направляющую конструкцию с впускным и выпускным каналами, отличающийся тем, что направляющую конструкцию подогревателя располагают в указанной печи с уплотнением, а подогреватель снабжают герметичной канальной структурой с уплотнением с указанными газовводом и впускным каналом направляющей конструкции, при этом способ включает в себя направление указанного газа-реагента, вводимого из указанного газоввода в указанный впускной канал направляющей конструкции, через указанную герметичную направляющую конструкцию и из указанного выпускного канала направляющей конструкции.
21. Способ по п. 20, отличающийся тем, что дополнительно устанавливают плоскую крышку над указанным выпускным каналом направляющей конструкции, имеющую набор перфораций, через который направляют указанный газ-реагент.
22. Способ по п. 20, отличающийся тем, что дополнительно устанавливают плоскую крышку над указанным выпускным каналом направляющей конструкции, имеющую по меньшей мере одно отверстие, через которое направляют указанный газ-реагент, причем указанную плоскую крышку уплотняют с указанным выпускным каналом направляющей конструкции.
23. Способ по п. 20, отличающийся тем, что в печи устанавливают токоприемник, имеющий стенку, в зоне которой часть указанной герметичной направляющей конструкции оставляют открытой.
24. Способ по п. 20, отличающийся тем, что в печи устанавливают токоприемник, имеющий основание, на которое помещают указанную герметичную канальную структуру.
25. Способ по п. 24, отличающийся тем, что указанные газоввод и герметичную канальную структуру уплотняют с указанным основанием токоприемника.
26. Способ по п. 25, отличающийся тем, что между указанными герметичной канальной структурой и основанием токоприемника устанавливают уплотнительную сжимаемую прокладку.
27. Способ по п. 20, отличающийся тем, что указанная герметичная канальная структура содержит по меньшей мере два элемента, образующие уплотненные соединения.
28. Способ по п. 24, отличающийся тем, что указанную герметичную направляющую конструкцию помещают на указанную герметичную канальную структуру.
29. Способ по п. 20, отличающийся тем, что в печи устанавливают токоприемник, имеющий основание, на которое опирается указанная герметичная канальная структура, а указанная герметичная направляющая конструкция опирается на указанную герметичную канальную структуру, при этом устанавливают плоскую крышку над указанным выпускным каналом направляющей конструкции, имеющую по меньшей мере одно отверстие, через которое направляют газ из указанного выпускного канала направляющей конструкции, причем указанную плоскую крышку уплотняют с указанным выпускным каналом и она опирается на указанную герметичную канальную структуру.
30. Способ по п. 20, отличающийся тем, что указанная герметичная направляющая конструкция содержит по меньшей мере одну перфорированную пластину.
31. Способ по п. 20, отличающийся тем, что указанную герметичную направляющую конструкцию снабжают разнесенными параллельными перфорированными пластинами.
32. Способ по п. 31, отличающийся тем, что каждая перфорированная пластина содержит набор перфораций, причем указанные перфорации одной перфорированной пластины не совмещены с указанными перфорациями смежной перфорированной пластины.
33. Способ по п. 32, отличающийся тем, что указанные перфорированные пластины уплотняют по периметру.
34. Способ по п. 20, отличающийся тем, что указанная герметичная направляющая конструкция содержит набор, собранных в пакет, смежных перфорированных пластин, определяющих периметр герметичной направляющей конструкции, при этом устанавливают уплотнительные сжимаемые прокладки, расположенные по указанному периметру герметичной направляющей конструкции между каждой парой смежных перфорированных пластин.
35. Способ по п. 24, отличающийся тем, что указанная герметичная канальная структура имеет уступ, на который опирается указанная герметичная направляющая конструкция, содержащая набор собранных в пакет смежных перфорированных пластин, определяющих периметр герметичной направляющей конструкции, при этом устанавливают по меньшей мере первую уплотнительную сжимаемую прокладку, расположенную по указанному периметру между каждой парой смежных перфорированных пластин, и по меньшей мере вторую уплотнительную сжимаемую прокладку, расположенную между указанными уступом и герметичной направляющей конструкцией.
36. Способ по п. 20, отличающийся тем, что предусматривают по меньшей мере второй газоввод для подачи газа-реагента в указанную печь, а способ дополнительно включает в себя ввод указанного газа-реагента из указанного второго газоввода в по меньшей мере расположенный в печи второй подогреватель газа, имеющий вторую герметичную направляющую конструкцию с впускным и выпусным каналами, расположенную в указанной печи, и вторую герметичную канальную структуру, уплотненную с указанными вторым газовводом и впускным каналом второй направляющей конструкции, при этом направляют указанный газ-реагент, вводимый из второго газоввода, в указанный впускной канал второй направляющей конструкции, через указанную вторую герметичную направляющую конструкцию и из указанного выпускного канала второй направляющей конструкции.
37. Способ по п. 36, отличающийся тем, что устанавливают по меньшей мере вторую плоскую крышку над указанным выпускным каналом второй направляющей конструкции, имеющую набор перфораций.
38. Способ по п. 36, отличающийся тем, что устанавливают по меньшей мере вторую плоскую крышку над указанным выпускным каналом второй направляющей конструкции, имеющую по меньшей мере одно отверстие и уплотненную с указанным выпускным каналом с обеспечением прохождения практически всего газа из указанного выпускного канала второй направляющей конструкции через указанное по меньшей мере одно отверстие.
39. Фиксатор пористых структур для уплотнения внутри печи в процессе инфильтрации газовой фазы химического вещества и химического осаждения из газовой фазы при градиенте давления, выполненных в виде пакета пористых структур, каждая из которых имеет сквозное отверстие, содержащий скрепленные между собой распорными элементами пластины, отличающийся тем, что он включает в себя базовую пластину, выполненную с возможностью крепления внутри печи и имеющую сквозное отверстие, верхнюю пластину, отстоящую от указанной базовой пластины и обращенную к ней, распорную конструкцию, расположенную между указанными базовой и верхней пластинами и соединенную с ними, при этом между указанными базовой и верхней пластинами установлен указанный пакет пористых структур, одна из которых смежна указанной базовой пластине, а другая - указанной верхней пластине, причем имеется также по меньшей мере одна кольцеобразная прокладка, расположенная в указанном пакете пористых структур между каждой парой соседних пористых структур и окружающая отверстия соседних пористых структур, при этом указанные базовая пластина, пакет пористых структур и по меньшей мере одна кольцеобразная прокладка образуют закрытую полость, проходящую от указанного отверстия базовой пластины, включающую в себя отверстие каждой пористой структуры и заканчивающуюся вблизи указанной верхней пластины.
40. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что по меньшей мере одна из указанных кольцеобразных прокладок расположена вокруг указанного отверстия базовой пластины между этой пластиной и смежной к ней указанной пористой структурой.
41. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что по меньшей мере одна из указанных кольцеобразных прокладок расположена между указанной верхней пластиной и смежной к ней пористой структурой.
42. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что указанная верхняя пластина имеет сквозное отверстие а, он дополнительно содержит плоскую крышку, закрывающую выполненное в верхней пластине отверстие, и уплотнение, расположенное между указанными плоской крышкой и верхней пластиной и окружающее указанное отверстие верхней пластины, причем указанные плоская крышка и уплотнение расположены у конца указанной закрытой полости.
43. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что каждая кольцеобразная прокладка имеет две, как правило, параллельные кольцевые стороны, отстоящие друг от друга и обращенные к соседним выполненным податливыми пористым структурам, прижатым к указанной кольцеобразной прокладке.
44. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что каждая кольцеобразная прокладка имеет две параллельные кольцевые стороны, отстоящие друг от друга и обращенные к указанным соседним пористым структурам, и он дополнительно содержит эластичные графитовые уплотнения по меньшей мере одно из которых расположено смежно каждой кольцевой стороне и каждое уплотнение прижато к указанной соседней кольцеобразной прокладке.
45. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что указанный пакет выполненных податливыми пористых структур расположен в сжатом состоянии между указанными базовой и верхней пластинами.
46. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что указанная распорная конструкция содержит стойки, расположенные вокруг пакета пористых структур и проходящими между указанными базовой и верхней пластинами.
47. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что указанная распорная конструкция выполнена с возможностью раздельного соединения с верхней пластиной для обеспечения выдвижения этой пластины из указанной распорной конструкции, при этом указанные базовая пластина, распорная конструкция и верхняя пластина установлены с обеспечением действия силы тяжести на указанную верхнюю пластину по направлению к указанной базовой пластине без смещения указанной верхней пластины из указанной распорной конструкции.
48. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что он дополнительно содержит груз, опирающийся на указанную верхнюю пластину.
49. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что он дополнительно скрепляет по меньшей мере второй пакет пористых структур, каждая из которых имеет сквозное отверстие, при этом указанная базовая пластина имеет по меньшей мере второе отверстие, а между указанными базовой и верхней пластинами расположен указанный второй пакет пористых структур, одна из которых смежна указанной базовой пластине, а другая - указанной верхней пластине, причем в указанном пакете пористых структур между каждой парой соседних вторых пористых структур расположена по меньшей мере одна вторая кольцеобразная прокладка, окружающая указанные отверстия соседних вторых пористых структур, при этом указанные базовая пластина, второй пакет пористых структур и по меньшей мере одна вторая кольцеобразная прокладка образуют вторую закрытую полость, проходящую от указанного отверстия базовой пластины, включающую в себя каждое отверстие вторых пористых структур и заканчивающуюся вблизи указанной верхней пластины.
50. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что указанная распорная конструкция содержит по меньшей мере одну промежуточную пластину, расположенную между указанными базовой и верхней пластинами и разделяющую пакет пористых структур, причем каждая промежуточная пластина расположена между парой пористых структур и имеет сквозное отверстие, образующее часть указанной закрытой полости.
51. Фиксатор по п. 50, отличающийся тем, что он дополнительно содержит по меньшей мере одну из указанных кольцеобразных прокладок, расположенных на каждой стороне указанными промежуточной пластины между указанными промежуточной пластиной и пористыми структурами.
52. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что наружный диаметр по меньшей мере одной пористой структуры больше наружного диаметра по меньшей мере одной кольцеобразной прокладки.
53. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что внутренний диаметр отверстия пористой структуры меньше внутреннего диаметра отверстия по меньшей мере одной кольцеобразной прокладки.
54. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что внутренний диаметр каждой пористой структуры меньше внутреннего диаметра прокладки.
55. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что внутренний диаметр прокладки меньше наружного диаметра пористой структуры.
56. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что каждая пористая структура выполнена кольцеобразной с наружным и внутренним диаметрами, а в указанном пакете пористых структур установлены кольцеобразные прокладки по внутреннему диаметру, чередующиеся с кольцеобразными прокладками по наружному диаметру, причем каждая кольцеобразная прокладка по наружному диаметру имеет внутренний диаметр несколько меньший наружного диаметра пористой структуры и наружный диаметр, равный наружному диаметру пористой структуры, а каждая кольцеобразная прокладка по внутреннему диаметру имеет наружный диаметр, больший внутреннего диаметра пористой структуры и внутренний диаметр, равный внутреннему диаметру пористой структуры.
57. Фиксатор по п. 39, отличающийся тем, что каждая пористая структура выполнена кольцеобразной с внутренним диаметром, а в указанном пакете пористых структур установлены все кольцеобразные прокладки по внутреннему диаметру, каждая из которых имеет наружный диаметр, больший внутреннего диаметра пористой структуры и внутренний диаметр, равный внутреннему диаметру пористой структуры.
58. Способ сборки фиксатора вместе с пористыми структурами, имеющими сквозное отверстие, для уплотнения в процессе инфильтрации газовой фазы химического вещества и химического осаждения из газовой фазы, включающий в себя сборку указанных пористых структур и кольцеобразных прокладок в пакет, отличающийся тем, что каждую кольцеобразную прокладку располагают между каждой смежной парой пористых структур, а способ включает в себя установку указанного пакета пористых структур между базовой и верхней пластинами, первая из которых имеет сквозное отверстие, при этом указанные базовая пластина, пакет пористых структур и по меньшей мере одна кольцеобразная прокладка образуют закрытую полость, проходящую от указанного отверстия базовой пластины, включающую в себя отверстие каждой пористой структуры и заканчивающуюся вблизи указанной верхней пластины, а также установку распорной конструкции вокруг указанного пакета пористых структур между указанными базовой и верхней пластинами, причем указанная распорная конструкция соединяется с указанными базовой и верхней пластинами.
59. Способ по п. 58, отличающийся тем, что кольцеобразная прокладка содержит кольцо смежное наружному диаметру пористой структуры.
60. Способ по п. 58, отличающийся тем, что размещают указанный пакет выполненных податливыми пористых структур сжатым между указанными противоположными пластинами со смещением этих пластин на расстояние по направлению друг к другу, что уменьшает высоту пакета пористых структур.
61. Способ по п. 60, отличающийся тем, что указанной распорной конструкцией образуют упор с ограничением указанного расстояния.
62. Способ по п. 61, отличающийся тем, что осуществляют регулировку указанного заданного расстояния посредством регулировки указанного упора.
63. Способ по п. 62, отличающийся тем, что регулировку указанного упора осуществляют с помощью регулировочных шайб.
64. Способ по п. 58, отличающийся тем, что каждую пористую структуру выполняют кольцеобразной с наружным диаметром, а в указанном пакете пористых структур устанавливают все кольцеобразные прокладки по наружному диаметру, причем каждая кольцеобразная прокладка имеет внутренний диаметр, меньший наружного диаметра пористой структуры, и наружный диаметр, равный наружному диаметру пористой структуры.
65. Способ по п. 58, отличающийся тем, что каждая пористая структура выполнена кольцеобразной и имеет наружный и внутренний диаметры, а в указанном пакете пористых структур установлены кольцеобразные прокладки по внутреннему диаметру, чередующиеся с кольцеобразными прокладками по наружному диаметру, причем каждая кольцеобразная прокладка по наружному диаметру имеет внутренний диаметр, меньший наружного диаметра пористой структуры, и наружный диаметр, равный наружному диаметру пористой структуры, и каждая кольцеобразная прокладка по внутреннему диаметру имеет наружный диаметр, больший внутреннего диаметра пористой структуры, и внутренний диаметр, равный внутреннему диаметру пористой структуры.
66. Способ по п. 58, отличающийся тем, что каждая пористая структура выполнена кольцеобразной и имеет внутренний диаметр, а в указанном пакете пористых структур установлены все кольцеобразные прокладки по внутреннему диаметру, причем каждая кольцеобразная прокладка по внутреннему диаметру имеет наружный диаметр, больший внутреннего диаметра пористой структуры, и внутренний диаметр, равный внутреннему диаметру пористой структуры.
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/340,677 | 1994-11-16 | ||
| US08/340677 | 1994-11-16 | ||
| US08/340,677 US5480678A (en) | 1994-11-16 | 1994-11-16 | Apparatus for use with CVI/CVD processes |
| PCT/US1995/015501 WO1996015288A2 (en) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Apparatus for use with cvi/cvd processes |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU97110202A true RU97110202A (ru) | 1999-05-27 |
| RU2146304C1 RU2146304C1 (ru) | 2000-03-10 |
Family
ID=23334475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU97110202A RU2146304C1 (ru) | 1994-11-16 | 1995-11-16 | Устройство предварительного нагрева для печи инфильтрации и осаждения из газовой фазы, способ ввода газа-реагента в вышеназванную печь, фиксатор пористых структур и способ сборки фиксатора вместе с пористыми структурами |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5480678A (ru) |
| EP (2) | EP0792385B1 (ru) |
| JP (2) | JP3759166B2 (ru) |
| KR (1) | KR100389503B1 (ru) |
| CN (2) | CN1298888C (ru) |
| AT (2) | ATE183552T1 (ru) |
| AU (1) | AU4370996A (ru) |
| CA (1) | CA2205139C (ru) |
| DE (2) | DE69511573T2 (ru) |
| DK (1) | DK0792385T3 (ru) |
| ES (1) | ES2137561T3 (ru) |
| RU (1) | RU2146304C1 (ru) |
| WO (1) | WO1996015288A2 (ru) |
Families Citing this family (113)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100389502B1 (ko) | 1994-11-16 | 2003-10-22 | 굿리치 코포레이션 | 압력구배화학기상침투및화학기상증착장치,방법및이에의한생성물 |
| FR2733254B1 (fr) * | 1995-04-18 | 1997-07-18 | Europ Propulsion | Procede d'infiltration chimique en phase vapeur pour la densification de substrats poreux disposes en piles annulaires |
| US5916633A (en) * | 1995-05-19 | 1999-06-29 | Georgia Tech Research Corporation | Fabrication of carbon/carbon composites by forced flow-thermal gradient chemical vapor infiltration |
| US5743967A (en) * | 1995-07-13 | 1998-04-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co. | Low pressure CVD apparatus |
| US5908792A (en) | 1995-10-04 | 1999-06-01 | The B. F. Goodrich Company | Brake disk having a functional gradient Z-fiber distribution |
| US6083560A (en) * | 1995-11-16 | 2000-07-04 | Alliant Techsystems Inc | Process for controlled deposition profile forced flow chemical vapor infiltration |
| FR2754813B1 (fr) * | 1996-10-18 | 1999-01-15 | Europ Propulsion | Densification de substrats poreux disposes en piles annulaires par infiltration chimique en phase vapeur a gradient de temperature |
| DE19646094C2 (de) | 1996-11-08 | 1999-03-18 | Sintec Keramik Gmbh | Verfahren zur chemischen Gasphaseninfiltration von refraktären Stoffen, insbesondere Kohlenstoff und Siliziumkarbid, sowie Verwendung des Verfahrens |
| US6161500A (en) * | 1997-09-30 | 2000-12-19 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for preventing the premature mixture of reactant gases in CVD and PECVD reactions |
| US6062851A (en) * | 1998-10-23 | 2000-05-16 | The B. F. Goodrich Company | Combination CVI/CVD and heat treat susceptor lid |
| US7476419B2 (en) * | 1998-10-23 | 2009-01-13 | Goodrich Corporation | Method for measurement of weight during a CVI/CVD process |
| US6669988B2 (en) * | 2001-08-20 | 2003-12-30 | Goodrich Corporation | Hardware assembly for CVI/CVD processes |
| US6440220B1 (en) | 1998-10-23 | 2002-08-27 | Goodrich Corporation | Method and apparatus for inhibiting infiltration of a reactive gas into porous refractory insulation |
| US6352430B1 (en) | 1998-10-23 | 2002-03-05 | Goodrich Corporation | Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace |
| US6162298A (en) * | 1998-10-28 | 2000-12-19 | The B. F. Goodrich Company | Sealed reactant gas inlet for a CVI/CVD furnace |
| KR20000046418A (ko) * | 1998-12-31 | 2000-07-25 | 추호석 | 브레이크 디스크의 제조방법 |
| US6499425B1 (en) * | 1999-01-22 | 2002-12-31 | Micron Technology, Inc. | Quasi-remote plasma processing method and apparatus |
| US6639196B1 (en) | 1999-06-04 | 2003-10-28 | Goodrich Corporation | Method and apparatus for cooling a CVI/CVD furnace |
| DE60013208T2 (de) | 1999-06-04 | 2005-08-11 | Goodrich Corp. | Suzeptordeckel sowohl für Gasphaseninfiltration bzw. -Beschichtung als auch Wärmebehandlung |
| US6383298B1 (en) | 1999-06-04 | 2002-05-07 | Goodrich Corporation | Method and apparatus for pressure measurement in a CVI/CVD furnace |
| ATE350358T1 (de) | 2000-09-29 | 2007-01-15 | Goodrich Corp | Verbundwerkstoffe mit keramischer matrix auf borcarbidbasis |
| US7378362B2 (en) * | 2000-09-29 | 2008-05-27 | Goodrich Corporation | Boron carbide based ceramic matrix composites |
| US6878206B2 (en) * | 2001-07-16 | 2005-04-12 | Applied Materials, Inc. | Lid assembly for a processing system to facilitate sequential deposition techniques |
| FR2821859B1 (fr) * | 2001-03-06 | 2004-05-14 | Snecma Moteurs | Procede pour la densification par infiltration chimique en phase vapeur de substrats poreux ayant un passage central |
| US6758909B2 (en) | 2001-06-05 | 2004-07-06 | Honeywell International Inc. | Gas port sealing for CVD/CVI furnace hearth plates |
| KR100400044B1 (ko) * | 2001-07-16 | 2003-09-29 | 삼성전자주식회사 | 간격 조절 장치를 가지는 웨이퍼 처리 장치의 샤워 헤드 |
| US6793966B2 (en) * | 2001-09-10 | 2004-09-21 | Howmet Research Corporation | Chemical vapor deposition apparatus and method |
| US7017514B1 (en) * | 2001-12-03 | 2006-03-28 | Novellus Systems, Inc. | Method and apparatus for plasma optimization in water processing |
| US6953605B2 (en) * | 2001-12-26 | 2005-10-11 | Messier-Bugatti | Method for densifying porous substrates by chemical vapour infiltration with preheated gas |
| US20040250763A1 (en) * | 2002-01-11 | 2004-12-16 | Ovshinsky Stanford R. | Fountain cathode for large area plasma deposition |
| FR2834713B1 (fr) | 2002-01-15 | 2004-04-02 | Snecma Moteurs | Procede et installation pour la densification de substrats par infiltration chimique en phase vapeur |
| US6572371B1 (en) | 2002-05-06 | 2003-06-03 | Messier-Bugatti | Gas preheater and process for controlling distribution of preheated reactive gas in a CVI furnace for densification of porous annular substrates |
| JP4338355B2 (ja) * | 2002-05-10 | 2009-10-07 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
| US6657905B1 (en) * | 2002-05-17 | 2003-12-02 | Micron Technology, Inc. | Clamping circuit for the Vpop voltage used to program antifuses |
| US20050121143A1 (en) * | 2002-05-23 | 2005-06-09 | Lam Research Corporation | Pump baffle and screen to improve etch uniformity |
| FR2842193B1 (fr) * | 2002-07-12 | 2004-10-01 | Messier Bugatti | Procede et installation pour le traitement thermique a haute temperature et la densification par infiltration chimique en phase vapeur de textures en carbone |
| DE60321535D1 (de) * | 2002-10-24 | 2008-07-24 | Goodrich Corp | Verfahren und Vorrichtung zur stückweisen und zur kontinuierlichen Verdichtung durch chemische Dampfphaseninfitration (CVI) |
| UA84862C2 (en) * | 2003-03-03 | 2008-12-10 | Месье-Бугатти | Substrate |
| US7335397B2 (en) * | 2004-02-16 | 2008-02-26 | Goodrich Corporation | Pressure gradient CVI/CVD apparatus and method |
| US20060029804A1 (en) * | 2004-08-03 | 2006-02-09 | Klett James W | Continuous flow closed-loop rapid liquid-phase densification of a graphitizable carbon-carbon composite |
| US7332195B2 (en) * | 2004-08-26 | 2008-02-19 | Honeywell International Inc. | Chemical vapor deposition method |
| US20060054090A1 (en) * | 2004-09-15 | 2006-03-16 | Applied Materials, Inc. | PECVD susceptor support construction |
| US20060054758A1 (en) * | 2004-09-16 | 2006-03-16 | Simpson Allen H | Fixture for holding a preform during a heating process |
| US7572340B2 (en) * | 2004-11-29 | 2009-08-11 | Applied Materials, Inc. | High resolution substrate holder leveling device and method |
| FR2882064B1 (fr) * | 2005-02-17 | 2007-05-11 | Snecma Propulsion Solide Sa | Procede de densification de substrats poreux minces par infiltration chimique en phase vapeur et dispositif de chargement de tels substrats |
| US20060194060A1 (en) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Honeywell International | Furnace spacers for spacing preforms in a furnace |
| US20060194059A1 (en) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Honeywell International Inc. | Annular furnace spacers and method of using same |
| US20060254162A1 (en) * | 2005-04-21 | 2006-11-16 | Deslauriers, Inc. | Shim having through openings |
| US8057855B1 (en) | 2005-05-31 | 2011-11-15 | Goodrich Corporation | Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method |
| US7691443B2 (en) * | 2005-05-31 | 2010-04-06 | Goodrich Corporation | Non-pressure gradient single cycle CVI/CVD apparatus and method |
| US7442443B2 (en) | 2005-05-31 | 2008-10-28 | Goodrich Corporation | Chromium-nickel stainless steel alloy article having oxide coating formed from the base metal suitable for brake apparatus |
| US20070014990A1 (en) * | 2005-07-14 | 2007-01-18 | Honeywell International Inc. | Support structure for radiative heat transfer |
| KR100792396B1 (ko) * | 2005-10-11 | 2008-01-08 | 주식회사 유진테크 | 파티션 구조형 가열유닛과 이를 이용한 히팅장치 |
| US8673188B2 (en) * | 2006-02-14 | 2014-03-18 | Goodrich Corporation | Carbon-carbon parts and methods for making same |
| US7811085B2 (en) * | 2006-05-04 | 2010-10-12 | Honeywell International Inc. | Gas preheater for chemical vapor processing furnace |
| US20070269597A1 (en) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Honeywell International Inc. | Modified CVD cooling loop |
| US7771194B2 (en) * | 2006-05-26 | 2010-08-10 | Honeywell International Inc. | Gas preheater for chemical vapor processing furnace having circuitous passages |
| EP2052100B1 (de) * | 2006-08-07 | 2014-05-21 | Behr GmbH & Co. KG | Verfahren zum herstellen von bauteilen in einem mediumkreislauf, wie insbesondere eines wärmeübertragers |
| FR2919309B1 (fr) | 2007-07-25 | 2011-07-22 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif d'infiltration d'une structure en materiau poreux par depot chimique en phase vapeur. |
| US8105649B1 (en) | 2007-08-09 | 2012-01-31 | Imaging Systems Technology | Fabrication of silicon carbide shell |
| WO2009072187A1 (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-11 | Full-Tech Co., Ltd. | 加圧ガスパルス制御処理方法及び加圧ガスパルス制御処理装置 |
| US8132442B2 (en) * | 2008-09-22 | 2012-03-13 | Siemens Energy, Inc. | Compressible ceramic seal |
| AU2009319350B2 (en) * | 2008-11-28 | 2015-10-29 | Volker Probst | Method for producing semiconductor layers and coated substrates treated with elemental selenium and/or sulfur, in particular flat substrates |
| US8293013B2 (en) * | 2008-12-30 | 2012-10-23 | Intermolecular, Inc. | Dual path gas distribution device |
| KR200475462Y1 (ko) * | 2009-03-27 | 2014-12-03 | 램 리써치 코포레이션 | 플라즈마 처리 장치의 교체 가능한 상부 챔버 섹션 |
| US10655219B1 (en) * | 2009-04-14 | 2020-05-19 | Goodrich Corporation | Containment structure for creating composite structures |
| US10689753B1 (en) * | 2009-04-21 | 2020-06-23 | Goodrich Corporation | System having a cooling element for densifying a substrate |
| MY179709A (en) | 2009-09-10 | 2020-11-11 | Lam Res Corp | Replaceable upper chamber parts of plasma processing apparatus |
| US20110064891A1 (en) * | 2009-09-16 | 2011-03-17 | Honeywell International Inc. | Methods of rapidly densifying complex-shaped, asymmetrical porous structures |
| US9449859B2 (en) * | 2009-10-09 | 2016-09-20 | Applied Materials, Inc. | Multi-gas centrally cooled showerhead design |
| CN101831623B (zh) * | 2010-05-28 | 2011-12-07 | 湖南金博复合材料科技有限公司 | 化学气相增密炉炉膛 |
| WO2012030792A1 (en) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | First Solar, Inc. | Vapor deposition system |
| JP2012195565A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-10-11 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置、基板処理方法及び半導体装置の製造方法 |
| US9644285B2 (en) | 2011-08-22 | 2017-05-09 | Soitec | Direct liquid injection for halide vapor phase epitaxy systems and methods |
| US20130052806A1 (en) * | 2011-08-22 | 2013-02-28 | Soitec | Deposition systems having access gates at desirable locations, and related methods |
| TWI505400B (zh) * | 2011-08-26 | 2015-10-21 | Lg Siltron Inc | 基座 |
| FR2980486B1 (fr) * | 2011-09-28 | 2013-10-11 | Snecma Propulsion Solide | Dispositif de chargement pour la densification par infiltration chimique en phase vapeur en flux dirige de substrats poreux de forme tridimensionnelle |
| CN102363878B (zh) * | 2011-11-10 | 2014-09-10 | 西安航空制动科技有限公司 | 一种化学气相沉积炉预热装置 |
| DE102012100176B4 (de) | 2012-01-10 | 2016-11-17 | Cvt Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur chemischen Gasphaseninfiltration von wenigstens einem refraktären Stoff |
| FR2993044B1 (fr) * | 2012-07-04 | 2014-08-08 | Herakles | Dispositif de chargement et installation pour la densification de preformes poreuses tronconiques et empilables |
| FR2993555B1 (fr) * | 2012-07-19 | 2015-02-20 | Herakles | Installation d'infiltration chimique en phase vapeur a haute capacite de chargement |
| US11326255B2 (en) * | 2013-02-07 | 2022-05-10 | Uchicago Argonne, Llc | ALD reactor for coating porous substrates |
| US10107506B2 (en) * | 2013-04-03 | 2018-10-23 | Trane International Inc. | Heat exchanger with differentiated resistance flowpaths |
| US9964333B2 (en) * | 2013-05-28 | 2018-05-08 | Trane International Inc. | System and method for furnace fluid flow management |
| FR3007511B1 (fr) * | 2013-06-19 | 2017-09-08 | Herakles | Installation pour traitements thermiques de produits en materiau composite comprenant des moyens de mesure de temperature delocalises |
| US9605345B2 (en) * | 2013-08-23 | 2017-03-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Vertical furnace for improving wafer uniformity |
| KR102162366B1 (ko) * | 2014-01-21 | 2020-10-06 | 우범제 | 퓸 제거 장치 |
| FR3018526B1 (fr) * | 2014-03-14 | 2021-06-11 | Herakles | Installation de densification cvi comprenant une zone de prechauffage a forte capacite |
| US9964332B2 (en) * | 2014-03-27 | 2018-05-08 | Lam Research Corporation | Systems and methods for bulk vaporization of precursor |
| CN104034159B (zh) * | 2014-06-06 | 2016-01-20 | 西安航空制动科技有限公司 | 一种c/c复合材料沉积炉 |
| US10982319B2 (en) | 2015-08-21 | 2021-04-20 | Flisom Ag | Homogeneous linear evaporation source |
| TWI624554B (zh) * | 2015-08-21 | 2018-05-21 | 弗里松股份有限公司 | 蒸發源 |
| US9963779B2 (en) | 2016-02-29 | 2018-05-08 | Goodrich Corporation | Methods for modifying pressure differential in a chemical vapor process |
| US10407769B2 (en) * | 2016-03-18 | 2019-09-10 | Goodrich Corporation | Method and apparatus for decreasing the radial temperature gradient in CVI/CVD furnaces |
| JP6610806B2 (ja) * | 2016-10-14 | 2019-11-27 | 株式会社Ｉｈｉ | 気相プロセス用再熱捕集装置 |
| RU2665860C2 (ru) * | 2016-11-30 | 2018-09-04 | Вячеслав Максимович Бушуев | Способ металлирования крупногабаритных заготовок в реакторе установки для объемного металлирования, конструкция реактора и способ его изготовления |
| FR3059679B1 (fr) * | 2016-12-07 | 2021-03-12 | Safran Ceram | Outillage de conformation et installation pour l'infiltration chimique en phase gazeuse de preformes fibreuses |
| RU2665646C2 (ru) * | 2016-12-26 | 2018-09-03 | Вячеслав Максимович Бушуев | Футеровка корпуса реактора установок для металлирования заготовок |
| CN108680009A (zh) * | 2018-05-07 | 2018-10-19 | 西安航空制动科技有限公司 | 一种碳/碳复合材料的防氧化涂层热处理设备及方法 |
| KR102576220B1 (ko) * | 2018-06-22 | 2023-09-07 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 처리 장치 및 박막 처리 방법 |
| FR3084672B1 (fr) * | 2018-08-03 | 2020-10-16 | Safran Ceram | Procede de densification par infiltration chimique en phase gazeuse de substrats annulaires poreux |
| CN109279908B (zh) * | 2018-10-30 | 2021-06-01 | 中南大学 | 一种制备超薄碳/碳复合材料面板的夹具 |
| IT201800009953A1 (it) | 2018-10-31 | 2020-05-01 | Petroceramics Spa | Metodo ed un assieme di infiltrazione e la deposizione rapida da fase vapore di componenti porosi |
| EP3647459A1 (en) | 2018-10-31 | 2020-05-06 | Petroceramics S.p.A. | Method and an assembly by chemical vapor infiltration of porous components |
| EP3887562A4 (en) * | 2018-11-30 | 2022-08-24 | Ferrotec (USA) Corporation | CRUCIBLE LID FOR COATING WITH AN ELECTRON BEAM SOURCE |
| US11111578B1 (en) | 2020-02-13 | 2021-09-07 | Uchicago Argonne, Llc | Atomic layer deposition of fluoride thin films |
| US11691924B2 (en) | 2020-02-21 | 2023-07-04 | Raytheon Technologies Corporation | CVI matrix densification process |
| CN113248272B (zh) * | 2021-05-11 | 2022-06-21 | 广州三的投资管理企业（有限合伙） | 一种碳陶摩擦材料的制备方法和应用 |
| US12000046B1 (en) * | 2021-12-29 | 2024-06-04 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Load assemblies for loading parts in a furnace |
| US11932941B1 (en) | 2021-12-29 | 2024-03-19 | Rolls-Royce High Temperature Composites, Inc. | Load assemblies for loading parts in a furnace |
| US11901169B2 (en) | 2022-02-14 | 2024-02-13 | Uchicago Argonne, Llc | Barrier coatings |
| CN115094402B (zh) * | 2022-06-24 | 2023-04-11 | 清华大学 | 一种立式双温区-双通道化学气相沉积设备 |
| US11993548B2 (en) | 2022-09-30 | 2024-05-28 | Rtx Corporation | Minimization of chemical vapor infiltration tooling hole length through windows |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3991248A (en) * | 1972-03-28 | 1976-11-09 | Ducommun Incorporated | Fiber reinforced composite product |
| US3895084A (en) * | 1972-03-28 | 1975-07-15 | Ducommun Inc | Fiber reinforced composite product |
| GB1586959A (en) * | 1976-08-11 | 1981-03-25 | Dunlop Ltd | Method and apparatus for the production of carbon/carbon composite material |
| US4580524A (en) * | 1984-09-07 | 1986-04-08 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Process for the preparation of fiber-reinforced ceramic composites by chemical vapor deposition |
| US4590042A (en) * | 1984-12-24 | 1986-05-20 | Tegal Corporation | Plasma reactor having slotted manifold |
| US4612077A (en) * | 1985-07-29 | 1986-09-16 | The Perkin-Elmer Corporation | Electrode for plasma etching system |
| JPS63295476A (ja) * | 1987-05-28 | 1988-12-01 | Nippon Steel Corp | 炭素繊維強化炭素材料の製造方法 |
| US4895108A (en) * | 1988-06-22 | 1990-01-23 | The Babcock & Wilcox Company | CVD apparatus and process for the preparation of fiber-reinforced ceramic composites |
| JPH0273624A (ja) * | 1988-09-08 | 1990-03-13 | Fujitsu Ltd | Ｃｖｄ用ガス導入装置 |
| JPH0373527A (ja) * | 1989-08-14 | 1991-03-28 | Fujitsu Ltd | 化学気相成長装置 |
| JP2849606B2 (ja) * | 1990-08-29 | 1999-01-20 | 京セラ株式会社 | 気相含浸法およびその装置 |
| FR2671797B1 (fr) * | 1991-01-18 | 1994-02-25 | Propulsion Ste Europeenne | Procede de densification d'un substrat poreux par une matrice contenant du carbone. |
| US5362228A (en) * | 1991-11-04 | 1994-11-08 | Societe Europeenne De Propulsion | Apparatus for preheating a flow of gas in an installation for chemical vapor infiltration, and a densification method using the apparatus |
| US5447568A (en) * | 1991-12-26 | 1995-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Chemical vapor deposition method and apparatus making use of liquid starting material |
| US5389152A (en) * | 1992-10-09 | 1995-02-14 | Avco Corporation | Apparatus for densification of porous billets |
| US5348774A (en) * | 1993-08-11 | 1994-09-20 | Alliedsignal Inc. | Method of rapidly densifying a porous structure |
| JP3468859B2 (ja) * | 1994-08-16 | 2003-11-17 | 富士通株式会社 | 気相処理装置及び気相処理方法 |
-
1994
- 1994-11-16 US US08/340,677 patent/US5480678A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-11-16 WO PCT/US1995/015501 patent/WO1996015288A2/en active IP Right Grant
- 1995-11-16 KR KR1019970703374A patent/KR100389503B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-11-16 JP JP51636896A patent/JP3759166B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-16 AT AT95942504T patent/ATE183552T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-11-16 DK DK95942504T patent/DK0792385T3/da active
- 1995-11-16 RU RU97110202A patent/RU2146304C1/ru active
- 1995-11-16 ES ES95942504T patent/ES2137561T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-16 EP EP95942504A patent/EP0792385B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-16 EP EP97119952A patent/EP0846787B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-16 DE DE69511573T patent/DE69511573T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-16 CA CA002205139A patent/CA2205139C/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-16 CN CNB2003101180997A patent/CN1298888C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-16 AT AT97119952T patent/ATE202805T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-11-16 CN CNB951968750A patent/CN1136335C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-11-16 DE DE69521630T patent/DE69521630T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-16 AU AU43709/96A patent/AU4370996A/en not_active Abandoned
-
1997
- 1997-11-10 US US08/966,612 patent/US6109209A/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-10-28 JP JP2005314678A patent/JP2006097136A/ja not_active Ceased
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU97110202A (ru) | Устройство предварительного нагрева для печи инфильтрации и осаждения из газовой фазы, способ ввода газа-реагента в вышеназванную печь, фиксатор пористых структур и способ сборки фиксатора вместе с пористыми структурами | |
| KR970707318A (ko) | 화학 증기 침투 및 화학 증착 공정용 장치(apparatus for use with cvi/cvd processes) | |
| FI84979B (fi) | Filter foer separering av partiklar fraon en het gasstroem. | |
| RU2315821C2 (ru) | Подогреватель газа | |
| US5180561A (en) | Plate type reformer assembly | |
| WO2020135152A1 (zh) | 电池箱 | |
| JP2846241B2 (ja) | 燃料タンク通気用の活性炭フィルタ | |
| BG61742B1 (bg) | Устройство за извеждане на газове, отделяни в акумулаторнибатерии | |
| EP0501733A1 (en) | Exhaust emission control device | |
| WO2022086022A1 (ko) | 유동 균일화가 가능한 매연저감장치 | |
| JP2008106663A (ja) | 内燃機関における排気浄化装置 | |
| US4016045A (en) | Coke oven door sealing system | |
| KR101554102B1 (ko) | 활성탄 카트리지 재생장치 | |
| US5464346A (en) | Infra-red heater for treating substrates | |
| CN212119474U (zh) | 一种气体吸附塔填料支撑结构 | |
| KR102537046B1 (ko) | 배터리팩용 벤팅밸브 | |
| AU2835001A (en) | Coke oven door with gas channel and door sealing strip | |
| JPS59185937A (ja) | 強制空冷式複合湯沸器 | |
| US6935318B2 (en) | Evaporated fuel processing device | |
| KR20150139703A (ko) | 활성탄 카트리지 | |
| CN220135481U (zh) | 一种co催化燃烧炉用活性炭吸附脱附箱 | |
| US5421847A (en) | Dust collecting apparatus for high-temperature gas | |
| EP0856647A1 (en) | Muffler with stamped internal plates defining tubes and separating chambers | |
| KR20110047023A (ko) | 코크스 오븐용 장입장치 | |
| CN219217903U (zh) | 一种集尘装置及焦炉 |