RU2206186C2 - Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации - Google Patents

Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации Download PDF

Info

Publication number
RU2206186C2
RU2206186C2 RU2000117336/09A RU2000117336A RU2206186C2 RU 2206186 C2 RU2206186 C2 RU 2206186C2 RU 2000117336/09 A RU2000117336/09 A RU 2000117336/09A RU 2000117336 A RU2000117336 A RU 2000117336A RU 2206186 C2 RU2206186 C2 RU 2206186C2
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
discharge
electrodes
radiation
chamber
plasma
Prior art date
Application number
RU2000117336/09A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2000117336A (ru
Inventor
В.М. Борисов
О.Б. Христофоров
Original Assignee
Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований filed Critical Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований
Priority to RU2000117336/09A priority Critical patent/RU2206186C2/ru
Priority to US09/693,490 priority patent/US6414438B1/en
Priority to PCT/EP2001/007658 priority patent/WO2002007484A2/en
Priority to TW90116371A priority patent/TW503669B/zh
Priority to AU2001285797A priority patent/AU2001285797A1/en
Priority to EP01965060A priority patent/EP1300056A2/en
Priority to JP2002513245A priority patent/JP4880179B2/ja
Publication of RU2000117336A publication Critical patent/RU2000117336A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2206186C2 publication Critical patent/RU2206186C2/ru

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05G—X-RAY TECHNIQUE
    • H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
    • H05G2/001—X-ray radiation generated from plasma
    • H05G2/003—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas
    • H05G2/005—X-ray radiation generated from plasma being produced from a liquid or gas containing a metal as principal radiation generating component

Abstract

Изобретение может быть использовано для литографии, в частности на λ= 13,5 нм, в лазерах коротковолнового УФ и рентгеновского диапазона, в рентгеновской микроскопии. Техническим результатом является увеличение эффективности, энергии, средней мощности и стабильности излучения газоразрядной плазмы. Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы заключается в том, что в разрядной области между соосными электродами производят предыонизацию, осуществляемую через осевое отверстие в одном из электродов, и зажигают разряд пинчевого типа. Предыонизацию осуществляют потоком излучения с длинами волн от УФ до рентгеновского диапазона и потоком ускоренных электронов из плазмы импульсного скользящего разряда, зажигаемого в области, не имеющей оптической связи с осью разряда пинчевого типа, при скорости нарастания разрядного напряжения на нем более 1011В/с, при этом потоки излучения и электронов формируют аксиально-симметричными и направляют во внеосевую часть разрядной области. Источник предыонизации размещен вне разрядной камеры и выполнен в виде аксиально-симметричной системы формирования скользящего разряда, состоящей из протяженного инициирующего электрода, покрытого диэлектрическим слоем, на поверхности которого расположен поджигающий электрод, при этом инициирующий электрод установлен соосно с электродами разрядной камеры и выполнен так, что диэлектрический слой расположен в области, не имеющей оптической связи с осью разрядной камеры, и один из электродов системы формирования скользящего разряда совмещен с одним из электродов разрядной камеры. В разрядную камеру может быть введена диэлектрическая вставка с осевым отверстием, на поверхности которой размещены электроды разрядной камеры. 2 с.п. ф-лы, 2 ил.

Description

Изобретение относится к способу и устройству для получения экстремально коротковолнового УФ и мягкого рентгеновского излучения из плотной горячей плазмы разрядов пинчевого типа. Область применений включает литографию, в частности, в спектральном диапазоне около 13,5 нм, лазеры коротковолнового УФ и рентгеновского диапазонов, рентгеновскую микроскопию.
Известен способ получения коротковолнового излучения на λ=13.5 нм с использованием плазменного фокуса [1]. Однако условием эффективной работы является добавление к инертному газу, содержащемуся в разрядной камере, паров лития, что существенно усложняет конструкцию источника излучения и загрязняет внеразрядное пространство.
Способ получения коротковолнового излучения с помощью z-пинча с ВЧ предыонизацией [2] лишен указанного недостатка, однако диэлектрическая стенка разрядной камеры, на которой осуществляется зажигание разряда пинчевого типа, подвержена воздействию мощных потоков излучения и вещества, образующегося в результате эрозии электродов. Это ограничивает возможности достижения высокого ресурса при реализации данного подхода.
Наиболее близким техническим решением, выбранным в качестве прототипа, является способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы, заключающийся в предыонизации газа в разрядной области между соосными электродами, осуществляемой через осевое отверстие в одном из электродов, и зажигании разряда пинчевого типа [3].
Устройство, реализующее данный способ, содержит разрядную камеру с двумя осесимметричными электродами, оптически связанную через отверстие, выполненное в одном из электродов, с источником предыонизации, расположенным вне разрядной камеры [3].
В указанных способе и устройстве предыонизация осуществляется слаботочным разрядом, автоматически формируемом в полости катода при подаче разрядного напряжения и распространяющимся затем в разрядный промежуток через отверстие в полом катоде. В прототипе реализовано размещение внутренней диэлектрической стенки разрядной камеры вне зоны облучения разрядом, что позволяет достичь высокого ресурса работы в импульсно- периодическом режиме работы.
Недостатками указанного способа и устройства для его реализации является малая эффективность преобразования энерговклада в излучение коротковолнового диапазона из-за низкого уровня предыонизации и ее неоптимального пространственного распределения в промежутке между электродами разрядной камеры. Поскольку предыопизация осуществляется преимущественно в приосевой области разрядного промежутка, затруднено увеличение площади поперечного сечения разряда пинчевого типа на его начальной стадии, что ограничивает возможность повышения энергии и средней мощности коротковолнового излучения. Кроме того, большое, ~1 мс, время формирования автоматической предыонизации и зажигания разряда пинчевого типа, сравнимое с временным интервалом между отдельными импульсами и низкая, ~ 107В/с, скорость нарастания разрядного напряжения, ограничивают возможность достижения высокой стабильности энергии излучения от импульса к импульсу.
Техническим результатом изобретения является увеличение эффективности, средней мощности и стабильности энергии коротковолнового излучения газоразрядной плазмы.
Указанный результат достигается тем, что в способе получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы, заключающемся в предыонизации газа в разрядной области между соосными электродами, осуществляемой через осевое отверстие, выполненное в одном из электродов, и зажигании разряда пинчевого типа предыонизацию осуществляют одновременно потоком излучения с длинами волн от УФ до рентгеновского диапазона и потоком ускоренных электронов из плазмы импульсного скользящего разряда, зажигаемого в области, не имеющей оптической связи с осью разряда пинчевого типа, при скорости нарастания разрядного напряжения на нем, превышающей 1011В/с, при этом потоки излучения и электронов формируют аксиально-симметричными и направляют во внеосевую часть разрядной области.
Указанный способ может быть реализован устройством, содержащим разрядную камеру с двумя осесимметричными электродами, оптически связанную через отверстие, выполненное в одном из электродов, с источником предыонизации, расположенным вне разрядной камеры.
Отличие устройства заключается в том, что источник предыонизации выполнен в виде аксиально-симметричной системы формирования скользящего разряда, состоящей из протяженного инициирующего электрода, покрытого диэлектрическим слоем, на поверхности которого расположен поджигающий электрод, при этом инициирующий электрод установлен соосно с электродами разрядной камеры и выполнен так, что диэлектрический слой расположен в области, не имеющей оптической связи с осью разрядной камеры, и один из электродов системы формирования скользящего разряда совмещен с одним из электродов разрядной камеры, при этом в устройство введен импульсный генератор со скоростью нарастания выходного напряжения более 1011 В/с, вывод положительной полярности которого соединен с инициирующим электродом, а вывод отрицательной полярности импульсного генератора соединен с поджигающим электродом системы формирования скользящего разряда.
Отличие устройства может состоять также в том, что в разрядную камеру введена диэлектрическая вставка, в которой выполнено осевое отверстие, и электроды разрядной камеры размещены на поверхности диэлектрической вставки.
Поскольку перечисленные выше аналоги и прототип не содержат признаков, сходных с признаками, отличающими заявленное изобретение от прототипа и неизвестны технические решения, в которых эти признаки используются по данному назначению, то заявленное техническое решение обладает новизной и существенными отличиями.
При осуществлении способа в указанном виде, в отличие от прототипа, в разрядной области в результате предыонизации создается цилиндрическая плазменная оболочка с развитой проводимостью, что определяет зажигание разряда пинчевого типа при оптимальных условиях и обеспечивает повышение выхода коротковолнового излучения из горячей плазмы разряда. В отличие от прототипа с преимущественно приосевой предыонизацией, обеспечивается возможность увеличения поперечного размера разряда пинчевого типа при его зажигании. Это позволяет значительно увеличить кинетическую энергию плазмы на стадии ее сжатия магнитным полем разряда, что обеспечивает более эффективный нагрев плазменного столба и повышение энергии коротковолнового излучения, а также его средней мощности в импульсно-периодическом режиме. Применение высокой, более 1011В/с, скорости нарастания разрядного напряжения определяет высокостабильное зажигание однородного скользящего разряда, осуществляющего предыонизацию, и, в свою очередь, обеспечивает возможность достижения высокой стабильности энергии коротковолнового излучения из плазмы разряда пинчевого типа.
На фиг. 1 схематично изображено устройство для реализации предложенного способа; на фиг.2 - устройство, в разрядную камеру которого введена диэлектрическая вставка.
Устройство содержит источник питания 1, который в простейшем случае состоит из накопительного конденсатора с коммутатором, зарядных катушек индуктивности, импульсного конденсатора, магнитного ключа и подключен к электродам 2, 3 разрядной камеры 4; импульсный генератор 5, подсоединенный к поджигающему электроду 6 и инициирующему электроду 7 осесимметричной системы формирования скользящего разряда по поверхности диэлектрического слоя 8, а также жидкостной охладитель 9 и изолятор 10 разрядной камеры. На фиг.2 в разрядной камере размещены диэлектрическая вставка 11, в которой выполнено осевое отверстие и на поверхности размещены электроды 2, 3.
Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы реализуется следующим образом.
При включении источника питания 1 между электродами 2, 3 разрядной камеры 4 начинает нарастать напряжение.
Включается импульсный генератор 5, и импульс напряжения со скоростью нарастания более 1011В/с подается на электроды 6, 7 предыонизатора, между которыми зажигается скользящий разряд по поверхности диэлектрического слоя 8. При зажигании в газе низкого, <102Па давления генерируется пучок ускоренных электронов и в системе формирования скользящего разряда на поверхности тонкого диэлектрического слоя образуется однородный плазменный слой, служащий источником излучения с длинами волн от УФ до рентгеновского диапазона. При указанной скорости нарастания напряжения достигается высокая стабильность зажигания скользящего разряда от импульса к импульсу, и в балансе энергии импульсного скользящего разряда на стадии его формирования становится существенной доля энергии, идущая на образование пучка убегающих электронов и генерацию рентгеновского излучения. Отрицательная полярность поджигающего электрода 6 по отношению к инициирующему электроду 7 в несколько раз уменьшает амплитуду напряжения между указанными электродами, по сравнению со случаем обратной полярности. За счет выполнения инициирующего электрода, а соответственно и поверхностного разрядного промежутка, протяженным, то есть с длиной, превосходящей его поперечные размеры, достигается дальнейшее снижение напряжения зажигания скользящего разряда в газе низкого давления. Все это снижает электрические нагрузки на диэлектрический слой и обеспечивает достижение высокого ресурса его работы. Совмещение одного из электродов системы формирования скользящего разряда с одним из электродов разрядной камеры, например электрода 7 с электродом 3, упрощает конструкцию устройства.
В аксиально-симметричной системе зажигания скользящего разряда с инициирующим электродом, соосным с электродами разрядной камеры, генерируемые пучки ускоренных электронов и излучения формируется аксиально-симметричными. При этом пучки ускоренных электронов и излучения эмитируются из области, не имеющей оптической связи с разрядной камерой и расположенной вне ее. За счет выполнения и размещения системы формирования скользящего разряда в указанном виде, а также за счет указанного выбора полярности приложенного напряжения осуществляется направленный ввод потока ускоренных электронов и потока излучения с длиной волн от УФ до рентгеновского диапазона в разрядную область. Излучение и пучок электронов через осевое отверстие в электроде 3 распространяются во внеосевую часть разрядной области, имеющую оптическую связь с плазменным слоем скользящего разряда, и осуществляют предыонизацию газа в ней. В результате предыонизации между электродами 6,7 разрядной области создается цилиндрическая плазменная оболочка.
Между электродами 2,3 по цилиндрической плазменной оболочке развивается слаботочный разряд, ток которого ограничен током утечки заряда импульсного конденсатора источника питания 1 через магнитный ключ. В процессе слаботочного разряда ионизация плазменной оболочки увеличивается, причем из-за скин-эффекта ионизация преимущественно развивается на внешней стороне плазменной оболочки, примыкающей к электродам 2,3.
Открывается магнитный ключ и полностью заряженный к этому моменту импульсный конденсатор импульсного источника 1 разряжается через электроды 2,3 на плазменную оболочку, созданную в результате предыонизации и протекания слаботочного разряда. Происходит сжатие плазменной оболочки магнитным полем протекающего по ней тока и ее удержание на оси разрядной области в течение короткого времени. Столб плотной горячей плазмы, образующейся на оси разрядной области, испускает коротковолновое излучение. Используемая часть излучения выходит из разрядной области через отверстие в одном из электродов. При этом поверхность диэлектрического слоя 8, расположенная в области, не имеющей оптической связи с осью разрядной области, не подвергается воздействию жесткого УФ и рентгеновского излучения, пучков заряженных частиц и потоков плазмы, генерируемых на оси разрядной камеры 4. Это обеспечивает достижение высокого ресурса работы системы формирования скользящего разряда.
Цикл работы повторяется, за время между импульсами производится охлаждение устройства жидкостным охладителем 9, циркулирующим через электроды.
Введение в разрядную камеру диэлектрической вставки (фиг.2), в которой выполнено осевое отверстие и на поверхности которой размещены электроды разрядной камеры, упрощает условия эффективного получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы. Во-первых, обеспечивается надежная защита изолятора 10 разрядной камеры от излучения разряда пинчевого типа, что повышает надежность функционирования устройства в широком диапазоне рабочих параметров. Во-вторых, уменьшается индуктивность разрядной камеры, что позволяет уменьшить энергозатраты на получение плотной горячей плазмы в разряде пинчевого типа и увеличить оптический выход коротковолнового излучения. Кроме этого, создаваемая в результате предыонизации плазменная оболочка формируется на внутренней поверхности цилиндрического отверстия диэлектрической вставки, что стабилизирует разряд пинчевого типа на стадии его зажигания. Это приводит к повышению энергии коротковолнового излучения на финальной стадии разряда и увеличению ее стабильности от импульса к импульсу. Поскольку в результате интенсивной предыонизации напряжение между электродами на поверхности диэлектрической вставки минимизировано, резко снижается вероятность ее электрического пробоя. Так как диэлектрическая вставка не является элементом корпуса разрядной камеры, в ней минимизированы механические нагрузки. Все это позволяет обеспечить высокий ресурс работы устройства при выборе для диэлектрической вставки материала с высокой термостойкостью, например нитрида кремния Si3N4.
Таким образом, по сравнению с прототипом предлагаемый способ позволяет стабильно от импульса к импульсу формировать в результате предыонизации оптимальную по форме, размерам и проводимости цилиндрическую плазменную оболочку, что и приводит к увеличению эффективности, средней мощности и стабильности энергии коротковолнового излучения газоразрядной плазмы.
Источники информации
1. Патент США 5763930, кл. США 250/504R; 12.05.97.
2. Патент США 5504795, кл. США 378/119; 06.02.96.
3. Патент ФРГ 19753696 А1, МКИ 6 Н 05 G 2/00, 03.12.97.

Claims (2)

1. Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы, заключающийся в предыонизации газа в разрядной области между соосными электродами, осуществляемой через осевое отверстие, выполненное в одном из электродов, и зажигании разряда пинчевого типа, отличающийся тем, что предыонизацию осуществляют одновременно потоком излучения с длинами волн от УФ до рентгеновского диапазона и потоком ускоренных электронов из плазмы импульсного скользящего разряда, зажигаемого в области, не имеющей оптической связи с осью разряда пинчевого типа, при скорости нарастания разрядного напряжения на нем превышающей 1011В/с, при этом потоки излучения и электронов формируют аксиально-симметричными и направляют во внеосевую часть разрядной области.
2. Устройство для получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы, содержащее разрядную камеру с двумя соосными осесимметричными электродами, оптически связанную через отверстие, выполненное в одном из электродов, с источником предыонизации, расположенным вне разрядной камеры, отличающееся тем, что источник предыонизации выполнен в виде аксиально-симметричной системы формирования скользящего разряда, состоящей из протяженного инициирующего электрода, покрытого диэлектрическим слоем, на поверхности которого расположен поджигающий электрод, при этом инициирующий электрод установлен соосно с электродами разрядной камеры и выполнен так, что диэлектрический слой расположен в области, не имеющей оптической связи с осью разрядной камеры, и один из электродов системы формирования скользящего разряда совмещен с одним из электродов разрядной камеры, при этом в устройство введен импульсный генератор со скоростью нарастания выходного напряжения более 1011В/с, вывод положительной полярности которого соединен с иницирующим электродом, а вывод отрицательной полярности импульсного генератора соединен с поджигающим электродом системы формирования скользящего разряда.
RU2000117336/09A 2000-07-04 2000-07-04 Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации RU2206186C2 (ru)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2000117336/09A RU2206186C2 (ru) 2000-07-04 2000-07-04 Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации
US09/693,490 US6414438B1 (en) 2000-07-04 2000-10-20 Method of producing short-wave radiation from a gas-discharge plasma and device for implementing it
PCT/EP2001/007658 WO2002007484A2 (en) 2000-07-04 2001-07-04 Method of producing short-wave radiation from a gas-discharge plasma and device for implementing it
TW90116371A TW503669B (en) 2000-07-04 2001-07-04 Method of producing short-wave radiation from a gas-discharge plasma and device for implementing it
AU2001285797A AU2001285797A1 (en) 2000-07-04 2001-07-04 Method of producing short-wave radiation from a gas-discharge plasma and device for implementing it
EP01965060A EP1300056A2 (en) 2000-07-04 2001-07-04 Method of producing short-wave radiation from a gas-discharge plasma and device for implementing it
JP2002513245A JP4880179B2 (ja) 2000-07-04 2001-07-04 気体放電プラズマから短波長放射線を生成する方法及びそのための装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU2000117336/09A RU2206186C2 (ru) 2000-07-04 2000-07-04 Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2000117336A RU2000117336A (ru) 2002-08-10
RU2206186C2 true RU2206186C2 (ru) 2003-06-10

Family

ID=20237172

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2000117336/09A RU2206186C2 (ru) 2000-07-04 2000-07-04 Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6414438B1 (ru)
JP (1) JP4880179B2 (ru)
RU (1) RU2206186C2 (ru)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2459393C1 (ru) * 2010-12-27 2012-08-20 Учреждение Российской Академии Наук Институт Сильноточной Электроники Сибирского Отделения Ран (Исэ Со Ран) Способ и устройство для генерации мягкого рентгеновского излучения из плазмы газового разряда лайнерного типа
RU2670273C2 (ru) * 2017-11-24 2018-10-22 Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" Устройство и способ для генерации излучения из лазерной плазмы

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6826222B2 (en) * 1999-08-27 2004-11-30 Alan E. Hill Electric oxygen iodine laser
US7215697B2 (en) * 1999-08-27 2007-05-08 Hill Alan E Matched impedance controlled avalanche driver
CA2343562C (en) * 2000-04-11 2008-11-04 Desmond Gibson Plasma source
TW518913B (en) * 2000-07-03 2003-01-21 Asml Netherlands Bv Radiation source, lithographic apparatus, and semiconductor device manufacturing method
US6804327B2 (en) * 2001-04-03 2004-10-12 Lambda Physik Ag Method and apparatus for generating high output power gas discharge based source of extreme ultraviolet radiation and/or soft x-rays
DE10139677A1 (de) * 2001-04-06 2002-10-17 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von extrem ultravioletter Strahlung und weicher Röntgenstrahlung
US6567499B2 (en) * 2001-06-07 2003-05-20 Plex Llc Star pinch X-ray and extreme ultraviolet photon source
US6998620B2 (en) * 2001-08-13 2006-02-14 Lambda Physik Ag Stable energy detector for extreme ultraviolet radiation detection
DE10151080C1 (de) * 2001-10-10 2002-12-05 Xtreme Tech Gmbh Einrichtung und Verfahren zum Erzeugen von extrem ultravioletter (EUV-)Strahlung auf Basis einer Gasentladung
US6563907B1 (en) * 2001-12-07 2003-05-13 Euv Llc Radiation source with shaped emission
DE10238096B3 (de) * 2002-08-21 2004-02-19 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Gasentladungslampe
TWI266962B (en) * 2002-09-19 2006-11-21 Asml Netherlands Bv Radiation source, lithographic apparatus, and device manufacturing method
US6847044B2 (en) * 2002-12-31 2005-01-25 Intel Corporation Electrical discharge gas plasma EUV source insulator components
TW200613706A (en) * 2004-09-29 2006-05-01 Ushio Electric Inc EUV generator
EP1887841A1 (en) * 2005-05-06 2008-02-13 Tokyo Institute of Technology Plasma generating apparatus and plasma generating method
US7251263B2 (en) * 2005-05-23 2007-07-31 Colorado State University Research Foundation Capillary discharge x-ray laser
DE102005025624B4 (de) * 2005-06-01 2010-03-18 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung von intensiver kurzwelliger Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas
WO2007002170A2 (en) * 2005-06-21 2007-01-04 Starfire Industries Llc Microdischarge light source configuration and illumination system
DE102005041567B4 (de) * 2005-08-30 2009-03-05 Xtreme Technologies Gmbh EUV-Strahlungsquelle mit hoher Strahlungsleistung auf Basis einer Gasentladung
US7825391B2 (en) * 2005-10-17 2010-11-02 The University Of Washington Plasma-based EUV light source
DE102005055686B3 (de) * 2005-11-18 2007-05-31 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung kurzwelliger Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas sowie Verfahren zur Herstellung von kühlmitteldurchströmten Elektrodengehäusen
DE102006022823B4 (de) * 2006-05-12 2010-03-25 Xtreme Technologies Gmbh Anordnung zur Erzeugung von EUV-Strahlung auf Basis eines Gasentladungsplasmas
DE102007004440B4 (de) * 2007-01-25 2011-05-12 Xtreme Technologies Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels einer elektrisch betriebenen Gasentladung
US8227771B2 (en) * 2007-07-23 2012-07-24 Asml Netherlands B.V. Debris prevention system and lithographic apparatus
TWI341376B (en) * 2007-12-31 2011-05-01 Ind Tech Res Inst Illuminating apparatus of a polarization light
US9277634B2 (en) 2013-01-17 2016-03-01 Kla-Tencor Corporation Apparatus and method for multiplexed multiple discharge plasma produced sources
KR20160089515A (ko) * 2013-12-05 2016-07-27 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 직류 중첩 동결
KR102550496B1 (ko) * 2017-02-23 2023-07-03 유니버시티 오브 워싱턴 플라즈마 감금 시스템 및 사용 방법
JP7203768B2 (ja) * 2017-06-07 2023-01-13 ユニバーシティ オブ ワシントン プラズマ閉込めシステムおよび使用するための方法
JP6740299B2 (ja) * 2018-08-24 2020-08-12 ファナック株式会社 加工条件調整装置及び機械学習装置
US11699575B2 (en) * 2019-09-16 2023-07-11 The Regents Of The University Of Michigan Multiple frequency electron cyclotron resonance thruster
CN112333910B (zh) * 2020-11-04 2023-03-28 中国人民解放军空军工程大学 一种预电离式高效等离子体合成射流激励器

Family Cites Families (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3279176A (en) 1959-07-31 1966-10-18 North American Aviation Inc Ion rocket engine
US3150483A (en) 1962-05-10 1964-09-29 Aerospace Corp Plasma generator and accelerator
US3232046A (en) 1962-06-06 1966-02-01 Aerospace Corp Plasma generator and propulsion exhaust system
US3969628A (en) 1974-04-04 1976-07-13 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Intense, energetic electron beam assisted X-ray generator
US3961197A (en) 1974-08-21 1976-06-01 The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration X-ray generator
US4229708A (en) 1977-04-08 1980-10-21 Avco Everett Research Laboratory, Inc. X-ray laser
US4143275A (en) 1977-09-28 1979-03-06 Battelle Memorial Institute Applying radiation
US4203393A (en) 1979-01-04 1980-05-20 Ford Motor Company Plasma jet ignition engine and method
JPS5756668A (en) 1980-09-18 1982-04-05 Nissan Motor Co Ltd Plasma igniter
US4364342A (en) 1980-10-01 1982-12-21 Ford Motor Company Ignition system employing plasma spray
US4494043A (en) * 1981-07-02 1985-01-15 Physics International Company Imploding plasma device
US4538291A (en) 1981-11-09 1985-08-27 Kabushiki Kaisha Suwa Seikosha X-ray source
DE3212928C2 (de) 1982-04-07 1984-01-26 Lambda Physik GmbH, 3400 Göttingen Entladungsgepumpter Laser
US4536884A (en) 1982-09-20 1985-08-20 Eaton Corporation Plasma pinch X-ray apparatus
US4618971A (en) 1982-09-20 1986-10-21 Eaton Corporation X-ray lithography system
US4504964A (en) 1982-09-20 1985-03-12 Eaton Corporation Laser beam plasma pinch X-ray system
US4633492A (en) 1982-09-20 1986-12-30 Eaton Corporation Plasma pinch X-ray method
US4507588A (en) 1983-02-28 1985-03-26 Board Of Trustees Operating Michigan State University Ion generating apparatus and method for the use thereof
IT1197768B (it) 1983-12-29 1988-12-06 Selenia Ind Elettroniche Preionizzatore ad effetto corona per laser a gas
US4592056A (en) 1984-01-10 1986-05-27 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Resonant photon pumping mechanisms for a plasma x-ray laser
JPS60175351A (ja) 1984-02-14 1985-09-09 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Ｘ線発生装置およびｘ線露光法
US4561406A (en) 1984-05-25 1985-12-31 Combustion Electromagnetics, Inc. Winged reentrant electromagnetic combustion chamber
JPS6166350A (ja) * 1984-09-07 1986-04-05 Hitachi Ltd プラズマフオ−カス装置
US4837794A (en) 1984-10-12 1989-06-06 Maxwell Laboratories Inc. Filter apparatus for use with an x-ray source
JPS61250948A (ja) * 1985-04-30 1986-11-08 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Ｘ線発生装置およびｘ線露光法
US4774914A (en) 1985-09-24 1988-10-04 Combustion Electromagnetics, Inc. Electromagnetic ignition--an ignition system producing a large size and intense capacitive and inductive spark with an intense electromagnetic field feeding the spark
CA1239486A (en) 1985-10-03 1988-07-19 Rajendra P. Gupta Gas discharge derived annular plasma pinch x-ray source
JPS62176038A (ja) * 1986-01-28 1987-08-01 Hitachi Ltd Ｘ線発光装置
DE3644004C2 (de) 1986-06-23 1995-08-03 Lambda Physik Gmbh Schaltung für die Vorionisierung und Hauptentladung eines gepulsten Gaslasers
JPS6319743A (ja) * 1986-07-14 1988-01-27 Hitachi Ltd プラズマｘ線発生装置
JPS63211598A (ja) * 1987-02-25 1988-09-02 Hitachi Ltd プラズマｘ線発生装置
US5027366A (en) 1988-01-15 1991-06-25 Cymer Laser Technologies Compact excimer laser
JPH01296596A (ja) * 1988-05-25 1989-11-29 Hitachi Ltd プラズマｘ線発生装置
DE3818129C2 (de) 1988-05-27 2003-04-10 Lambda Physik Ag Vorrichtung zum Begrenzen von Laserstrahlen
US4977573A (en) 1989-03-09 1990-12-11 Questek, Inc. Excimer laser output control device
DE3927089C1 (ru) * 1989-08-17 1991-04-25 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung Ev, 8000 Muenchen, De
JPH03102888A (ja) * 1989-09-18 1991-04-30 Toshiba Corp Ｘ線発生装置
DE4009850C1 (ru) 1990-03-27 1991-11-07 Lambda Physik Gesellschaft Zur Herstellung Von Lasern Mbh, 3400 Goettingen, De
US5175755A (en) 1990-10-31 1992-12-29 X-Ray Optical System, Inc. Use of a kumakhov lens for x-ray lithography
US5081638A (en) 1990-12-05 1992-01-14 Lumonics Inc. Excimer laser
IT1246684B (it) 1991-03-07 1994-11-24 Proel Tecnologie Spa Propulsore ionico a risonanza ciclotronica.
DE4108472C2 (de) 1991-03-15 1995-10-05 Lambda Physik Forschung Vorrichtung zum Vorionisieren von Gas in einem gepulsten Gaslaser
US5142166A (en) 1991-10-16 1992-08-25 Science Research Laboratory, Inc. High voltage pulsed power source
US5327475A (en) 1992-08-18 1994-07-05 Ruxam, Inc. Soft x-ray submicron lithography using multiply charged ions
DE4233634C2 (de) 1992-10-06 1994-09-01 Lambda Physik Gmbh Elektroden für die Entladungseinheit eines Excimerlasers
US5337330A (en) 1992-10-09 1994-08-09 Cymer Laser Technologies Pre-ionizer for a laser
US5377215A (en) 1992-11-13 1994-12-27 Cymer Laser Technologies Excimer laser
US5442910A (en) 1994-03-21 1995-08-22 Thermacore, Inc. Reaction motor structure and method of construction
US5502356A (en) 1994-05-02 1996-03-26 Plex Corporation Stabilized radial pseudospark switch
US5499282A (en) 1994-05-02 1996-03-12 University Of Central Florida Efficient narrow spectral width soft-X-ray discharge sources
DE4426723A1 (de) 1994-07-22 1996-01-25 Atl Lasertechnik & Accessoires Gleitentladungsvorionisation für Gaslaser
US5577092A (en) 1995-01-25 1996-11-19 Kublak; Glenn D. Cluster beam targets for laser plasma extreme ultraviolet and soft x-ray sources
US5504795A (en) 1995-02-06 1996-04-02 Plex Corporation Plasma X-ray source
US5637962A (en) 1995-06-09 1997-06-10 The Regents Of The University Of California Office Of Technology Transfer Plasma wake field XUV radiation source
US5719896A (en) 1996-03-29 1998-02-17 Cymer Inc. Low cost corona pre-ionizer for a laser
US6031241A (en) 1997-03-11 2000-02-29 University Of Central Florida Capillary discharge extreme ultraviolet lamp source for EUV microlithography and other related applications
US5963616A (en) 1997-03-11 1999-10-05 University Of Central Florida Configurations, materials and wavelengths for EUV lithium plasma discharge lamps
US5866871A (en) * 1997-04-28 1999-02-02 Birx; Daniel Plasma gun and methods for the use thereof
US6172324B1 (en) * 1997-04-28 2001-01-09 Science Research Laboratory, Inc. Plasma focus radiation source
US5763930A (en) 1997-05-12 1998-06-09 Cymer, Inc. Plasma focus high energy photon source
DE19753696A1 (de) 1997-12-03 1999-06-17 Fraunhofer Ges Forschung Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Extrem-Ultraviolettstrahlung und weicher Röntgenstrahlung aus einer Gasentladung
US5978406A (en) 1998-01-30 1999-11-02 Cymer, Inc. Fluorine control system for excimer lasers
US6075838A (en) 1998-03-18 2000-06-13 Plex Llc Z-pinch soft x-ray source using diluent gas

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2459393C1 (ru) * 2010-12-27 2012-08-20 Учреждение Российской Академии Наук Институт Сильноточной Электроники Сибирского Отделения Ран (Исэ Со Ран) Способ и устройство для генерации мягкого рентгеновского излучения из плазмы газового разряда лайнерного типа
RU2670273C2 (ru) * 2017-11-24 2018-10-22 Общество с ограниченной ответственностью "РнД-ИСАН" Устройство и способ для генерации излучения из лазерной плазмы
WO2019103648A1 (en) * 2017-11-24 2019-05-31 Rnd-Isan, Ltd High-brightness lpp source and methods for generating radiation and mitigating debris

Also Published As

Publication number Publication date
US6414438B1 (en) 2002-07-02
JP4880179B2 (ja) 2012-02-22
JP2004504706A (ja) 2004-02-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2206186C2 (ru) Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации
JP3978385B2 (ja) ガス放電に基づいて極紫外線を発生するための装置及び方法
US6408052B1 (en) Z-pinch plasma X-ray source using surface discharge preionization
US7488962B2 (en) Arrangement for the generation of intensive short-wavelength radiation based on a gas discharge plasma
US6172324B1 (en) Plasma focus radiation source
US4937832A (en) Methods and apparatus for producing soft x-ray laser in a capillary discharge plasma
EP0463815B1 (en) Vacuum ultraviolet light source
US8259771B1 (en) Initiating laser-sustained plasma
US20060262825A1 (en) Capillary discharge x-ray laser
JPH08772Y2 (ja) 再結合レーザ
KR100637816B1 (ko) 플라즈마 건 및 이의 사용을 위한 방법
US6654446B2 (en) Capillary discharge source
RU2252496C2 (ru) Устройство и способ получения коротковолнового излучения из плазмы газового разряда
US6167065A (en) Compact discharge pumped soft x-ray laser
JP4563807B2 (ja) ガス放電ランプ
Brown et al. A 6.5-J flashlamp-pumped Ti: Al/sub 2/O/sub 3/laser
TW503669B (en) Method of producing short-wave radiation from a gas-discharge plasma and device for implementing it
US4680770A (en) Dual beam gas ion laser
Billault et al. Pseudospark switches
Urai et al. High-repetition-rate operation of the wire ion plasma source using a novel method
Fanning et al. Mather‐type dense plasma focus as a new optical pump for short‐wavelength high‐power lasers
Rahman et al. Excitation of the 13.2 nm laser line of Nickel‐like Cd in a capillary discharge plasma column
RU2045102C1 (ru) Плазменный эмиттер ионов
JPS63102147A (ja) Ｘ線発生装置
JP2002151768A (ja) 露光用フッ素レーザ装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20050705