DE3212928C2 - Entladungsgepumpter Laser - Google Patents
Entladungsgepumpter LaserInfo
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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Description
25
Die Erfindung bezieht sich au/ einen entladungsge-.pumpten
Laser mit ein,em ein Oasgemisch.enthaltenden '
Entladungsgefäß, ^welches, im.Bereich, der. Fenster
Gasejnlässe und im übrigea einen Gasauslaß aufweist ·
und über Leitungen und eine Umwälzpumpe an eine
Reinigungseinrichtung angeschlossen ist. Ein Laser dieser Art ist aus Laser Focus, Oktober 1981, S. 65-68
bekannt.
Bei Glaslasern, die durch eine elektrische Entladung /angeregt werden, tritt häufig ein Alterungsprozeß auf.
•.Zum einen wird das Gas verbraucht, da es in den ;
-;Entladungszonen zu chemischen Umsetzungen kommt, zum anderen beobachtet man die Bildung von
Staubteilchen bzw. von Aerosolen. Für die Bildung der Staubteilchen sind mehrere, im Detdl noch nicht ganz
erklärbare Prozesse verantwortlich, bins große Rolle spielt der Elektrodenabbrand: Die Gasentladung erfolgt
. zwischen zwei Elektroden, an denen eine elektrische Spannung anliegt Bei genügender elektrischer Leitfähigkeit
des Gases oder Gasgemisches fließt ein Strom, der an der Grenzfläche zwischen Gas und Elektrodenmaterial
zu einer erheblichen Belastung der Elektrodenoberfläche führt. Sowohl die lokale Erhitzung als auch
die mechanische Belastsung im atomaren Bereich durch im elektrischen Feld beschleunigte geladene Teilchen
bewirken eine Erosion der Elektroden. Die herausgeschlagenen
mikroskopisch kleinen Teilchen bilden Staub, der mit dem Gas oder Gasgemisch in den
gesamten Innenraum des Lasers gelangt und in vielfacher Hinsicht stört. Die Laserwirkung bzw. die
Lasertätigkeit wird in mehrfacher Weise beeinflußt:
1. Der Staub schlägt sich an elektrisch isolierenden
Teilen nieder. Aufgrund der Veränderung der Oberfläche ändern sich die Isolationseigenschaften.
Es können sich Nebenentladungen oder sogar kurzEchlußartige Entladungskanäle ausbilden, die
die Funktion des Lasers zum Erliegen bringen.
2. Der Staub wirkt als ein Filter für· die Laserlichtstrahlung.
Die Streuung an den Staubteilchen führt zu einer Verminderung der Ausgangsleistung von
Lasern. Dieser Effekt tritt besonders stark bei Lasern auf, die UV-Licht aussenden, da die
Streuung sehr stark zu kürzeren Wellenlängen hin q-nwüchsL
3. Der Staub· kancr-sich-nichi nur an den isolierenden
Wänden des Lasers niedersehiageii sondern auch
an den optischen· Komponente«, fn der Regci ist der Laser durch zwei optische Fenster- abgeschlossen.
Diese Fenster werden durch den Staub belegt und die Transmission der Fenster nimmt ab.
Neben den Problemen, die mit dem Vorhandensein und der Verteilung von Staubteilchen auftreten,Averden
in Gaslasern gasförmige Verunreinigungen gebildet, die
einerseits die physikalischen Vorgänge in der Gasentladung verändern können und andererseits durch starke
Absorption die Ausgangsleistung erheblich vermindern.
Um den beschriebenen Nachteilen und der damit verbundenen Verkürzung der Lebensdauer derartiger
Laser entgegenzuwirken, wurden bereits verschiedene Lösungsvorschläge gemacht. Da der Staub vornehmlich
in der Entladungszone entsteht, soll durch die Strömungsführung des Gasgemisches erreicht werden, ;■
daß der Staub schnell aus dem gefährdeten Bereich abgeführt wird und sich in einem ungefährdeten Teil des
Strömungskreislaufes absetzt. Damit läßt sich jedoch eine genereüe Lösung nicht erzielen, weil es sich nicht
vermeiden läßt, daß ein kleiner Teii des Staubes sich trotzdem im Nahbereich der Entladung niederschlägt.
Zusätzlich entstehen insbesondere bei gepulsten Entladungen Druckwellen, die diese Staubpartikel in die
gefährdeten Bereiche hineintransportieren.
Weiterhin ist es bekannt, besonders anfällige Teiie des
Entladungsbereiches oder des Lasers durch laufende Zugabe von frischem Lasergas bzw. Gasgemisch, das
also noch nicht mit Staub beladen ist, zu spülen und damit von Staub freizuhalten. Dies führt zwar zu einer
Reinhaltung der bespülten Teile, hat aber den Nachteil eines großen Gasverbrauchs. Um diesen Gasverbrauch
zu reduzieren, ist von Ph. N. Mace: State-of-the-art in discharge-pumped excimer laser systems in the United
States, Second Australian Laser Conference, Canberra, .Aus. 1/9-4/9 19S1, LA-UR-8J-2541 Los Alamos
Scientific Laboratory, ein Gasführungssystem vorgeschlagen worden, von dem die vorliegende Erfindung
.ausgeht. Dabei werden in einem Teilgasstrom mit Hiffe
einer Reinigungseinrichtung und einer Umwälzpumpe wesentliche Gaskomponentdn, nämüch die Halogen-Komponenten,
und mit ihnen die Verunreinigungen abgeschieden. Diese Gaskomponente liegt zwar nur in
geringer Konzentration vor, so daß das abgeschiedene Gas in gleicher Menge dem Kreislauf jeweils kontinuierlich
zugeführt werden muß. Nach der Abscheidung dieses Gases, bei dem nur die Halogen-Komponenten
erfaßt werden, wird der verbleibende Anteil Gas aus dem Gasgemisch den im Bereich der Fenster des
Entladungsgefäßes vorgesehenen Gaseinlässen wieder zugeführt, wodurch eine Spülung der Fenster mit
diesem Gas erfolgt. Dieser Prozeß, der auch von R. Tennant in Control of Contaminants in XeC) Lasern,
Laser Focus October 1981, S. 65 - 68 beschrieben wurde,
ist aufwendig und teuer.
In einer weiteren Literaturstelle (K. O. Kutschke, P. A.
Hakkett. und C. Wills »Rev. Sei. Instrum. 52 (Ii)« Nov.
1981, S. 1655, 1656 wird ein Verfahren beschrieben, bei dem insoweiteinumgekghrter Wegbeschritten wird,als
dort nicht das'Gas auf Koste.n des Halogen-Gases
gereinigt wird, sondern die teuerste, Komponente aus
dem Gasgemisch wieder aufbereitet, wird. Dabei· wird der weitaus größte Anteil, najpjich, tjje preiswerteren
Gaskomponenicn, entfernt und jeweils durch frisches
Gas ersetzt. Auch dieses Verfahren ist aufwendig und leuer, so daß sich eine Amortisation erst bei sehr langem
Betrieb ergeben wurde. In der bezeichneten Literatursteife
wird von IW Tagen ßfeiriebszeit gesprochen.
Hierbei wird'cine Betriutadsiuer von 5 Stunden pro Tag
vorausgesetzt, während der der Laser mit 100 Hz Rcpetilionsrate arbeitet.
Die DE-OS ?5 34 322 zeigt einen Jodlaser mit einer Reinigungsvorrichtung für das umgepumpte Gas, die in
den Endboreichen des Entladungsgefäßes angeschlossen ist. Hierbei werden jedoch nicht die Fenster mit
sauberem Gas gespüit. sondern das gesamte umgepumpte Gas wird am einen Ende entnommen, gereinigt
und am anderen Ende wieder zugeführt. Die Reinigungsvorrjchtung weist einen Staubabscheider auf.
Äußer dieser Reinigungsvorrichtung ist im Kreislauf noch eine Vorrichtung zum Ergänzen des Gases
vorgesehen.
Aue dem Beth-Handbuch: Staubtechnik, Selbstverlag
Maschinenfabrik Beth GmbH, Lübeck 1964, S. 18-22, ' ist eine Beschreibung der Entwicklung der industriellen
Entstaubung, insbesondere bezogen auf die Hüttenindustrie, bekannt Dabei werden als Staubabscheider
Tuchfilter und Elektroentstauber beschrieben.
Zusammenfassend läßt sich feststellen, daß die in der Literatur beschriebenen Verfahren bei entladungsgepumpten
Lasern solche Reinigungseinrichtungen für das umgewälzte Lasermedium vorschlagen, bei denen
wesentliche Komponenten des Gasgemisches verbraucht werden, die dann durch eine aufwendige
Nachfüllung ersetzt werden müssen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Laser der eingangs beschriebenen Art derart weiterzubilden,
daß eine Reinigung des Gasgemisches zur Erhöhung1 der Lebensdauer des Lasers erfolgt, ohne daß
Gdskomponenten ergänzt werden müssen, um die ursprüngliche Gaszusammensetzung beizubehalten.
Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß als Reinigungseinrichtung ein Elektrofilter vorgesehen ist «
und der Gaskreislauf mit einer Ruhezone für das den Gaseinlässen zugeleitete Gasgemisch versehen ist.
Damit ist ss möglich, einen Teil oder die gesamte
Gasmenge über das Elektrofilter zu feiten und hier die Staubpartikel, nicht aber .Gaskomponenten, abzuscheiden.
Hierdurch ändert sich die Gaszusammensetzung nicht. Es seht das Gasgemisch nach der Passage durch
den Elektrofilter als Spülgas zur Verfugung, solches den gefährdeten Komponenten, insbesondere den Fenstern
zugeleitet wird. Damit wird die die Lebensdauer der optischen Komponenten begrenzende Verschmutzung
durch die staubförmigen Partikel aufgehoben und die Lebensdauer des Lasers erhöht. Es ist aber nicht nur die
Anwendung des Elektrofilter, sondern auch die gleichzeitige Bereitstellung einer Ruhezone von besonderer
Bedeutung. In dieser Ruhezone findet eine Regenerierung eines Teiles des Gasgemisches statt, das
regeneriert in gefährdete Bereiche des Lasers eingespült wird, um die störenen Staubablagerungen zu
verhindern.
Der Elektrofilter kann gleichzeitig als Ruhezone ausgebildet sein, d. h. durch seinen gegenüber den
Leitungen vergrößerten Durchflußquerschnitt tritt eine ^Beruhigung der Strömdhg verbunden mit einer Erhöhung
der Verweilzeit auf, so daß eine Regenerierung 6^
eines Teiles des Gasgemisches möglich wird. In dem -Elektrofilter sind die an die Vorionisierung wie auch an
die Kollektoren des Elektrofilter angelegten Spannungen auf die Teilchensorte und -größe der abzuscheidenden
Staubpartikel abgestimmt. Der Elektrofilter kann sowohl in das Entladungsgefäß integriert werden als
auch in einen Gaskreislauf mit entsprechenden Leitungen eingesetzt sein. Durch die Wahl der Strömungsgeschwindigkeit
in dem Elektrofilter kann oer Reinheitsgrad eingestellt werden. Wegen der kwinen Strömungsgeschwindigkeiten
und der damit verbundenen Verweilzeit im Elektrofüler bzw. in den Ruhezonen reagieren
auch gasförmige Verunreinigungen vied.er zurück. Damit wird nicht nur die Reinigung von Staubteilchen
erreicht, sondern überraschenderweise auch eine Reduktion der störenden gasförmigen Bestandteile
erzielt. Da die gefährdeten Komponenten mit gereinigtem Gas gespüit werden, wird ein Absetzen des Staubes
auf diesen Komponenten und damit eine Alterung vermieden. Ein Vorteil dieser aufgezeigten Lösung
besteht darin, daß nur ein Teil des Gasgemisches gereinigt werden muß, um die gefährdeten Teile sauber
zu halten. Weiterhin wird durch die Verwendung eines •,Elektrofilters kein neuer Prozeß im Kreislauf des
•Gasgemisches eingeführt bzw. durchgeführt, wie es bei Benutzung der chemischen Abscheidemethoden aus
dem Stand der Technik der Fall ist. In einem Elektrofilter befindet sich eine elektrische Glimmentladung,
die dazu dient, das Gas bzw. die Staubteilchen zu ionisieren. Dabei findet ein der eigentlichen Laserentladung
verwandter Vorgang statt. Die Kollektoren des Elektrofilters bestehen aus Metallpiatten.die keine neue
Verschmutzung herbeiführen. Die Benutzung nur eines Teils des Lasergases und die Sauberhaltung der
Komponenten mit einem Teil dieses Gases führt dazu, daß der Elektrofilter verhältnismäßig klein dimensioniert
werden kann. Eine aufwendige und teure Nachfüllung bzw. Wiederaufbereitung des Gases wird
dadurch vermieden.
Die Erfindung bezieht sich insbesondere auf die Anwendung bei sogenannten Edelgas-Halogenid-Lasern.
Diese Laser arbeiten mit Gasgemisch, das sich aus Edelgasen und aus Halogen-Gasen zusammensetzt.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und v/ird im folgenden näher
beschrieben. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung des Lasers mit
seiner Reinigungsvorrichtung und
F i g. 2 ein Diagramm mit der Darstellung der Energie pro Laserschuß in Abhängigkeit von der Schußzahl.
In Fig. I ist in schematischer Darstellung ein
Entladungsgefäß dargestellt, welches mit einem Gasgemisch 2 gefüllt ist. Das Entladungsgefäß i wird an
beiden Enden durch optische Komponenten in Form -von Fenstern 3 begrenzt, in deren Nähe Gaseinlässe 4 so
angeordnet sind, daß die Fenster 3 von dem hier eintretenden Gasstrom bespült werden können. Es ist
ein weiterer Gaseinlaß 5 am Gefäß 1 vorgesehen, der mit einem Dosierventil 6 ausgestattet ist. Der Gaseinlaß
5 dient dem Einfüllen des Gasgemisches 2.
Das Entladungsgefäß I besitzt auch einen Gasauslaß 7, der mit einer Pumpe 8 in Verbindung steht, der ein
Elektrofilter 9 nachgeschaltet ist. Von dort führen Leitungen 10 und U über Ruhezonen 12 zu den
Gaseinlässen 4 im Bereich der Fenster 3. Es ist ersichtlich,, daß der Elektrofilter 9 selbst eine im
Querschnitt stark erweiterte Ruhezone darsteflt, so daß auf die gesonderte Anordnung der Ruhezonen 12 in den
Leitungen 10 auch verzichtet werden kann.
Während des Betriebes wird das Gasgemisch 2 oder ein Teil desselben durch die Pumpe 8 abgesaugt. Die
mittransportierten Staubpartikel werden in dem Elektrofilter
9 abgeschieden, ohne daß eine Gaskomponente mit abgeschieden wird. Bereits im Elektrofilter 9
und/oder in den nachgeschalteten Ruhezonen 12 tritt eine Regenerierung des Gases ein, so daß durch die
Leitungen 10 die Fenster 3 mit gereinigtem Gas gleicher Zusammensetzung bespült und damit freigehalten
werden können, wie es sich als Gasgemisch 2 innerhalb des Entladungsgefäßes 1 befindet. Die beschriebene
Reinigung und Regenerierung wurde an einer typischen Excimer-Gasentladung getestet. Das Ergebnis ist in
,./Fig.2 dargestellt. Auf der Ordinate (y) ist die Energie
pro Laserschuß wiedergegeben. Die Abzisse zeigt die i>chußzahl. In gestrichelter Linienführung ist die
Lebensdauerkurve eines- XeCI-Lasers (Ohne Elektrofilter)
dargestellt. Man erkennt, daß die Laserenergie bei einer Schußzahl von ca. 3XlO6 Schüsse auf etwa die
Hälfte sinkt. In durchgezogener Linienführung ist die
,,Lebensdauerkurve eines derartigen Lasers mit Reinigung
und Regenerierung dargestellt. Man erkennt, daß hierdurch die Lebensdauer des Gases um den Faktor 3
erhöht erhöht ist Der Abfall der Energie ist hierbei
nicht mehr auf die Verschmutzung der optischen Komponenten zurückzuführen, sondern erklärt sich
durch eine Aufzehrung des Lasergases. Die Transmission der Fenster 3, die ein Maß für die Reinheit der
Oberfläche darstellt, hat sich bei der gestrichelten Kurve nach 3xiO6 Schuß um 30 Prozent verringert,
ίο während sie im Falle der durchgezogenen Linie mit
Elektrofilter und Ruhezone sich überhaupt dicht
,^gegenüber dem ersten Schuß verändert fu»t. Rarnil ist
' 'nachgewiesen, daß mit der aufgezeigten^Anordnung.
eine Rein- und Sauberhallung der optischen Kompo^
I5.nenten mit sehr-.gutem Erfolg erreicht wird, und zwar
-bei sehr · geringem Aufwand.. Außerdem entsteht hierdurch keine zusätzliche Verunreinigung des Lasergases
gegenüber dem normalen Betrieb.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Entladungsgepuropier Leser mit einem ein
Gasgemisch enthaltenden Entladungsgefäß, welches im Bereich der Fenster Cflsejnlässe und im übrigen
einen Gasauslaß aufweist und über Leitungen und eine Umwälzpumpe.an eine Reinigungseinrichtung
angeschlossen ist, dadurch gekenn zeich-
η e t. daß als Reinigungseinrichtung ein Elektrofilter
(9) vorgesehen ist und der Gaskreislauf mit einer
Ruhezone für das den Gaseinlässen (4) zugeleitete Gasgemisch verschen ist.
2. La»er nach Anspruch-1. dadurch gekennzeichnet,
daß der EJelektrofiJter ,(9) gleichzeitig als is
Ruhezone ausgebildet ist.
3. Laser nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die an die Vorionisierung wie
auch an die Kollektoren des Elkektr&filters angelegten
Spannungen auf die Teilchensorte und -größe abgestimmt sind.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3212928A DE3212928C2 (de) | 1982-04-07 | 1982-04-07 | Entladungsgepumpter Laser |
US06/476,221 US4534034A (en) | 1982-04-07 | 1983-03-17 | Discharge-pumped laser |
JP58059421A JPS58186985A (ja) | 1982-04-07 | 1983-04-06 | 放電ポンピングレ−ザ |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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US (1) | US4534034A (de) |
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DE (1) | DE3212928C2 (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE29716875U1 (de) * | 1997-09-19 | 1997-11-20 | Tui Laser Ag | Excimerlaser |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
US6782029B1 (en) | 2000-02-22 | 2004-08-24 | Tuilaser Ag | Dedusting unit for a laser optical element of a gas laser and method for assembling |
US6804284B1 (en) | 2000-02-22 | 2004-10-12 | Tuilaser Ag | Optical element holding and extraction device |
US6859482B1 (en) | 2000-02-22 | 2005-02-22 | Tuilaser Ag | Modular gas laser discharge unit |
DE102011078892A1 (de) * | 2011-07-08 | 2013-01-10 | HighFinesse GmbH | Lasersystem mit Resonator |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5373523A (en) * | 1992-10-15 | 1994-12-13 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Excimer laser apparatus |
US5359620A (en) * | 1992-11-12 | 1994-10-25 | Cymer Laser Technologies | Apparatus for, and method of, maintaining a clean window in a laser |
US5319663A (en) * | 1992-12-18 | 1994-06-07 | Lumonics Inc. | Dust precipitation in a gas laser |
FR2724519B1 (fr) * | 1994-09-14 | 1996-12-13 | Sgs Thomson Microelectronics | Detecteur de presence d'une transmission dans un modem |
US5729564A (en) * | 1996-07-31 | 1998-03-17 | Visx, Incorporated | Electrostatic precipitator for a gas discharge laser |
US6526085B2 (en) | 1998-10-05 | 2003-02-25 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
US6490307B1 (en) | 1999-03-17 | 2002-12-03 | Lambda Physik Ag | Method and procedure to automatically stabilize excimer laser output parameters |
US6212214B1 (en) | 1998-10-05 | 2001-04-03 | Lambda Physik Ag | Performance control system and method for gas discharge lasers |
DE19942455A1 (de) | 1998-10-05 | 2000-04-06 | Lambda Physik Gmbh | Leistungssteuersystem und -verfahren für Gasentladungslaser |
EP1137126B1 (de) * | 1998-11-30 | 2010-01-13 | Ebara Corporation | Durch elektrische entladung angeregter excimerlaser |
US6965624B2 (en) * | 1999-03-17 | 2005-11-15 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6389052B2 (en) | 1999-03-17 | 2002-05-14 | Lambda Physik Ag | Laser gas replenishment method |
US6069909A (en) * | 1999-03-08 | 2000-05-30 | Xmr, Inc. | Excimer laser with improved window mount |
US6243406B1 (en) | 1999-03-12 | 2001-06-05 | Peter Heist | Gas performance control system for gas discharge lasers |
US6727731B1 (en) | 1999-03-12 | 2004-04-27 | Lambda Physik Ag | Energy control for an excimer or molecular fluorine laser |
US6700915B2 (en) | 1999-03-12 | 2004-03-02 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer laser with a resonator containing an optical element for making wavefront corrections |
US6714577B1 (en) | 1999-03-17 | 2004-03-30 | Lambda Physik Ag | Energy stabilized gas discharge laser |
JP3877912B2 (ja) * | 1999-05-25 | 2007-02-07 | 株式会社荏原製作所 | 放電励起エキシマレーザ装置 |
US6331693B1 (en) * | 1999-06-28 | 2001-12-18 | Cincinnati Incorporated | Beam delivery system |
US6493375B1 (en) | 2000-02-22 | 2002-12-10 | Tuilaser Ag | Adjustable mounting unit for an optical element of a gas laser |
US6522679B1 (en) | 2000-02-22 | 2003-02-18 | Tuilaser | Gas laser discharge unit |
US6603790B1 (en) | 2000-02-22 | 2003-08-05 | Hans Kodeda | Gas laser and a dedusting unit thereof |
US6480517B1 (en) | 2000-02-22 | 2002-11-12 | Tuilaser Ag | Shadow device for a gas laser |
RU2206186C2 (ru) | 2000-07-04 | 2003-06-10 | Государственный научный центр Российской Федерации Троицкий институт инновационных и термоядерных исследований | Способ получения коротковолнового излучения из газоразрядной плазмы и устройство для его реализации |
US6603789B1 (en) | 2000-07-05 | 2003-08-05 | Lambda Physik Ag | Narrow band excimer or molecular fluorine laser with improved beam parameters |
US6801561B2 (en) | 2000-09-25 | 2004-10-05 | Lambda Physik Ag | Laser system and method for spectral narrowing through wavefront correction |
JP3836326B2 (ja) * | 2001-02-14 | 2006-10-25 | 松下電器産業株式会社 | 高純度標準粒子作製装置 |
US6804327B2 (en) * | 2001-04-03 | 2004-10-12 | Lambda Physik Ag | Method and apparatus for generating high output power gas discharge based source of extreme ultraviolet radiation and/or soft x-rays |
DE50109133D1 (de) | 2001-07-25 | 2006-05-04 | Tuilaser Ag | Gasentladungslaser |
US6874510B2 (en) * | 2003-02-07 | 2005-04-05 | Lsi Logic Corporation | Method to use a laser to perform the edge clean operation on a semiconductor wafer |
US20040254567A1 (en) * | 2003-02-12 | 2004-12-16 | Holz Frank G. | Surgical method for ablating tissue |
CN101829848B (zh) * | 2010-01-29 | 2013-04-10 | 东莞晨真光伏有限公司 | 激光刻线除尘设备及除尘方法 |
US20130034118A1 (en) * | 2011-08-04 | 2013-02-07 | Coherent Gmbh | Gas purifier for an excimer laser |
US10037896B2 (en) * | 2013-07-25 | 2018-07-31 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Electro-assisted transfer and fabrication of wire arrays |
WO2020204861A1 (en) * | 2019-04-05 | 2020-10-08 | Jeanologia Teknoloji A.S. | A filtration device for laser processing machines |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3704053A (en) * | 1970-12-10 | 1972-11-28 | Us Air Force | Electrostatic spatial filter for a high power laser |
DE2534322C3 (de) * | 1975-07-31 | 1978-09-21 | Max-Planck-Gesellschaft Zur Foerderung Der Wissenschaften E.V., 3400 Goettingen | Jodlaser |
JPS6026312B2 (ja) * | 1977-06-23 | 1985-06-22 | 三菱電機株式会社 | 横方向励起気体循環形レ−ザ発振装置 |
JPS55124286A (en) * | 1979-03-20 | 1980-09-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser gas regenerator |
-
1982
- 1982-04-07 DE DE3212928A patent/DE3212928C2/de not_active Expired
-
1983
- 1983-03-17 US US06/476,221 patent/US4534034A/en not_active Expired - Lifetime
- 1983-04-06 JP JP58059421A patent/JPS58186985A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE29716875U1 (de) * | 1997-09-19 | 1997-11-20 | Tui Laser Ag | Excimerlaser |
DE19840035C2 (de) * | 1997-09-19 | 2002-01-24 | Tui Laser Ag | Excimerlaser |
US6782029B1 (en) | 2000-02-22 | 2004-08-24 | Tuilaser Ag | Dedusting unit for a laser optical element of a gas laser and method for assembling |
US6804284B1 (en) | 2000-02-22 | 2004-10-12 | Tuilaser Ag | Optical element holding and extraction device |
US6859482B1 (en) | 2000-02-22 | 2005-02-22 | Tuilaser Ag | Modular gas laser discharge unit |
US6721345B2 (en) | 2000-07-14 | 2004-04-13 | Lambda Physik Ag | Electrostatic precipitator corona discharge ignition voltage probe for gas status detection and control system for gas discharge lasers |
DE102011078892A1 (de) * | 2011-07-08 | 2013-01-10 | HighFinesse GmbH | Lasersystem mit Resonator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58186985A (ja) | 1983-11-01 |
DE3212928A1 (de) | 1983-10-20 |
US4534034A (en) | 1985-08-06 |
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