JPS63102147A - X線発生装置 - Google Patents

X線発生装置

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JPS63102147A
JPS63102147A JP61245274A JP24527486A JPS63102147A JP S63102147 A JPS63102147 A JP S63102147A JP 61245274 A JP61245274 A JP 61245274A JP 24527486 A JP24527486 A JP 24527486A JP S63102147 A JPS63102147 A JP S63102147A
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electrode
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浩 有田
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宏之 菅原
Koji Suzuki
光二 鈴木
Yukio Kurosawa
黒沢 幸夫
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はLSI製造用X線リソグラフィ装置のX線源に
係り、特にxts輝度向上を図ったX線発生装置に関す
る。
〔従来の技術〕
近年、より高性能な半導体集積回路を製造するために、
0.5  μm以下の寸法を有する微細パターンを、半
導体基板上に形成する要求が高まっている。Xi (主
に4〜13人の軟X線)を使用したパターン転写技術で
あるX線露光法は、転写されたパターンの精度が極めて
高く、特にサブミクロンパターン形成において有効な技
術とされている。
ところで、Xa露光法を実施するには高出力で安定なX
線発生装置が必要となる。そこで最近、放電プラズマを
X線源とするX線発生装置が研究されている。この装置
は第8図に示す如く高電圧ffi源1により充電された
コンデンサ2の電荷を一対のffi極3・4間で放電さ
せ、電極3・4間に放電プラズマを生成し、プラズマ中
で起こるエネルギ遷移によって放射されるXiを利用す
るものである。なお第8図中5はトリガー電極を示す。
このような従来技術は例えば、特開昭58−18804
0号公報に示されている。
〔発明が解決しようとする間順点〕
上記従来技術は、プラズマ中のエネルギー遷移の制御の
点について配慮がされておらず、弱いX線出力しか得ら
れないことに問題があった。すなわちX線発生メカニズ
ムを説明すると、原子は、原子核とその回りを一定のエ
ネルギーレベルを持った軌道を回る電子とから成る。入
射電子の運動エネルギーが電子の結合エネルギーより大
きくなれば、その殻から電子をたたき出す(光電効果)
その空席に外殻軌溝の電子が入りこむ時、電子の保有す
るエネルギー差分をX線として放出する。
第9図にその様子を示す、高エネルギーの電子は自然放
出され、遷移が偶発的に起こるもので、X線は不規則に
放出される1以上の様に、自然放出のエネルギー遷移を
利用しているため、制御が困難であった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を除去し、高
輝度のX線出力の得られるXa発生装置を提供すること
にある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明では上記目的を達成するために、一対の電極間で
発生したXaの光路上に他のX線発生用の電極を設けた
〔作用〕
第10図に原理を示す、励起状態にある原子に入射X線
が作用すると、入射XI!と同じ方向に、同じ周波数位
相、さらに同じ偏光特性のxlgが誘導放出され、入射
X線の強さに比例して放出される現象を利用するもので
ある。一対の電極間で発生したX線の光路上に他の電極
が設置してあり、この電極間のプラズマが励起状態にあ
る。この時、X線が入射されると誘導放出により高輝度
のX線出力を得ることができる。
〔実施例〕
以下9本発明の一実施例を第1図により説明する。ここ
で第8図の従来例と同一構成要素には同一番号を付けで
ある。真空容器内(図示していない、)に対する電極対
3・4,6a・7a及び6b・7bをを設け、電極6a
・6bは端板8により接合され、また電極7a・7b・
4は端極9により接合されている。電[3の一方はトリ
ガー電極5を介してコンデンサ2に、また端数8もコン
デンサ2に接合されている。
X線発生にあたっては、高電圧な源1により充電された
コンデンサ2の電荷を、トリガー電極5を作動させるこ
とによって、電極3・4間、6a・7a間、6b・7b
間で放電させる。これにより各電極間で放電プラズマを
形成し、プラズマ中の原子は励起状態となる。電極3・
4間でのスポットプラズマ中から、発生したX線10の
一部はfl!極6a・78間及び電極6b・7b間への
入射X線となり、?IIR放出現象を誘発し、入射X線
と同一方向に、各X線11a、llbを発生させる。
このため高輝度のXuA出力を得ることができる。
またこの発明の場合、誘導放出のX線を発生する電極対
を2カ所に設けであるので、Xmn光に用いる場合、1
つの放電管により、同時に2カ所に露光する他の利用も
有する。
他の実施例を第2図に示す、X線発生部を独立に2セッ
ト設け、xm発生の時間制御をトリガ一時間制御器12
によって調整する。コンデンサ及びトリガー電極を2a
・2b、5a・5bと各々2セット設けている。各放電
極回路のインダクタンスを低減するため、電極4及び6
bの導電路は円筒状導電路13a、13bを設けた。最
初に電極3・4間でX線発生をし、時間制御器12によ
り一定の遅延時開後に電極6a・7a間で放電させる。
この様に放電タイミングを制御することにより、安定な
高輝度X線を得ることができる。なお14はX線を取出
す為の開孔部である。
第3図は第1図・第2図を組合せた他の実施例を示す、
電極対3・4と電極対6a・7a、6b・6bとを独立
の放電回路で形成している。導電路13aを導電極13
b内に入れている0本発明も第1図と同様の効果がある
第4図・第5図はガスパフ式の発明例の場合である0円
柱電極3・4と他の円柱電極6a・7aを一直線上に配
置し、各f!1極の中心部にはX線の通路である開孔部
が設けである。また電極4と6aは一体成形している。
電極3・6aの内部にはガス吹出し孔15・16が設置
しである。X線発生にあたっては、最初にガス導入パイ
プ20よリガス17を電極間に吹き出す、一定の遅延時
間後にトリガー電極5を作動させ放電を開始する。
電極3・4間のガスは電流の磁気ピンチ効果により、高
温・高密度のプラズマとなりX線18を発生する。この
X線18は、電極6a・7a間のプラズマに入射され、
誘導作用により、増幅されたX線19を発生する。高輝
度のxmを得ることができる。
第5図は、第4図の電極対3・4と6a・7b、−の放
電回路を独立に設け、放電タイミングを時間調整器12
により制御した0本発明も第1図と同様、高輝度X線を
得ることができる。
第6図はさらに他の発明例を示す、プラズマフォーカス
式X線発生部を用いた場合である。プラズマフォーカス
は、真空容器23a、23b中に同軸状電極21a・2
2a、21b・22bを設け、この容器中に数100P
aの圧力のガスを充填しである。トリガー電極5a、5
bの作動により、絶縁物の沿面24a・24bにてアー
ク放電が生じる。このアークが同軸状電極を流れる電流
によって生じる磁界により先端部へ加速されゆき、最後
には同軸部より飛び出して、電極の軸線上に高温・高密
度のプラズマを形成し、XuAを放出する。最初にX線
26を発生し、Xa透過窓25a。
通路28を通って電極21bの先端部に達する。
これにより先端部のプラズマに入射X線が誘導放出を誘
起して、増幅したX線27が発生する0本発明の場合も
第1図と同様の効果を有する。
第7図は、X線発生部の構造の異なるものを組合せた場
合である。真空容器29中にレーザー照射式と磁気ピン
チ式のX線発生部を組込んである。
レーザー光31は集光レンズ32を介して、回転ターゲ
ット30に照射される。ターゲット30上で高温・高密
度のプラズマが形成し、X線33を発生する。このX線
は電極3・4間の高温・高密度のプラズマに入射され、
誘導放出により増幅されたX線34を発生する。この発
明の場合は高輝度X線を得ることができるほかに、X線
出力の安定性が向上する効果も有する。すなわち、X線
33は連続xiであるため、電極3・4間のプラズマ中
に、任意の時間に入射させることができるためである0
本発明例の磁気ピンチ式には、ガスパフ式・プラズマフ
ォーカス式の放電管を利用しても第7図と同様の効果を
得ることができる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、一対の電極間で発生したX線の光路上
にプラズマが励起状態にある他の電極を設置したもので
あるから、この励起状態のプラズマにXaが入射すると
、入射X線と同一方向に、同波長のX線が誘導放出する
ことができ、高輝度のX線出力を得る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例、第2図・第3図は本発明の
別の実施例、第4図・第5図は本発明のさらに別の実施
例の縦断面図、第6図・第7図は本発明の他の実施例の
縦断面図、第8図は従来例、第9図は従来例の原理図、
第10図は本発明の原理図。 2・・・コンデンサ、3・4・・・電極対、5・・・ト
リガー活20 z 3b f−、3UfU ノBa        /3b 浩14+図 3顛 躬80

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、少なくとも一対の電極が設置してあり、この間に高
    速大電流放電を行なうことにより、X線を発生する装置
    において、上記電極から発生するX線の少なくとも一光
    路上に、複数の電極対を設けたことを特徴としたX線発
    生装置。 2、少なくとも一対の電極が設置してあり、この間に高
    速大電流放電を行なうことにより、X線を発生する装置
    において、上記電極のX線発生部を複数個一直線に配置
    したことを特徴とするX線装置。
JP61245274A 1986-10-17 1986-10-17 X線発生装置 Expired - Lifetime JPH06101315B2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP61245274A JPH06101315B2 (ja) 1986-10-17 1986-10-17 X線発生装置

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JP61245274A JPH06101315B2 (ja) 1986-10-17 1986-10-17 X線発生装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63102147A true JPS63102147A (ja) 1988-05-07
JPH06101315B2 JPH06101315B2 (ja) 1994-12-12

Family

ID=17131239

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JP61245274A Expired - Lifetime JPH06101315B2 (ja) 1986-10-17 1986-10-17 X線発生装置

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JP (1) JPH06101315B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013062119A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Ihi Corp プラズマ光源
JP2019020615A (ja) * 2017-07-19 2019-02-07 株式会社Ihi プラズマ光源システム
JP2019020616A (ja) * 2017-07-19 2019-02-07 株式会社Ihi プラズマ光源

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013062119A (ja) * 2011-09-13 2013-04-04 Ihi Corp プラズマ光源
JP2019020615A (ja) * 2017-07-19 2019-02-07 株式会社Ihi プラズマ光源システム
JP2019020616A (ja) * 2017-07-19 2019-02-07 株式会社Ihi プラズマ光源

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