RU2012137134A - Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина - Google Patents
Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012137134A RU2012137134A RU2012137134/04A RU2012137134A RU2012137134A RU 2012137134 A RU2012137134 A RU 2012137134A RU 2012137134/04 A RU2012137134/04 A RU 2012137134/04A RU 2012137134 A RU2012137134 A RU 2012137134A RU 2012137134 A RU2012137134 A RU 2012137134A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- acrylate
- meth
- photopolymer composition
- composition according
- residues
- Prior art date
Links
- 239000000178 monomer Substances 0.000 title claims abstract 7
- IMHBYKMAHXWHRP-UHFFFAOYSA-N anilazine Chemical compound ClC1=CC=CC=C1NC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 IMHBYKMAHXWHRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 21
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 claims abstract 6
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- -1 hydroxypropyl Chemical group 0.000 claims abstract 6
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract 4
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims abstract 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims abstract 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 3
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 claims 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 2
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/2805—Compounds having only one group containing active hydrogen
- C08G18/2815—Monohydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
- C08G18/38—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
- C08G18/3802—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having halogens
- C08G18/3804—Polyhydroxy compounds
- C08G18/3812—Polyhydroxy compounds having fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/42—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain
- C08G18/44—Polycarbonates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/48—Polyethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/48—Polyethers
- C08G18/4825—Polyethers containing two hydroxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
- C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
- C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
- C08G18/40—High-molecular-weight compounds
- C08G18/48—Polyethers
- C08G18/4833—Polyethers containing oxyethylene units
- C08G18/4837—Polyethers containing oxyethylene units and other oxyalkylene units
- C08G18/485—Polyethers containing oxyethylene units and other oxyalkylene units containing mixed oxyethylene-oxypropylene or oxyethylene-higher oxyalkylene end groups
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/733—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/035—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
- G11B7/24035—Recording layers
- G11B7/24044—Recording layers for storing optical interference patterns, e.g. holograms; for storing data in three dimensions, e.g. volume storage
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H2001/026—Recording materials or recording processes
- G03H2001/0264—Organic recording material
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2260/00—Recording materials or recording processes
- G03H2260/12—Photopolymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
1. Фотополимерная композиция, включающая полиуретановые полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, отличающаяся тем, что записывающие мономеры содержат соединения формулы (I),в которой R, R, Rсоответственно независимо друг от друга представляют собой ОН, галоген или органический остаток, причем по меньшей мере один из этих остатков является органическим остатком, содержащим радиационно-отверждаемую группу.2. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эти один или несколько органических остатков связаны с триазиновым кольцом через атом кислорода или азота.3. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эта радиационно-отверждаемая группа представляет собой акрилатную или метакрилатную группу.4. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что R, R, Rнезависимо друг от друга представляют собой галогены, замещенные или незамещенные фенольные, нафтольные, анилиновые, нафталиновые, 2-гидроксиэтил(мет)акрилатные, гидроксипропил(мет)акрилатные и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатные остатки, причем по меньшей мере один из остатков R, R, Rявляется 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.5. Фотополимерная композиция по п.4, отличающаяся тем, что по меньшей мере два из остатков R, R, Rсоответственно независимо друг от друга являются 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.6. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициаторы включают анионный, катионный или нейтральный краситель и соинициатор.7. Фотополимерная композиция по п.1, отличающа
Claims (11)
1. Фотополимерная композиция, включающая полиуретановые полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, отличающаяся тем, что записывающие мономеры содержат соединения формулы (I)
в которой R1, R2, R3 соответственно независимо друг от друга представляют собой ОН, галоген или органический остаток, причем по меньшей мере один из этих остатков является органическим остатком, содержащим радиационно-отверждаемую группу.
2. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эти один или несколько органических остатков связаны с триазиновым кольцом через атом кислорода или азота.
3. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эта радиационно-отверждаемая группа представляет собой акрилатную или метакрилатную группу.
4. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что R1, R2, R3 независимо друг от друга представляют собой галогены, замещенные или незамещенные фенольные, нафтольные, анилиновые, нафталиновые, 2-гидроксиэтил(мет)акрилатные, гидроксипропил(мет)акрилатные и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатные остатки, причем по меньшей мере один из остатков R1, R2, R3 является 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.
5. Фотополимерная композиция по п.4, отличающаяся тем, что по меньшей мере два из остатков R1, R2, R3 соответственно независимо друг от друга являются 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.
6. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициаторы включают анионный, катионный или нейтральный краситель и соинициатор.
7. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит в качестве пластификаторов уретаны, причем эти уретаны особенно могут быть замещены по меньшей мере одним атомом фтора.
8. Фотополимерная композиция по п.7, отличающаяся тем, что эти уретаны имеют общую формулу (II)
в которой n≥1 и n≤8, a R4, R5, R6 независимо друг от друга являются атомами водорода, линейными, разветвленными, циклическими или гетероциклическими незамещенными или при необходимости также замещенными гетероатомами органическими остатками, причем предпочтительно по меньшей мере один из остатков R4, R5, R6 является замещенным по меньшей мере одним атомом фтора, и особенно предпочтительно R4 является органическим остатком по меньшей мере с одним атомом фтора.
9. Фотополимерная композиция по одному из пп.1-8, отличающаяся тем, что записывающие мономеры дополнительно включают другой моно- или мультифункциональный записывающий мономер, причем речь может идти особенно о моно- или полифункциональном акрилате.
10. Фотополимерная композиция по п.9, отличающаяся тем, что этот акрилат имеет общую формулу (III)
в которой m≥1 и m≤4, a R7, R8 независимо друг от друга являются атомами водорода, линейными, разветвленными, циклическими или гетероциклическими незамещенными или при необходимости также замещенными гетероатомами органическими остатками.
11. Применение фотополимерной композиции по одному из пп.1-10 для получения голографических сред, особенно для изготовления осевых голограмм, внеосевых голограмм, голограмм сфокусированного изображения, голограмм, восстанавливаемых в белом свете, голограмм Денисюка, внеосевых отражательных голограмм, голограмм краевого освещения, а также голографических стереограмм.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP10001006 | 2010-02-02 | ||
EP10001006.5 | 2010-02-02 | ||
PCT/EP2011/051246 WO2011095441A1 (de) | 2010-02-02 | 2011-01-28 | Photopolymer-formulierung mit triazin-basierten schreibmonomeren |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012137134A true RU2012137134A (ru) | 2014-03-10 |
Family
ID=42313702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012137134/04A RU2012137134A (ru) | 2010-02-02 | 2011-01-28 | Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9366957B2 (ru) |
EP (1) | EP2531892B1 (ru) |
JP (1) | JP6023592B2 (ru) |
KR (1) | KR20120125270A (ru) |
CN (1) | CN102763037A (ru) |
BR (1) | BR112012019378A2 (ru) |
RU (1) | RU2012137134A (ru) |
WO (1) | WO2011095441A1 (ru) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011054793A1 (de) * | 2009-11-03 | 2011-05-12 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur herstellung von holographischen medien |
US20120219885A1 (en) * | 2009-11-03 | 2012-08-30 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Novel non-crystallizing methacrylates, production and use thereof |
US8889322B2 (en) * | 2009-11-03 | 2014-11-18 | Bayer Materialscience Ag | Photopolymer formulation having different writing comonomers |
WO2011054796A1 (de) * | 2009-11-03 | 2011-05-12 | Bayer Materialscience Ag | Auswahlverfahren für additive in photopolymeren |
KR101747467B1 (ko) * | 2009-11-03 | 2017-06-14 | 코베스트로 도이칠란드 아게 | 굴절률이 높고 이중 결합 밀도가 감소된 우레탄 아크릴레이트 |
TWI506011B (zh) * | 2009-11-03 | 2015-11-01 | Bayer Materialscience Ag | 在光聚合物調配物中作為添加劑之氟胺基甲酸酯 |
WO2011067057A1 (de) * | 2009-11-03 | 2011-06-09 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur herstellung eines holographischen films |
TWI489209B (zh) * | 2009-11-03 | 2015-06-21 | Bayer Materialscience Ag | 在光聚合物配製物中作為添加劑的胺甲酸乙酯 |
ES2446344T3 (es) * | 2009-11-03 | 2014-03-07 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Procedimiento para la producción de una película holográfica |
PL2317511T3 (pl) * | 2009-11-03 | 2012-08-31 | Bayer Materialscience Ag | Formulacje fotopolimerowe z nastawialnym mechanicznym modułem Guv |
JP5792746B2 (ja) * | 2010-02-02 | 2015-10-14 | バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングBayer Intellectual Property GmbH | エステル系書込モノマー含有感光性ポリマー組成物 |
CN103819420A (zh) * | 2013-07-01 | 2014-05-28 | 江阴摩尔化工新材料有限公司 | 紫外光固化低聚物、其合成方法及含有该低聚物的紫外光固化涂料 |
KR20160102225A (ko) * | 2013-12-20 | 2016-08-29 | 코베스트로 도이칠란트 아게 | 개선된 감광성을 갖는 홀로그래픽 매체 |
WO2016091965A1 (de) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | Covestro Deutschland Ag | Naphthylacrylate als schreibmonomere für photopolymere |
US20180180994A1 (en) | 2015-06-23 | 2018-06-28 | Covestro Deutschland Ag | Substituted triazines |
JP2018528987A (ja) * | 2015-06-23 | 2018-10-04 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | 光開始剤としての新規なトリアジンおよびそれらの調製 |
JP2020519943A (ja) * | 2017-05-09 | 2020-07-02 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトCovestro Deutschland Ag | ホログラフィック露光用のフォトポリマー層と高耐性コーティング層を含むホログラフィック媒体 |
TW201906882A (zh) * | 2017-05-09 | 2019-02-16 | 德商科思創德意志股份有限公司 | 含有用於全像照射的光聚合物層及高度耐性漆層之薄膜結構 |
KR102214895B1 (ko) | 2017-12-26 | 2021-02-09 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 |
WO2020050321A1 (ja) * | 2018-09-04 | 2020-03-12 | 国立大学法人電気通信大学 | トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを含む体積ホログラム記録材料用組成物 |
CN112759701B (zh) * | 2019-10-21 | 2022-12-30 | 杭州光粒科技有限公司 | 光致聚合物组合物、反射式衍射光栅及其制备方法 |
CN113527143B (zh) * | 2020-04-20 | 2023-06-20 | 杭州光粒科技有限公司 | 书写单体及其制备方法以及光致聚合物组合物及其光栅 |
Family Cites Families (46)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3047532A (en) * | 1958-09-30 | 1962-07-31 | Dal Mon Research Co | Triazinyl vinyl monomer and polymer and copolymers thereof |
GB1429649A (en) | 1972-06-22 | 1976-03-24 | Agfagevaert | Unsaturated carboxylic esters of hydroxyalkyl carbamates addition polymers derived thereform and photographic silver halide materials containing said polymers |
JPS584027B2 (ja) * | 1973-04-03 | 1983-01-24 | 東亞合成株式会社 | シアヌル環を有するポリアクリレ−ト又はポリメタクリレ−トの製造法 |
US4230740A (en) * | 1979-04-23 | 1980-10-28 | W. R. Grace & Co. | Heat stable, non-yellowing photopolymer compositions |
JPS56152467A (en) | 1980-04-28 | 1981-11-26 | Teijin Ltd | Preparation of cyanurate group-containing (meth acrylate) |
JPS5716446A (en) * | 1980-07-04 | 1982-01-27 | Fujitsu Ltd | Formation of micropattern and photoresist used in said formation |
JPS5850522B2 (ja) * | 1981-03-31 | 1983-11-11 | 日東電工株式会社 | 複合半透膜及びその製造方法 |
JPS584027A (ja) | 1981-06-27 | 1983-01-11 | Masaya Nagashima | 組立式土留よう壁の建設方法及びその装置 |
DE3677527D1 (de) | 1985-11-20 | 1991-03-21 | Mead Corp | Ionische farbstoffe als initiatoren enthaltende fotosensitive materialien. |
IL81307A0 (en) | 1986-01-23 | 1987-08-31 | Union Carbide Agricult | Method for reducing moisture loss from plants and increasing crop yield utilizing nitrogen containing heterocyclic compounds and some novel polysubstituted pyridine derivatives |
US4942112A (en) * | 1988-01-15 | 1990-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging |
US5387682A (en) | 1988-09-07 | 1995-02-07 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Halomethyl-1,3,5-triazines containing a monomeric moiety |
RU2006990C1 (ru) | 1991-01-22 | 1994-01-30 | Константин Иванович Баринов | Большая интегральная схема (ее варианты) |
US5702846A (en) * | 1994-10-03 | 1997-12-30 | Nippon Paint Co. Ltd. | Photosensitive composition for volume hologram recording |
JPH0928785A (ja) * | 1995-07-18 | 1997-02-04 | Asahi Denka Kogyo Kk | 眼科用レンズ |
JPH09123627A (ja) * | 1995-11-02 | 1997-05-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 転写シート |
US5747629A (en) * | 1996-12-16 | 1998-05-05 | Bayer Corporation | Low surface energy polyisocyanates and their use in one-or two-component coating compositions |
US5837586A (en) | 1997-02-14 | 1998-11-17 | Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. | 4-(alkoxyhydroxy)styryl triazine photinitiators and photo sensitive composition |
US6627354B1 (en) * | 1999-03-01 | 2003-09-30 | Lucent Technologies Inc. | Photorecording medium, process for fabricating medium, and process for holography using medium |
TWI258634B (en) * | 1999-10-22 | 2006-07-21 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, a process for producing resist pattern and resist pattern laminate |
US6403702B1 (en) * | 1999-12-03 | 2002-06-11 | Bayer Corporation | Diurethane plasticizer containing one-shot polyurethane cast elastomers |
KR100379760B1 (ko) * | 2001-02-24 | 2003-04-10 | 한국화학연구원 | 고굴절 트리아진형 단량체 |
US6743552B2 (en) * | 2001-08-07 | 2004-06-01 | Inphase Technologies, Inc. | Process and composition for rapid mass production of holographic recording article |
US6765061B2 (en) * | 2001-09-13 | 2004-07-20 | Inphase Technologies, Inc. | Environmentally durable, self-sealing optical articles |
JP4071525B2 (ja) * | 2002-04-08 | 2008-04-02 | メモリーテック株式会社 | 光情報記録媒体 |
JP2004300046A (ja) | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 新規なチアジアゾール誘導体及びトリアジン誘導体、並びに感光性組成物及び平版印刷版 |
JP2005049608A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 体積型ホログラム記録用感光性組成物及びそれを用いた体積型ホログラム記録媒体 |
JP4349613B2 (ja) * | 2003-07-30 | 2009-10-21 | 大日本印刷株式会社 | 付加情報の付いたホログラム記録フィルム、及び、その記録方法とその真偽判定方法 |
JP4414797B2 (ja) * | 2004-03-22 | 2010-02-10 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、及びそれを用いた画像記録材料 |
JP4369780B2 (ja) * | 2004-03-22 | 2009-11-25 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物、及びそれを用いた画像記録材料 |
JP2006330655A (ja) * | 2005-04-26 | 2006-12-07 | Fujifilm Holdings Corp | 感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 |
KR100684884B1 (ko) * | 2005-09-12 | 2007-02-20 | 연세대학교 산학협력단 | 트리아진계 단량체 및 이를 포함하는 중합 조성물 |
EP2137732B1 (en) | 2007-04-11 | 2012-07-25 | Bayer MaterialScience AG | Advantageous recording media for holographic applications |
BRPI0810831A2 (pt) * | 2007-04-11 | 2014-10-29 | Bayer Materialscience Ag | Acrilatos de uretano aromáticos tendo um alto índice de refração. |
ATE501193T1 (de) | 2007-04-11 | 2011-03-15 | Bayer Materialscience Ag | Strahlungsvernetzende und wärmevernetzende pu- systeme auf der basis von isocyanat-reaktiven blockcopolymeren |
JP5229879B2 (ja) * | 2007-06-08 | 2013-07-03 | 日本化薬株式会社 | (メタ)アクリレート化合物及びそれを含有する樹脂組成物並びにその硬化物 |
US20090142672A1 (en) * | 2007-11-30 | 2009-06-04 | Fujifilm Corporation | Optical recording composition and holographic recording medium |
JP4879158B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | ホログラフィック記録用化合物、ホログラフィック記録用組成物、およびホログラフィック記録媒体 |
WO2011054796A1 (de) * | 2009-11-03 | 2011-05-12 | Bayer Materialscience Ag | Auswahlverfahren für additive in photopolymeren |
US20120219885A1 (en) * | 2009-11-03 | 2012-08-30 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Novel non-crystallizing methacrylates, production and use thereof |
US8889322B2 (en) * | 2009-11-03 | 2014-11-18 | Bayer Materialscience Ag | Photopolymer formulation having different writing comonomers |
WO2011067057A1 (de) * | 2009-11-03 | 2011-06-09 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur herstellung eines holographischen films |
JP5792746B2 (ja) * | 2010-02-02 | 2015-10-14 | バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングBayer Intellectual Property GmbH | エステル系書込モノマー含有感光性ポリマー組成物 |
EP2372454A1 (de) * | 2010-03-29 | 2011-10-05 | Bayer MaterialScience AG | Photopolymer-Formulierung zur Herstellung sichtbarer Hologramme |
EP2450893A1 (de) * | 2010-11-08 | 2012-05-09 | Bayer MaterialScience AG | Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren |
EP2450387A1 (de) * | 2010-11-08 | 2012-05-09 | Bayer MaterialScience AG | Photopolymer-Formulierung für die Herstellung holographischer Medien |
-
2011
- 2011-01-28 WO PCT/EP2011/051246 patent/WO2011095441A1/de active Application Filing
- 2011-01-28 RU RU2012137134/04A patent/RU2012137134A/ru not_active Application Discontinuation
- 2011-01-28 EP EP11701279.9A patent/EP2531892B1/de active Active
- 2011-01-28 BR BR112012019378A patent/BR112012019378A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2011-01-28 KR KR1020127020255A patent/KR20120125270A/ko not_active Application Discontinuation
- 2011-01-28 JP JP2012551583A patent/JP6023592B2/ja active Active
- 2011-01-28 CN CN2011800081361A patent/CN102763037A/zh active Pending
- 2011-01-28 US US13/576,775 patent/US9366957B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011095441A1 (de) | 2011-08-11 |
JP2013519111A (ja) | 2013-05-23 |
CN102763037A (zh) | 2012-10-31 |
EP2531892B1 (de) | 2016-01-27 |
BR112012019378A2 (pt) | 2016-05-03 |
US20120321998A1 (en) | 2012-12-20 |
EP2531892A1 (de) | 2012-12-12 |
US9366957B2 (en) | 2016-06-14 |
KR20120125270A (ko) | 2012-11-14 |
JP6023592B2 (ja) | 2016-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012137134A (ru) | Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина | |
JP2013519111A5 (ru) | ||
RU2013110226A (ru) | Дифункциональные (мет)-акрилатные пишущие мономеры | |
RU2012122586A (ru) | Фотополимерные композиции с регулируемым механическим модулем guv | |
JP2013518952A5 (ru) | ||
Mueller et al. | Visible‐Light‐Induced Click Chemistry | |
RU2012122590A (ru) | Фторуретаны в качестве добавки в фотополимерной композиции | |
JP5758407B2 (ja) | 眼科用レンズの材料のための可視光吸収剤 | |
JP6712341B2 (ja) | 硬化性組成物、硬化物、光学部材、レンズ及び化合物 | |
He et al. | Super-resolution imaging of lysosomes with a nitroso-caged rhodamine | |
DE602006004060D1 (de) | Härtbare thiol-en-zusammensetzungen für optische artikel | |
RU2008114030A (ru) | Способ получения (мет)акрилатов четырех- или более многоатомных спиртов | |
RU2012157530A (ru) | Слоистая структура с защитным слоем и облученным фотополимерным слоем, способ ее получения, а также применение этой слоистой структуры | |
JP5478148B2 (ja) | 偏光板及びその製造方法 | |
JP2019528331A (ja) | フルオレン類光開始剤、その製造方法、それを有する光硬化性組成物、及び光硬化分野におけるフルオレン類光開始剤の使用 | |
NZ605851A (en) | Method for producing flexographic printing plates using uv-led irradiation | |
BR0317983A (pt) | Processo aperfeiçoado para a preparação contìnua de (met)acrilatos de alquila com reciclagem repetida do catalisador | |
TWI684582B (zh) | 濕氣穩定之全像媒介 | |
ZA200503105B (en) | Amphoteric fluorescent whitening agents | |
WO2020015964A1 (en) | Photo-curable resin composition for 3d printing | |
Hernandez et al. | Zero-order suppression for two-photon holographic excitation | |
Pospíšil et al. | Imaging tissues and cells beyond the diffraction limit with structured illumination microscopy and Bayesian image reconstruction | |
JP2011505052A (ja) | ホログラフィー記録媒体 | |
ES2523590T3 (es) | Procedimiento de producción de aminas terciarias | |
RU2015120250A (ru) | Этоксилат-изоцианатное соединение и его применение в качестве эмульгатора |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FA93 | Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination) |
Effective date: 20140129 |