RU2012137134A - Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина - Google Patents

Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина Download PDF

Info

Publication number
RU2012137134A
RU2012137134A RU2012137134/04A RU2012137134A RU2012137134A RU 2012137134 A RU2012137134 A RU 2012137134A RU 2012137134/04 A RU2012137134/04 A RU 2012137134/04A RU 2012137134 A RU2012137134 A RU 2012137134A RU 2012137134 A RU2012137134 A RU 2012137134A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
acrylate
meth
photopolymer composition
composition according
residues
Prior art date
Application number
RU2012137134/04A
Other languages
English (en)
Inventor
Томас РЕЛЛЕ
Фридрих-Карл БРУДЕР
Томас ФЭККЕ
Марк-Штефан ВАЙЗЕР
Деннис ХЕНЕЛЬ
Original Assignee
Байер Интеллектуэль Проперти Гмбх
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Байер Интеллектуэль Проперти Гмбх filed Critical Байер Интеллектуэль Проперти Гмбх
Publication of RU2012137134A publication Critical patent/RU2012137134A/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/2805—Compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/2815—Monohydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30—Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/38—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/3802—Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having halogens
    • C08G18/3804—Polyhydroxy compounds
    • C08G18/3812—Polyhydroxy compounds having fluorine atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/42—Polycondensates having carboxylic or carbonic ester groups in the main chain
    • C08G18/44—Polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48—Polyethers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48—Polyethers
    • C08G18/4825—Polyethers containing two hydroxy groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28—Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/40—High-molecular-weight compounds
    • C08G18/48—Polyethers
    • C08G18/4833—Polyethers containing oxyethylene units
    • C08G18/4837—Polyethers containing oxyethylene units and other oxyalkylene units
    • C08G18/485—Polyethers containing oxyethylene units and other oxyalkylene units containing mixed oxyethylene-oxypropylene or oxyethylene-higher oxyalkylene end groups
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • G03C1/733—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds with macromolecular compounds as photosensitive substances, e.g. photochromic
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/035—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyurethanes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/2403—Layers; Shape, structure or physical properties thereof
    • G11B7/24035—Recording layers
    • G11B7/24044—Recording layers for storing optical interference patterns, e.g. holograms; for storing data in three dimensions, e.g. volume storage
    • G—PHYSICS
    • G11—INFORMATION STORAGE
    • G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
    • G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
    • G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
    • G11B7/245—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing a polymeric component
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H2001/026—Recording materials or recording processes
    • G03H2001/0264—Organic recording material
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2260/00—Recording materials or recording processes
    • G03H2260/12—Photopolymer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

1. Фотополимерная композиция, включающая полиуретановые полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, отличающаяся тем, что записывающие мономеры содержат соединения формулы (I),в которой R, R, Rсоответственно независимо друг от друга представляют собой ОН, галоген или органический остаток, причем по меньшей мере один из этих остатков является органическим остатком, содержащим радиационно-отверждаемую группу.2. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эти один или несколько органических остатков связаны с триазиновым кольцом через атом кислорода или азота.3. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эта радиационно-отверждаемая группа представляет собой акрилатную или метакрилатную группу.4. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что R, R, Rнезависимо друг от друга представляют собой галогены, замещенные или незамещенные фенольные, нафтольные, анилиновые, нафталиновые, 2-гидроксиэтил(мет)акрилатные, гидроксипропил(мет)акрилатные и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатные остатки, причем по меньшей мере один из остатков R, R, Rявляется 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.5. Фотополимерная композиция по п.4, отличающаяся тем, что по меньшей мере два из остатков R, R, Rсоответственно независимо друг от друга являются 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.6. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициаторы включают анионный, катионный или нейтральный краситель и соинициатор.7. Фотополимерная композиция по п.1, отличающа

Claims (11)

1. Фотополимерная композиция, включающая полиуретановые полимеры матрицы, записывающие мономеры и фотоинициаторы, отличающаяся тем, что записывающие мономеры содержат соединения формулы (I)
Figure 00000001
,
в которой R1, R2, R3 соответственно независимо друг от друга представляют собой ОН, галоген или органический остаток, причем по меньшей мере один из этих остатков является органическим остатком, содержащим радиационно-отверждаемую группу.
2. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эти один или несколько органических остатков связаны с триазиновым кольцом через атом кислорода или азота.
3. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что эта радиационно-отверждаемая группа представляет собой акрилатную или метакрилатную группу.
4. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что R1, R2, R3 независимо друг от друга представляют собой галогены, замещенные или незамещенные фенольные, нафтольные, анилиновые, нафталиновые, 2-гидроксиэтил(мет)акрилатные, гидроксипропил(мет)акрилатные и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатные остатки, причем по меньшей мере один из остатков R1, R2, R3 является 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.
5. Фотополимерная композиция по п.4, отличающаяся тем, что по меньшей мере два из остатков R1, R2, R3 соответственно независимо друг от друга являются 2-гидроксиэтил(мет)акрилатным, гидроксипропил(мет)акрилатным и/или 4-гидроксибутил(мет)акрилатным остатком.
6. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что фотоинициаторы включают анионный, катионный или нейтральный краситель и соинициатор.
7. Фотополимерная композиция по п.1, отличающаяся тем, что она дополнительно содержит в качестве пластификаторов уретаны, причем эти уретаны особенно могут быть замещены по меньшей мере одним атомом фтора.
8. Фотополимерная композиция по п.7, отличающаяся тем, что эти уретаны имеют общую формулу (II)
Figure 00000002
,
в которой n≥1 и n≤8, a R4, R5, R6 независимо друг от друга являются атомами водорода, линейными, разветвленными, циклическими или гетероциклическими незамещенными или при необходимости также замещенными гетероатомами органическими остатками, причем предпочтительно по меньшей мере один из остатков R4, R5, R6 является замещенным по меньшей мере одним атомом фтора, и особенно предпочтительно R4 является органическим остатком по меньшей мере с одним атомом фтора.
9. Фотополимерная композиция по одному из пп.1-8, отличающаяся тем, что записывающие мономеры дополнительно включают другой моно- или мультифункциональный записывающий мономер, причем речь может идти особенно о моно- или полифункциональном акрилате.
10. Фотополимерная композиция по п.9, отличающаяся тем, что этот акрилат имеет общую формулу (III)
Figure 00000003
,
в которой m≥1 и m≤4, a R7, R8 независимо друг от друга являются атомами водорода, линейными, разветвленными, циклическими или гетероциклическими незамещенными или при необходимости также замещенными гетероатомами органическими остатками.
11. Применение фотополимерной композиции по одному из пп.1-10 для получения голографических сред, особенно для изготовления осевых голограмм, внеосевых голограмм, голограмм сфокусированного изображения, голограмм, восстанавливаемых в белом свете, голограмм Денисюка, внеосевых отражательных голограмм, голограмм краевого освещения, а также голографических стереограмм.
RU2012137134/04A 2010-02-02 2011-01-28 Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина RU2012137134A (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP10001006 2010-02-02
EP10001006.5 2010-02-02
PCT/EP2011/051246 WO2011095441A1 (de) 2010-02-02 2011-01-28 Photopolymer-formulierung mit triazin-basierten schreibmonomeren

Publications (1)

Publication Number Publication Date
RU2012137134A true RU2012137134A (ru) 2014-03-10

Family

ID=42313702

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2012137134/04A RU2012137134A (ru) 2010-02-02 2011-01-28 Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9366957B2 (ru)
EP (1) EP2531892B1 (ru)
JP (1) JP6023592B2 (ru)
KR (1) KR20120125270A (ru)
CN (1) CN102763037A (ru)
BR (1) BR112012019378A2 (ru)
RU (1) RU2012137134A (ru)
WO (1) WO2011095441A1 (ru)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011054797A1 (de) * 2009-11-03 2011-05-12 Bayer Materialscience Ag Photopolymer-formulierung mit verschiedenen schreibcomonomeren
TWI506049B (zh) * 2009-11-03 2015-11-01 Bayer Materialscience Ag 具有高折射率和降低之雙鍵密度的丙烯酸胺基甲酸酯
BR112012010472A2 (pt) * 2009-11-03 2016-03-15 Bayer Materialscience Ag processo para a produção de um filme holográfico
TWI488908B (zh) * 2009-11-03 2015-06-21 Bayer Materialscience Ag 製造全像膜的方法
EP2496549B1 (de) * 2009-11-03 2014-10-08 Bayer Intellectual Property GmbH Neue, nicht kristallisierende methacrylate, deren herstellung und verwendung
EP2497081B1 (de) * 2009-11-03 2013-10-16 Bayer Intellectual Property GmbH Verfahren zur herstellung von holographischen medien
PL2496617T3 (pl) * 2009-11-03 2015-07-31 Bayer Ip Gmbh Uretany jako dodatki w formulacji fotopolimerowej
PL2497082T3 (pl) * 2009-11-03 2013-12-31 Bayer Ip Gmbh Fluorouretany jako dodatek w formulacji fotopolimerowej
EP2497084B1 (de) * 2009-11-03 2013-12-25 Bayer Intellectual Property GmbH Auswahlverfahren für additive in photopolymeren
EP2317511B1 (de) * 2009-11-03 2012-03-07 Bayer MaterialScience AG Photopolymerformulierungen mit einstellbarem mechanischem Modul Guv
US9057950B2 (en) * 2010-02-02 2015-06-16 Bayer Intellectual Property Gmbh Photopolymer formulation having ester-based writing monomers
CN103819420A (zh) * 2013-07-01 2014-05-28 江阴摩尔化工新材料有限公司 紫外光固化低聚物、其合成方法及含有该低聚物的紫外光固化涂料
US9804490B2 (en) * 2013-12-20 2017-10-31 Covestro Deutschland Ag Holographic media with improved light sensitivity
US10241402B2 (en) * 2014-12-12 2019-03-26 Covestro Deutschland Ag Naphthyl acrylates as writing monomers for photopolymers
US20180180994A1 (en) 2015-06-23 2018-06-28 Covestro Deutschland Ag Substituted triazines
WO2016207161A1 (en) * 2015-06-23 2016-12-29 Covestro Deutschland Ag New triazine as photo initiators and their preparation
EP3622511B1 (de) * 2017-05-09 2022-04-27 Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
TW201906882A (zh) * 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 含有用於全像照射的光聚合物層及高度耐性漆層之薄膜結構
KR102214895B1 (ko) * 2017-12-26 2021-02-09 삼성에스디아이 주식회사 레지스트 하층막용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성 방법
WO2020050321A1 (ja) * 2018-09-04 2020-03-12 国立大学法人電気通信大学 トリアジン環含有ハイパーブランチポリマーを含む体積ホログラム記録材料用組成物
CN112759701B (zh) * 2019-10-21 2022-12-30 杭州光粒科技有限公司 光致聚合物组合物、反射式衍射光栅及其制备方法
CN113527143B (zh) * 2020-04-20 2023-06-20 杭州光粒科技有限公司 书写单体及其制备方法以及光致聚合物组合物及其光栅

Family Cites Families (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3047532A (en) * 1958-09-30 1962-07-31 Dal Mon Research Co Triazinyl vinyl monomer and polymer and copolymers thereof
GB1429649A (en) 1972-06-22 1976-03-24 Agfagevaert Unsaturated carboxylic esters of hydroxyalkyl carbamates addition polymers derived thereform and photographic silver halide materials containing said polymers
JPS584027B2 (ja) * 1973-04-03 1983-01-24 東亞合成株式会社 シアヌル環を有するポリアクリレ−ト又はポリメタクリレ−トの製造法
US4230740A (en) * 1979-04-23 1980-10-28 W. R. Grace & Co. Heat stable, non-yellowing photopolymer compositions
JPS56152467A (en) * 1980-04-28 1981-11-26 Teijin Ltd Preparation of cyanurate group-containing (meth acrylate)
JPS5716446A (en) * 1980-07-04 1982-01-27 Fujitsu Ltd Formation of micropattern and photoresist used in said formation
JPS5850522B2 (ja) * 1981-03-31 1983-11-11 日東電工株式会社 複合半透膜及びその製造方法
JPS584027A (ja) 1981-06-27 1983-01-11 Masaya Nagashima 組立式土留よう壁の建設方法及びその装置
DE3650107T2 (de) 1985-11-20 1995-05-24 Mead Corp Ionische Farbstoffe.
IL81307A0 (en) 1986-01-23 1987-08-31 Union Carbide Agricult Method for reducing moisture loss from plants and increasing crop yield utilizing nitrogen containing heterocyclic compounds and some novel polysubstituted pyridine derivatives
US4942112A (en) * 1988-01-15 1990-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photopolymerizable compositions and elements for refractive index imaging
US5387682A (en) 1988-09-07 1995-02-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a monomeric moiety
RU2006990C1 (ru) 1991-01-22 1994-01-30 Константин Иванович Баринов Большая интегральная схема (ее варианты)
US5702846A (en) * 1994-10-03 1997-12-30 Nippon Paint Co. Ltd. Photosensitive composition for volume hologram recording
JPH0928785A (ja) * 1995-07-18 1997-02-04 Asahi Denka Kogyo Kk 眼科用レンズ
JPH09123627A (ja) * 1995-11-02 1997-05-13 Dainippon Printing Co Ltd 転写シート
US5747629A (en) * 1996-12-16 1998-05-05 Bayer Corporation Low surface energy polyisocyanates and their use in one-or two-component coating compositions
US5837586A (en) 1997-02-14 1998-11-17 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. 4-(alkoxyhydroxy)styryl triazine photinitiators and photo sensitive composition
US6627354B1 (en) * 1999-03-01 2003-09-30 Lucent Technologies Inc. Photorecording medium, process for fabricating medium, and process for holography using medium
TWI258634B (en) 1999-10-22 2006-07-21 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, a process for producing resist pattern and resist pattern laminate
US6403702B1 (en) * 1999-12-03 2002-06-11 Bayer Corporation Diurethane plasticizer containing one-shot polyurethane cast elastomers
KR100379760B1 (ko) * 2001-02-24 2003-04-10 한국화학연구원 고굴절 트리아진형 단량체
US6743552B2 (en) * 2001-08-07 2004-06-01 Inphase Technologies, Inc. Process and composition for rapid mass production of holographic recording article
US6765061B2 (en) * 2001-09-13 2004-07-20 Inphase Technologies, Inc. Environmentally durable, self-sealing optical articles
JP4071525B2 (ja) * 2002-04-08 2008-04-02 メモリーテック株式会社 光情報記録媒体
JP2004300046A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Mitsubishi Paper Mills Ltd 新規なチアジアゾール誘導体及びトリアジン誘導体、並びに感光性組成物及び平版印刷版
JP2005049608A (ja) * 2003-07-29 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 体積型ホログラム記録用感光性組成物及びそれを用いた体積型ホログラム記録媒体
JP4349613B2 (ja) * 2003-07-30 2009-10-21 大日本印刷株式会社 付加情報の付いたホログラム記録フィルム、及び、その記録方法とその真偽判定方法
JP4369780B2 (ja) * 2004-03-22 2009-11-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、及びそれを用いた画像記録材料
JP4414797B2 (ja) * 2004-03-22 2010-02-10 富士フイルム株式会社 重合性組成物、及びそれを用いた画像記録材料
JP2006330655A (ja) * 2005-04-26 2006-12-07 Fujifilm Holdings Corp 感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法
KR100684884B1 (ko) * 2005-09-12 2007-02-20 연세대학교 산학협력단 트리아진계 단량체 및 이를 포함하는 중합 조성물
CN101711410B (zh) 2007-04-11 2012-12-12 拜尔材料科学股份公司 用于全息应用的有利记录介质
JP2010524036A (ja) * 2007-04-11 2010-07-15 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト 屈折率の高い芳香族ウレタンアクリレート
CA2683886A1 (en) 2007-04-11 2008-10-23 Bayer Materialscience Ag Radiation-crosslinking and thermally crosslinking pu systems based on isocyanate-reactive block copolymers
JP5229879B2 (ja) * 2007-06-08 2013-07-03 日本化薬株式会社 （メタ）アクリレート化合物及びそれを含有する樹脂組成物並びにその硬化物
US20090142672A1 (en) * 2007-11-30 2009-06-04 Fujifilm Corporation Optical recording composition and holographic recording medium
JP4879158B2 (ja) * 2007-12-27 2012-02-22 富士フイルム株式会社 ホログラフィック記録用化合物、ホログラフィック記録用組成物、およびホログラフィック記録媒体
BR112012010472A2 (pt) * 2009-11-03 2016-03-15 Bayer Materialscience Ag processo para a produção de um filme holográfico
EP2496549B1 (de) * 2009-11-03 2014-10-08 Bayer Intellectual Property GmbH Neue, nicht kristallisierende methacrylate, deren herstellung und verwendung
WO2011054797A1 (de) * 2009-11-03 2011-05-12 Bayer Materialscience Ag Photopolymer-formulierung mit verschiedenen schreibcomonomeren
EP2497084B1 (de) * 2009-11-03 2013-12-25 Bayer Intellectual Property GmbH Auswahlverfahren für additive in photopolymeren
US9057950B2 (en) * 2010-02-02 2015-06-16 Bayer Intellectual Property Gmbh Photopolymer formulation having ester-based writing monomers
EP2372454A1 (de) * 2010-03-29 2011-10-05 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung sichtbarer Hologramme
EP2450893A1 (de) * 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren
EP2450387A1 (de) * 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung für die Herstellung holographischer Medien

Also Published As

Publication number Publication date
WO2011095441A1 (de) 2011-08-11
KR20120125270A (ko) 2012-11-14
EP2531892A1 (de) 2012-12-12
US9366957B2 (en) 2016-06-14
US20120321998A1 (en) 2012-12-20
BR112012019378A2 (pt) 2016-05-03
JP6023592B2 (ja) 2016-11-09
EP2531892B1 (de) 2016-01-27
JP2013519111A (ja) 2013-05-23
CN102763037A (zh) 2012-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2012137134A (ru) Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе триазина
JP2013519111A5 (ru)
RU2013110226A (ru) Дифункциональные (мет)-акрилатные пишущие мономеры
RU2012122586A (ru) Фотополимерные композиции с регулируемым механическим модулем guv
JP2013518952A5 (ru)
Mueller et al. Visible‐Light‐Induced Click Chemistry
BR112012013777A2 (pt) composições e tintas curáveis por meio de led de uv.
Ronzitti et al. LCoS nematic SLM characterization and modeling for diffraction efficiency optimization, zero and ghost orders suppression
JP5758407B2 (ja) 眼科用レンズの材料のための可視光吸収剤
RU2012122590A (ru) Фторуретаны в качестве добавки в фотополимерной композиции
IN2012DN03891A (ru)
RU2012157530A (ru) Слоистая структура с защитным слоем и облученным фотополимерным слоем, способ ее получения, а также применение этой слоистой структуры
MX2013000634A (es) Metodo para producir placas de impresión flexograficas usando irradiacion de uv-led.
BR0317983A (pt) Processo aperfeiçoado para a preparação contìnua de (met)acrilatos de alquila com reciclagem repetida do catalisador
TWI684582B (zh) 濕氣穩定之全像媒介
ZA200503105B (en) Amphoteric fluorescent whitening agents
WO2020015964A1 (en) Photo-curable resin composition for 3d printing
RU2011101907A (ru) Композиция герметизирующего средства, отверждаемая высокоактивным излучением, и деталь с герметизирующим слоем
KR101532341B1 (ko) 고굴절율을 갖는 광경화성 수지 조성물
US5731363A (en) Photopolymerizable composition containing sensitizing dye and titanocene compound
RU2012137135A (ru) Фотополимерная композиция с записывающими мономерами на основе сложных эфиров
CN106293864B (zh) 一种车载信息系统开发平台功能模块的移植方法
Wen et al. HiFi-SIM: reconstructing high-fidelity structured illumination microscope images
Hu et al. Compact and low-cost structured illumination microscopy using an optical fiber coupler
Lin et al. Phenanthrenequinone-doped copolymers for holographic data storage

Legal Events

Date Code Title Description
FA93 Acknowledgement of application withdrawn (no request for examination)

Effective date: 20140129