RU2011110506A - Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки - Google Patents

Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки Download PDF

Info

Publication number
RU2011110506A
RU2011110506A RU2011110506/07A RU2011110506A RU2011110506A RU 2011110506 A RU2011110506 A RU 2011110506A RU 2011110506/07 A RU2011110506/07 A RU 2011110506/07A RU 2011110506 A RU2011110506 A RU 2011110506A RU 2011110506 A RU2011110506 A RU 2011110506A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
thin film
heat treatment
equal
manufacturing
oxide superconducting
Prior art date
Application number
RU2011110506/07A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2476945C2 (ru
Inventor
Генки ХОНДА (JP)
Генки ХОНДА
Такахиро ТАНЕДА (JP)
Такахиро ТАНЕДА
Такеси КАТО (JP)
Такеси КАТО
Original Assignee
Сумитомо Электрик Индастриз, Лтд. (Jp)
Сумитомо Электрик Индастриз, Лтд.
Интернэшнл Суперкондактивити Текнолоджи Сентр, Дзе Джуридикал Фаундейшн (Jp)
Интернэшнл Суперкондактивити Текнолоджи Сентр, Дзе Джуридикал Фаундейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сумитомо Электрик Индастриз, Лтд. (Jp), Сумитомо Электрик Индастриз, Лтд., Интернэшнл Суперкондактивити Текнолоджи Сентр, Дзе Джуридикал Фаундейшн (Jp), Интернэшнл Суперкондактивити Текнолоджи Сентр, Дзе Джуридикал Фаундейшн filed Critical Сумитомо Электрик Индастриз, Лтд. (Jp)
Publication of RU2011110506A publication Critical patent/RU2011110506A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2476945C2 publication Critical patent/RU2476945C2/ru

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0296Processes for depositing or forming superconductor layers
    • H10N60/0324Processes for depositing or forming superconductor layers from a solution
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/08Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B12/00Superconductive or hyperconductive conductors, cables, or transmission lines
    • H01B12/02Superconductive or hyperconductive conductors, cables, or transmission lines characterised by their form
    • H01B12/06Films or wires on bases or cores
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
    • H01B13/0016Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables for heat treatment
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0296Processes for depositing or forming superconductor layers
    • H10N60/0548Processes for depositing or forming superconductor layers by precursor deposition followed by after-treatment, e.g. oxidation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Abstract

1. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки для применения при изготовлении сверхпроводящего провода посредством процесса нанесения покрытия пиролизом с использованием бесфтористого металлоорганического соединения в качестве исходного материала, содержащий следующие стадии: ! проведение (S10) промежуточной термообработки с пиролизом карбоната, содержащегося в тонкой пленке, которая еще должна быть подвергнута термообработке спеканием; и ! проведение (S20) упомянутой термообработки спеканием для кристаллизующей термообработки упомянутой тонкой пленки, подвергнутой упомянутой промежуточной термообработке, при этом ! упомянутую промежуточную термообработку проводят в атмосфере с концентрацией диоксида углерода, меньшей или равной 10 млн-1, и ! упомянутая промежуточная термообработка является термообработкой, проводимой в интервале температуры, большей или равной 620°C и меньшей или равной 750°C. ! 2. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутое металлоорганическое соединение является металлоорганическим соединением, содержащим комплекс β-дикетона. ! 3. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что продолжительность упомянутой промежуточной термообработки больше или равна 10 мин. ! 4. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,3 мкм. ! 5. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,6 мкм.

Claims (5)

1. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки для применения при изготовлении сверхпроводящего провода посредством процесса нанесения покрытия пиролизом с использованием бесфтористого металлоорганического соединения в качестве исходного материала, содержащий следующие стадии:
проведение (S10) промежуточной термообработки с пиролизом карбоната, содержащегося в тонкой пленке, которая еще должна быть подвергнута термообработке спеканием; и
проведение (S20) упомянутой термообработки спеканием для кристаллизующей термообработки упомянутой тонкой пленки, подвергнутой упомянутой промежуточной термообработке, при этом
упомянутую промежуточную термообработку проводят в атмосфере с концентрацией диоксида углерода, меньшей или равной 10 млн-1, и
упомянутая промежуточная термообработка является термообработкой, проводимой в интервале температуры, большей или равной 620°C и меньшей или равной 750°C.
2. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутое металлоорганическое соединение является металлоорганическим соединением, содержащим комплекс β-дикетона.
3. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что продолжительность упомянутой промежуточной термообработки больше или равна 10 мин.
4. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,3 мкм.
5. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,6 мкм.
RU2011110506/07A 2008-08-20 2009-02-18 Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки RU2476945C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008212082A JP5421561B2 (ja) 2008-08-20 2008-08-20 酸化物超電導薄膜の製造方法
JP2008-212082 2008-08-20
PCT/JP2009/052769 WO2010021159A1 (ja) 2008-08-20 2009-02-18 酸化物超電導薄膜の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011110506A true RU2011110506A (ru) 2012-09-27
RU2476945C2 RU2476945C2 (ru) 2013-02-27

Family

ID=41707042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011110506/07A RU2476945C2 (ru) 2008-08-20 2009-02-18 Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20110166026A1 (ru)
JP (1) JP5421561B2 (ru)
KR (1) KR101482543B1 (ru)
CN (1) CN102132359B (ru)
DE (2) DE112009002003B3 (ru)
RU (1) RU2476945C2 (ru)
WO (1) WO2010021159A1 (ru)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011253766A (ja) * 2010-06-03 2011-12-15 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 酸化物超電導薄膜の製造方法
JP5505867B2 (ja) * 2010-06-17 2014-05-28 住友電気工業株式会社 酸化物超電導薄膜の製造方法
JP2012234649A (ja) * 2011-04-28 2012-11-29 Sumitomo Electric Ind Ltd 酸化物超電導膜とその製造方法
WO2013153651A1 (ja) * 2012-04-12 2013-10-17 住友電気工業株式会社 酸化物超電導薄膜線材とその製造方法
RU2580213C1 (ru) * 2015-02-02 2016-04-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Омский государственный университет им. Ф.М. Достоевского" Способ формирования сверхпроводящей тонкой пленки с локальными областями переменной толщины
JP5892480B2 (ja) * 2015-04-20 2016-03-23 住友電気工業株式会社 酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0287258B1 (en) 1987-04-10 1992-07-01 AT&T Corp. Method of producing a layer of superconductive material
US4897378A (en) 1987-05-22 1990-01-30 Massachusetts Institute Of Technology Preparation of thin film superconducting oxides
AU607219B2 (en) * 1987-05-29 1991-02-28 Toray Industries, Inc. Method of forming superconductive thin films and solutions for forming the same
DE3875010T2 (de) * 1987-07-31 1993-02-18 Mitsubishi Materials Corp Zusammensetzung und verfahren zur darstellung von metalloxid-gemischen.
AU589068B2 (en) 1987-08-10 1989-09-28 Furukawa Electric Co. Ltd., The Method of manufacturing oxide superconductor, and method of manufacturing composite oxide powder which is the precursor of the oxide superconductor
JPH0264012A (ja) * 1988-04-22 1990-03-05 Ngk Spark Plug Co Ltd YBa↓2Cu↓3O↓7↓−δ系酸化物超伝導体薄膜の形成方法
US5141918A (en) * 1988-04-22 1992-08-25 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Method of forming an oxide superconducting thin film of a single phase having no carbonate
JPH07106905B2 (ja) * 1989-12-27 1995-11-15 工業技術院長 超電導体の製造方法及び超電導体
RU2039383C1 (ru) * 1992-08-07 1995-07-09 Институт монокристаллов АН Украины Способ получения высокотемпературных сверхпроводящих покрытий
RU2124774C1 (ru) * 1997-06-10 1999-01-10 Государственный научный центр Российской Федерации Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад. А.А.Бочвара Способ получения длинномерных высокотемпературных сверхпроводящих изделий
RU2124775C1 (ru) * 1997-06-10 1999-01-10 Государственный научный центр Российской Федерации Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад. А.А.Бочвара Способ получения длинномерных высокотемпературных сверхпроводящих изделий
RU2148866C1 (ru) * 1998-12-09 2000-05-10 Государственный научный центр Российской Федерации Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад.А.А.Бочвара Способ получения длинномерного провода с высокотемпературным сверхпроводящим покрытием
JP2006216365A (ja) * 2005-02-03 2006-08-17 Sumitomo Electric Ind Ltd 超電導薄膜材料、超電導線材およびこれらの製造方法
JP5156188B2 (ja) * 2005-12-14 2013-03-06 公益財団法人国際超電導産業技術研究センター 厚膜テープ状re系(123)超電導体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110056389A (ko) 2011-05-27
CN102132359B (zh) 2013-01-23
RU2476945C2 (ru) 2013-02-27
JP2010049891A (ja) 2010-03-04
WO2010021159A1 (ja) 2010-02-25
DE112009002003T8 (de) 2012-02-09
US20110166026A1 (en) 2011-07-07
JP5421561B2 (ja) 2014-02-19
DE112009002003B3 (de) 2020-12-03
CN102132359A (zh) 2011-07-20
DE112009002003T5 (de) 2011-09-29
KR101482543B1 (ko) 2015-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2011110506A (ru) Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки
CN104150476B (zh) 化学气相沉积法制备石墨烯的无损伤转移方法
SG10201803412XA (en) Methods and apparatus for depositing silicon oxide on metal layers
WO2012145148A3 (en) Low temperature silicon oxide conversion
DE602006017906D1 (de) Verfahren zum herstellen einer halbleiter-auf-isolator-struktur
TW201130056A (en) Semiconductor element and method for manufacturing the same
JP2011029637A5 (ru)
RU2013114186A (ru) Способ производства углеродсодержащего композита
WO2018120601A1 (zh) 一种制备石墨烯增强三维多孔碳自支撑薄膜的方法
ATE467220T1 (de) Verfahren zur herstellung eines keramischen elektronischen mehrschichtbauteils
RU2011107880A (ru) Способ получения неприлипающего покрытия на основе карбида кремния
CN105506540A (zh) 一种预氧化、离子渗氮、离子氮氧共渗三步复合表面改性处理方法
JP2007123873A (ja) CaOがドープされたp型のSrCu2O2薄膜の製造方法
CN104568554A (zh) 一种观测金属基底表面石墨烯形核及生长情况的方法
CN110316726B (zh) 石墨烯纳米线薄膜及其制备方法、以及薄膜晶体管阵列
EP2086014A3 (en) Conductive oxide-deposited substrate and method for producing the same, and MIS laminated structure and method for producing the same
CN105568212B (zh) 一种通过盐浴预氧化提高盐浴渗氮效率的方法
JP2013048218A5 (ru)
CN102676975B (zh) 一种纳米氧化锌薄膜及氧化锌/氧化铜半导体材料的制备方法
CN104891821B (zh) 应用不同浓度的前驱液制备多层BiFeO3薄膜的方法
TWI456779B (zh) 光吸收層之改質方法
CN107034552B (zh) 石墨烯纤维及其制备方法
CN106145898B (zh) 一种银-镍酸镧复合导电薄膜材料的制备方法
RU2521382C1 (ru) Способ изготовления мембраны для выделения водорода из газовых смесей
WO2013057065A3 (de) Keramisches erzeugnis zur verwendung als target

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20140219