RU2011110506A - Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки - Google Patents
Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки Download PDFInfo
- Publication number
- RU2011110506A RU2011110506A RU2011110506/07A RU2011110506A RU2011110506A RU 2011110506 A RU2011110506 A RU 2011110506A RU 2011110506/07 A RU2011110506/07 A RU 2011110506/07A RU 2011110506 A RU2011110506 A RU 2011110506A RU 2011110506 A RU2011110506 A RU 2011110506A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- thin film
- heat treatment
- equal
- manufacturing
- oxide superconducting
- Prior art date
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract 19
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract 18
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims abstract 5
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims abstract 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract 4
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims abstract 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 claims 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0296—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
- H10N60/0324—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers from a solution
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/08—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B12/00—Superconductive or hyperconductive conductors, cables, or transmission lines
- H01B12/02—Superconductive or hyperconductive conductors, cables, or transmission lines characterised by their form
- H01B12/06—Films or wires on bases or cores
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
- H01B13/0016—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables for heat treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0296—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
- H10N60/0548—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers by deposition and subsequent treatment, e.g. oxidation of pre-deposited material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
1. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки для применения при изготовлении сверхпроводящего провода посредством процесса нанесения покрытия пиролизом с использованием бесфтористого металлоорганического соединения в качестве исходного материала, содержащий следующие стадии: ! проведение (S10) промежуточной термообработки с пиролизом карбоната, содержащегося в тонкой пленке, которая еще должна быть подвергнута термообработке спеканием; и ! проведение (S20) упомянутой термообработки спеканием для кристаллизующей термообработки упомянутой тонкой пленки, подвергнутой упомянутой промежуточной термообработке, при этом ! упомянутую промежуточную термообработку проводят в атмосфере с концентрацией диоксида углерода, меньшей или равной 10 млн-1, и ! упомянутая промежуточная термообработка является термообработкой, проводимой в интервале температуры, большей или равной 620°C и меньшей или равной 750°C. ! 2. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутое металлоорганическое соединение является металлоорганическим соединением, содержащим комплекс β-дикетона. ! 3. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что продолжительность упомянутой промежуточной термообработки больше или равна 10 мин. ! 4. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,3 мкм. ! 5. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,6 мкм.
Claims (5)
1. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки для применения при изготовлении сверхпроводящего провода посредством процесса нанесения покрытия пиролизом с использованием бесфтористого металлоорганического соединения в качестве исходного материала, содержащий следующие стадии:
проведение (S10) промежуточной термообработки с пиролизом карбоната, содержащегося в тонкой пленке, которая еще должна быть подвергнута термообработке спеканием; и
проведение (S20) упомянутой термообработки спеканием для кристаллизующей термообработки упомянутой тонкой пленки, подвергнутой упомянутой промежуточной термообработке, при этом
упомянутую промежуточную термообработку проводят в атмосфере с концентрацией диоксида углерода, меньшей или равной 10 млн-1, и
упомянутая промежуточная термообработка является термообработкой, проводимой в интервале температуры, большей или равной 620°C и меньшей или равной 750°C.
2. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутое металлоорганическое соединение является металлоорганическим соединением, содержащим комплекс β-дикетона.
3. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что продолжительность упомянутой промежуточной термообработки больше или равна 10 мин.
4. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,3 мкм.
5. Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки по п.1, отличающийся тем, что упомянутая тонкая пленка имеет толщину, большую или равную 0,6 мкм.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008-212082 | 2008-08-20 | ||
JP2008212082A JP5421561B2 (ja) | 2008-08-20 | 2008-08-20 | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
PCT/JP2009/052769 WO2010021159A1 (ja) | 2008-08-20 | 2009-02-18 | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2011110506A true RU2011110506A (ru) | 2012-09-27 |
RU2476945C2 RU2476945C2 (ru) | 2013-02-27 |
Family
ID=41707042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2011110506/07A RU2476945C2 (ru) | 2008-08-20 | 2009-02-18 | Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110166026A1 (ru) |
JP (1) | JP5421561B2 (ru) |
KR (1) | KR101482543B1 (ru) |
CN (1) | CN102132359B (ru) |
DE (2) | DE112009002003T8 (ru) |
RU (1) | RU2476945C2 (ru) |
WO (1) | WO2010021159A1 (ru) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011253766A (ja) * | 2010-06-03 | 2011-12-15 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
JP5505867B2 (ja) * | 2010-06-17 | 2014-05-28 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
JP2012234649A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸化物超電導膜とその製造方法 |
WO2013153651A1 (ja) * | 2012-04-12 | 2013-10-17 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物超電導薄膜線材とその製造方法 |
RU2580213C1 (ru) * | 2015-02-02 | 2016-04-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Омский государственный университет им. Ф.М. Достоевского" | Способ формирования сверхпроводящей тонкой пленки с локальными областями переменной толщины |
JP5892480B2 (ja) * | 2015-04-20 | 2016-03-23 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3872430T2 (de) | 1987-04-10 | 1992-12-03 | American Telephone & Telegraph | Verfahren zur herstellung einer schicht aus supraleitendem material. |
US4897378A (en) | 1987-05-22 | 1990-01-30 | Massachusetts Institute Of Technology | Preparation of thin film superconducting oxides |
AU607219B2 (en) * | 1987-05-29 | 1991-02-28 | Toray Industries, Inc. | Method of forming superconductive thin films and solutions for forming the same |
EP0301591B1 (en) * | 1987-07-31 | 1992-09-30 | Mitsubishi Materials Corporation | Composition and process for preparing compound metal oxides |
AU589068B2 (en) | 1987-08-10 | 1989-09-28 | Furukawa Electric Co. Ltd., The | Method of manufacturing oxide superconductor, and method of manufacturing composite oxide powder which is the precursor of the oxide superconductor |
US5141918A (en) * | 1988-04-22 | 1992-08-25 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Method of forming an oxide superconducting thin film of a single phase having no carbonate |
JPH0264012A (ja) * | 1988-04-22 | 1990-03-05 | Ngk Spark Plug Co Ltd | YBa↓2Cu↓3O↓7↓−δ系酸化物超伝導体薄膜の形成方法 |
JPH07106905B2 (ja) * | 1989-12-27 | 1995-11-15 | 工業技術院長 | 超電導体の製造方法及び超電導体 |
RU2039383C1 (ru) * | 1992-08-07 | 1995-07-09 | Институт монокристаллов АН Украины | Способ получения высокотемпературных сверхпроводящих покрытий |
RU2124774C1 (ru) * | 1997-06-10 | 1999-01-10 | Государственный научный центр Российской Федерации Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад. А.А.Бочвара | Способ получения длинномерных высокотемпературных сверхпроводящих изделий |
RU2124775C1 (ru) * | 1997-06-10 | 1999-01-10 | Государственный научный центр Российской Федерации Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад. А.А.Бочвара | Способ получения длинномерных высокотемпературных сверхпроводящих изделий |
RU2148866C1 (ru) * | 1998-12-09 | 2000-05-10 | Государственный научный центр Российской Федерации Всероссийский научно-исследовательский институт неорганических материалов им.акад.А.А.Бочвара | Способ получения длинномерного провода с высокотемпературным сверхпроводящим покрытием |
JP2006216365A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超電導薄膜材料、超電導線材およびこれらの製造方法 |
JP5156188B2 (ja) * | 2005-12-14 | 2013-03-06 | 公益財団法人国際超電導産業技術研究センター | 厚膜テープ状re系(123)超電導体の製造方法 |
-
2008
- 2008-08-20 JP JP2008212082A patent/JP5421561B2/ja active Active
-
2009
- 2009-02-18 DE DE112009002003T patent/DE112009002003T8/de active Active
- 2009-02-18 DE DE112009002003.8D patent/DE112009002003B3/de active Active
- 2009-02-18 RU RU2011110506/07A patent/RU2476945C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2009-02-18 CN CN2009801326161A patent/CN102132359B/zh active Active
- 2009-02-18 WO PCT/JP2009/052769 patent/WO2010021159A1/ja active Application Filing
- 2009-02-18 KR KR1020117006369A patent/KR101482543B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-18 US US13/059,598 patent/US20110166026A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102132359A (zh) | 2011-07-20 |
WO2010021159A1 (ja) | 2010-02-25 |
JP2010049891A (ja) | 2010-03-04 |
JP5421561B2 (ja) | 2014-02-19 |
DE112009002003T8 (de) | 2012-02-09 |
RU2476945C2 (ru) | 2013-02-27 |
DE112009002003T5 (de) | 2011-09-29 |
KR20110056389A (ko) | 2011-05-27 |
US20110166026A1 (en) | 2011-07-07 |
DE112009002003B3 (de) | 2020-12-03 |
CN102132359B (zh) | 2013-01-23 |
KR101482543B1 (ko) | 2015-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2011110506A (ru) | Способ изготовления оксидной сверхпроводящей тонкой пленки | |
CN104150476B (zh) | 化学气相沉积法制备石墨烯的无损伤转移方法 | |
SG10201803412XA (en) | Methods and apparatus for depositing silicon oxide on metal layers | |
WO2012145148A3 (en) | Low temperature silicon oxide conversion | |
DE602006017906D1 (de) | Verfahren zum herstellen einer halbleiter-auf-isolator-struktur | |
JP2011029637A5 (ru) | ||
WO2010138635A3 (en) | Thin films for photovoltaic cells | |
RU2013114186A (ru) | Способ производства углеродсодержащего композита | |
JP2010034523A5 (ru) | ||
DE602006014042D1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines keramischen elektronischen Mehrschichtbauteils | |
WO2018120601A1 (zh) | 一种制备石墨烯增强三维多孔碳自支撑薄膜的方法 | |
RU2015141001A (ru) | Способ получения поверхностно-обработанного материала из металлического титана или материала из титанового сплава и поверхностно-обработанный материал | |
RU2011107880A (ru) | Способ получения неприлипающего покрытия на основе карбида кремния | |
CN105506540A (zh) | 一种预氧化、离子渗氮、离子氮氧共渗三步复合表面改性处理方法 | |
JP2007123873A (ja) | CaOがドープされたp型のSrCu2O2薄膜の製造方法 | |
CN104568554A (zh) | 一种观测金属基底表面石墨烯形核及生长情况的方法 | |
CN110316726B (zh) | 石墨烯纳米线薄膜及其制备方法、以及薄膜晶体管阵列 | |
EP2086014A3 (en) | Conductive oxide-deposited substrate and method for producing the same, and MIS laminated structure and method for producing the same | |
CN105568212B (zh) | 一种通过盐浴预氧化提高盐浴渗氮效率的方法 | |
CN103073048B (zh) | 一种液相自组装技术制备图案化的ZnO薄膜的方法 | |
CN102676975B (zh) | 一种纳米氧化锌薄膜及氧化锌/氧化铜半导体材料的制备方法 | |
CN104891821B (zh) | 应用不同浓度的前驱液制备多层BiFeO3薄膜的方法 | |
TWI456779B (zh) | 光吸收層之改質方法 | |
CN106145898B (zh) | 一种银-镍酸镧复合导电薄膜材料的制备方法 | |
TW201040302A (en) | Method of fabricating metal nitrogen oxide thin film structure |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20140219 |