JP2012234649A - 酸化物超電導膜とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】金属基板上に、有機金属化合物溶液を用いて、塗布熱分解法により、酸化物超電導膜を製造する酸化物超電導膜の製造方法であって、有機金属化合物溶液を、金属基板上に塗布して塗膜を作製する塗膜作製工程と、塗膜を加熱して、有機金属化合物を熱分解し、有機成分を除去することにより、酸化物超電導膜の前駆体膜を形成する仮焼熱処理工程と、前駆体膜を加熱して、結晶化させることにより、酸化物超電導膜を形成する本焼熱処理工程とを備えており、仮焼熱処理工程における塗膜の加熱が、酸素の含有比率が80〜100vol%の雰囲気下で行われる酸化物超電導膜の製造方法。
【選択図】なし
Description
金属基板上に、有機金属化合物溶液を用いて、塗布熱分解法により、酸化物超電導膜を製造する酸化物超電導膜の製造方法であって、
前記有機金属化合物溶液を、前記金属基板上に塗布して塗膜を作製する塗膜作製工程と、
前記塗膜を加熱して、前記有機金属化合物を熱分解し、有機成分を除去することにより、酸化物超電導膜の前駆体膜を形成する仮焼熱処理工程と、
前記前駆体膜を加熱して、結晶化させることにより、酸化物超電導膜を形成する本焼熱処理工程と
を備えており、
前記仮焼熱処理工程における前記塗膜の加熱が、酸素の含有比率が80〜100vol%の雰囲気下で行われる
ことを特徴とする酸化物超電導膜の製造方法である。
前記仮焼熱処理工程における熱処理が、450〜600℃で1〜180分間の熱処理であることを特徴とする請求項1に記載の酸化物超電導膜の製造方法である。
前記仮焼熱処理工程における昇温速度が、5〜25℃/分であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の酸化物超電導膜の製造方法である。
請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の酸化物超電導膜の製造方法を用いて製造され、残留炭素量が2.0×1019atoms/cm3以下であることを特徴とする酸化物超電導膜である。
(1)実施例1、2
以下の工程を経て、実施例1、2のYBCO超電導膜を形成した。
まず、Y、Ba、Cuの各アセチルアセトナート塩から出発してY:Ba:Cu=1:2:3の比率(モル比)で合成し、アルコールを溶媒としたMOD溶液を作製した。なおMOD溶液のY3+、Ba2+、Cu2+を合わせた総カチオン濃度を1mol/Lとした。
次に、金属基板として、SUS上に順にCu層、Ni層を形成させたクラッド基板の上に、CeO2、YSZ、CeO2の3層からなる中間層を設けた金属基板を準備し、金属基板上に、前記MOD溶液を塗布し、塗膜の作製を行った。
塗膜が形成された金属基板を、表1に示す窒素/酸素雰囲気、温度、時間、昇温速度で仮焼熱処理を施し、金属基板上に前駆体膜(仮焼膜)を形成させた。この工程を8回繰り返し行って、膜厚約1.4μmの前駆体膜を作製した。
作製された前駆体膜を、酸素濃度100ppmのアルゴン/酸素混合ガス雰囲気下に1.5時間保持して、金属基板上に膜厚約1.0μmのYBCO超電導膜を形成させた。
仮焼熱処理を表1に示す雰囲気下で施したこと以外は、実施例と同じ方法でYBCO酸化物超電導膜を作製した。
(1)測定法
イ.残留炭素量
得られたYBCO酸化物超電導膜の残留炭素量を、SIMS(二次イオン質量分析)により測定した。
得られたYBCO酸化物超電導膜のTcを、誘導測定法で測定した。
得られたYBCO酸化物超電導膜のJc、Icを、温度77K、自己磁場下で測定した。
測定結果を表1にまとめて示す。また、実施例2と比較例1(従来)の残留炭素量の測定結果を図1に示す。
仮焼熱処理の温度、時間を表2に記載した条件で行ったこと以外は実施例1と同じ方法でYBCO酸化物超電導膜を作製し、残留炭素量、Tc、Jc、Icを測定した。仮焼熱処理の温度、時間および測定結果をまとめて表2に示す。
仮焼熱処理の昇温速度を表3に記載した昇温速度としたこと以外は、実施例1と同じ方法でYBCO酸化物超電導膜を作製し、残留炭素量、Tc、Jc、Icを測定した。仮焼熱処理の昇温速度および測定結果をまとめて表3に示す。
Claims (4)
- 金属基板上に、有機金属化合物溶液を用いて、塗布熱分解法により、酸化物超電導膜を製造する酸化物超電導膜の製造方法であって、
前記有機金属化合物溶液を、前記金属基板上に塗布して塗膜を作製する塗膜作製工程と、
前記塗膜を加熱して、前記有機金属化合物を熱分解し、有機成分を除去することにより、酸化物超電導膜の前駆体膜を形成する仮焼熱処理工程と、
前記前駆体膜を加熱して、結晶化させることにより、酸化物超電導膜を形成する本焼熱処理工程と
を備えており、
前記仮焼熱処理工程における前記塗膜の加熱が、酸素の含有比率が80〜100vol%の雰囲気下で行われる
ことを特徴とする酸化物超電導膜の製造方法。 - 前記仮焼熱処理工程における熱処理が、450〜600℃で1〜180分間の熱処理であることを特徴とする請求項1に記載の酸化物超電導膜の製造方法。
- 前記仮焼熱処理工程における昇温速度が、5〜25℃/分であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の酸化物超電導膜の製造方法。
- 請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の酸化物超電導膜の製造方法を用いて製造され、残留炭素量が2.0×1019atoms/cm3以下であることを特徴とする酸化物超電導膜。
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JP2007165153A (ja) * | 2005-12-14 | 2007-06-28 | Internatl Superconductivity Technology Center | 厚膜テープ状re系(123)超電導体の製造方法。 |
JP2010049891A (ja) * | 2008-08-20 | 2010-03-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸化物超電導薄膜の製造方法 |
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