JP2012113860A - 酸化物超電導薄膜線材とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗布熱分解法を用いて、基板上に酸化物超電導薄膜が形成されている酸化物超電導薄膜線材であって、酸化物超電導薄膜の空隙率が10%以下である酸化物超電導薄膜線材。酸化物超電導薄膜が、フッ素を含まない金属有機化合物を用いた塗布熱分解法により形成されている酸化物超電導薄膜線材。基板上に金属有機化合物の溶液を塗布して塗布膜を作製する塗布膜作製工程と、塗布膜の金属有機化合物に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を作製する仮焼熱処理工程と、仮焼膜を結晶化させて、酸化物超電導薄膜を作製する本焼熱処理工程とを備えており、仮焼熱処理工程における昇温速度が、2℃/分以下である酸化物超電導薄膜線材の製造方法。
【選択図】図1
Description
塗布熱分解法を用いて、基板上に酸化物超電導薄膜が形成されている酸化物超電導薄膜線材であって、
前記酸化物超電導薄膜の空隙率が10%以下であることを特徴とする酸化物超電導薄膜線材である。
前記基板が金属基板であることを特徴とする請求項1に記載の酸化物超電導薄膜線材である。
前記基板と酸化物超電導薄膜との間に中間層が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の酸化物超電導薄膜線材である。
前記酸化物超電導薄膜線材の周囲が、保護・安定層により被覆されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材である。
前記酸化物超電導薄膜の厚みが、0.1μm以上であることを特徴とする請求項1または請求項4のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材である。
前記酸化物超電導薄膜の厚みが、3μm以下であることを特徴とする請求項1または請求項5のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材である。
前記酸化物超電導薄膜が、フッ素を含まない金属有機化合物を用いた塗布熱分解法により形成されていることを特徴とする請求項1または請求項6のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材である。
請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材の製造方法であって、
基板上に金属有機化合物の溶液を塗布して塗布膜を作製する塗布膜作製工程と、
前記塗布膜の金属有機化合物に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を作製する仮焼熱処理工程と、
前記仮焼膜を結晶化させて、酸化物超電導薄膜を作製する本焼熱処理工程と
を備えており、
前記仮焼熱処理工程における昇温速度が、2℃/分以下であることを特徴とする酸化物超電導薄膜線材の製造方法である。
前記仮焼熱処理工程と前記本焼熱処理工程との間に、前記仮焼熱処理工程において形成された炭酸バリウムの熱分解を行う中間熱処理工程を備えていることを特徴とする請求項8に記載の酸化物超電導薄膜線材の製造方法である。
本発明者は、種々の実験を行い、空隙率と有効電流パスの関係を調べた。
但し、K:コネクティビティ(有効な電流パスの割合)
P:有効な電流経路の面積割合
Pc:パーコレーション閾値
(実験により決定される値で、二次元正方格子では、約0.59)
(1)酸化物超電導薄膜線材の構成
図2に、本実施例における酸化物超電導薄膜線材の断面図を模式的に示す。図2に示す通り、本実施例における酸化物超電導薄膜線材は、SUS箔11、Cu薄膜層12、Niめっき層13が積層された金属基板1と、Y2O3層21、YSZ層22、CeO2層23が積層された中間層2と、YBCO酸化物超電導薄膜層3より構成されている。
以下の各工程により、上記のYBCO酸化物超電導薄膜線材を製造した。
基板として、配向金属基板1を用意した。
次に、前記配向金属基板1上に、厚み100nmのY2O3層21、厚み400nmのYSZ単結晶層22、厚み60nmのCeO2層23をこの順に形成させて、3層からなる中間層2を設けた。
Y、Ba、Cuの各アセチルアセトナート塩から出発してY:Ba:Cu=1:2:3の比率(モル比)で合成し、アルコールを溶媒としたMOD溶液を作製した。なお、MOD溶液のY3+、Ba2+、Cu2+を合わせた総カチオン濃度を1mol/Lとした。
次に、ダイコート法を用いて、前記MOD溶液を中間層の上に塗布し、その後乾燥することにより、厚み1μmの塗布膜を作製した。
以下、本実施例における熱処理工程、具体的には、仮焼熱処理工程、中間熱処理工程、本焼熱処理工程につき、図3を用いて説明する。図3は、本実施例における熱処理の温度プロファイルを示す図である。但し、図3においては、仮焼熱処理工程は、最後の3回分だけを記載している。なお、図4〜図6においても同様である。
塗布膜が形成された基板を雰囲気炉内に配置し、大気中、500℃まで2℃/分の昇温速度で徐々に昇温させ、30分保持して厚み0.2μmの仮焼膜を作製した。その後、1℃/分の降温速度で室温まで降温して、仮焼膜を雰囲気炉より取り出した。
500℃で30分保持して8層目の仮焼膜を作製した後、降温せず、さらに、20℃/分の昇温速度で680℃まで昇温させ、90分保持して、中間熱処理を行った。
その後、30℃/分の昇温速度で770℃まで昇温させ、90分保持して、本焼膜を作製した。次に、2℃/分の降温速度で、500℃まで降温した後、酸素100%雰囲気下でさらに1℃/分の降温速度で室温まで炉冷し、実施例の酸化物超電導薄膜線材を得た。
なお、上記の熱処理工程は、例えば、図4に示す温度プロファイルで行うこともできる。即ち、本温度プロファイルでは、前記温度プロファイルと異なり、仮焼熱処理工程において、600℃まで2℃/分の昇温速度で徐々に昇温させることにより、仮焼膜を作製し、その後、1℃/分の降温速度で室温まで降温する。その後の中間熱処理工程および本焼熱処理工程は、前記温度プロファイルと同様である。
仮焼熱処理において、10℃/分の昇温速度で500℃まで昇温し、30分保持して仮焼膜を形成した他は、実施例と同様にして、比較例1の酸化物超電導薄膜線材を得た。このときの温度プロファイルを図5に示す。
実施例および比較例1、2の酸化物超電導薄膜線材について、以下の評価を行った。
図7に、実施例の酸化物超電導薄膜線材の断面のSEM写真を示す。なお、上下の写真は、コントラストを変化させただけで、同一の写真である。図7に示すように、実施例の酸化物超電導薄膜には、空隙を示す黒い箇所がほとんど見られない。実際、得られた空隙率は2%と、極めて小さな値であった。
実施例および比較例1、2の酸化物超電導薄膜のJcを、77K、自己磁場下において測定した。
2 中間層
3 YBCO酸化物超電導薄膜層
11 SUS箔
12 Cu薄膜層
13 Niめっき層
21 Y2O3層
22 YSZ単結晶層
23 CeO2層
Claims (9)
- 塗布熱分解法を用いて、基板上に酸化物超電導薄膜が形成されている酸化物超電導薄膜線材であって、
前記酸化物超電導薄膜の空隙率が10%以下であることを特徴とする酸化物超電導薄膜線材。 - 前記基板が金属基板であることを特徴とする請求項1に記載の酸化物超電導薄膜線材。
- 前記基板と酸化物超電導薄膜との間に中間層が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の酸化物超電導薄膜線材。
- 前記酸化物超電導薄膜線材の周囲が、保護・安定層により被覆されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材。
- 前記酸化物超電導薄膜の厚みが、0.1μm以上であることを特徴とする請求項1または請求項4のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材。
- 前記酸化物超電導薄膜の厚みが、3μm以下であることを特徴とする請求項1または請求項5のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材。
- 前記酸化物超電導薄膜が、フッ素を含まない金属有機化合物を用いた塗布熱分解法により形成されていることを特徴とする請求項1または請求項6のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材。
- 請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の酸化物超電導薄膜線材の製造方法であって、
基板上に金属有機化合物の溶液を塗布して塗布膜を作製する塗布膜作製工程と、
前記塗布膜の金属有機化合物に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を作製する仮焼熱処理工程と、
前記仮焼膜を結晶化させて、酸化物超電導薄膜を作製する本焼熱処理工程と
を備えており、
前記仮焼熱処理工程における昇温速度が、2℃/分以下であることを特徴とする酸化物超電導薄膜線材の製造方法。 - 前記仮焼熱処理工程と前記本焼熱処理工程との間に、前記仮焼熱処理工程において形成された炭酸バリウムの熱分解を行う中間熱処理工程を備えていることを特徴とする請求項8に記載の酸化物超電導薄膜線材の製造方法。
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