RU2011107603A - Антиотражательная пленка и способ ее производства - Google Patents

Антиотражательная пленка и способ ее производства Download PDF

Info

Publication number
RU2011107603A
RU2011107603A RU2011107603/28A RU2011107603A RU2011107603A RU 2011107603 A RU2011107603 A RU 2011107603A RU 2011107603/28 A RU2011107603/28 A RU 2011107603/28A RU 2011107603 A RU2011107603 A RU 2011107603A RU 2011107603 A RU2011107603 A RU 2011107603A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
visible light
wave dispersion
antireflection film
substrate
reflection
Prior art date
Application number
RU2011107603/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2480796C2 (ru
Inventor
Такао ИМАОКУ (JP)
Такао ИМАОКУ
Токио ТАГУТИ (JP)
Токио ТАГУТИ
Акийоси ФУДЗИИ (JP)
Акийоси ФУДЗИИ
Казухико ЦУДА (JP)
Казухико ЦУДА
Original Assignee
Шарп Кабусики Кайся (Jp)
Шарп Кабусики Кайся
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Шарп Кабусики Кайся (Jp), Шарп Кабусики Кайся filed Critical Шарп Кабусики Кайся (Jp)
Publication of RU2011107603A publication Critical patent/RU2011107603A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2480796C2 publication Critical patent/RU2480796C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/118—Anti-reflection coatings having sub-optical wavelength surface structures designed to provide an enhanced transmittance, e.g. moth-eye structures
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/2457—Parallel ribs and/or grooves
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24479—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including variation in thickness
    • Y10T428/24612—Composite web or sheet

Abstract

1. Антиотражательная пленка, ! которая будучи нанесенной на подложку уменьшает отражение видимого света на поверхности подложки, имеет структуру волновой дисперсии для обуславливания первой волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку, и содержит материал волновой дисперсии для обуславливания второй волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку, ! в которой видимый свет, пропущенный через антиотражательную пленку, имеет "плоскую" волновую дисперсию пропускания в диапазоне видимого света. ! 2. Антиотражательная пленка, ! которая будучи нанесенной на подложку уменьшает отражение видимого света на поверхности подложки, имеет структуру волновой дисперсии для обуславливания первой волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку, и содержит материал волновой дисперсии для обуславливания второй волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку, ! в которой пропущенный свет, полученный по вхождении в антиотражательную пленку со светом от стандартного источника света D65, является бесцветным. ! 3. Антиотражательная пленка по п.1 или 2, содержащая: негладкую часть, включающую в себя множество выступов, и ! основную часть, ! в которой негладкая часть представляет собой структуру волновой дисперсии. ! 4. Антиотражательная пленка по п.3, ! в которой шаг между вершинами соседних выступов множества выступов равен длине волны видимого света или меньше. ! 5. Антиотражательная пленка по п.4, ! в которой отношение высоты h от вершины до нижней точки одного выступа к шагу р межд�

Claims (10)

1. Антиотражательная пленка,
которая будучи нанесенной на подложку уменьшает отражение видимого света на поверхности подложки, имеет структуру волновой дисперсии для обуславливания первой волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку, и содержит материал волновой дисперсии для обуславливания второй волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку,
в которой видимый свет, пропущенный через антиотражательную пленку, имеет "плоскую" волновую дисперсию пропускания в диапазоне видимого света.
2. Антиотражательная пленка,
которая будучи нанесенной на подложку уменьшает отражение видимого света на поверхности подложки, имеет структуру волновой дисперсии для обуславливания первой волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку, и содержит материал волновой дисперсии для обуславливания второй волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку,
в которой пропущенный свет, полученный по вхождении в антиотражательную пленку со светом от стандартного источника света D65, является бесцветным.
3. Антиотражательная пленка по п.1 или 2, содержащая: негладкую часть, включающую в себя множество выступов, и
основную часть,
в которой негладкая часть представляет собой структуру волновой дисперсии.
4. Антиотражательная пленка по п.3,
в которой шаг между вершинами соседних выступов множества выступов равен длине волны видимого света или меньше.
5. Антиотражательная пленка по п.4,
в которой отношение высоты h от вершины до нижней точки одного выступа к шагу р между вершинами соседних выступов множества выступов есть 0,1<h/p<5,0.
6. Антиотражательная пленка по п.1,
в которой материал волновой дисперсии является материалом, отверждаемым видимым светом.
7. Антиотражательная пленка по п.6,
в которой отверждаемый видимым светом материал включает в себя инициатор полимеризации, активизируемый видимым светом.
8. Антиотражательная пленка,
которая будучи нанесенной на подложку уменьшает отражение видимого света на поверхности подложки, имеет структуру волновой дисперсии для обуславливания третьей волновой дисперсии видимого света по его отражении на поверхности этой антиотражательной пленки и содержит материал волновой дисперсии для обуславливания второй волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку,
в которой свет имеет "плоскую" волновую дисперсию пропускания в диапазоне видимого света, причем этот свет включает в себя видимый свет, отраженный на поверхности этой антиотражательной пленки, и видимый свет, который падает со стороны подложки и пропущен через эту антиотражательную пленку.
9. Антиотражательная пленка,
которая будучи нанесенной на подложку уменьшает отражение видимого света на поверхности подложки, имеет структуру волновой дисперсии для обуславливания третьей волновой дисперсии видимого света по его отражении на поверхности этой антиотражательной пленки и для обуславливания первой волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку, и содержит материал волновой дисперсии для обуславливания второй волновой дисперсии видимого света, пропускаемого через эту антиотражательную пленку,
в которой свет имеет "плоскую" волновую дисперсию пропускания в диапазоне видимого света, причем этот свет включает в себя видимый свет, отраженный на поверхности этой антиотражательной пленки, и видимый свет, который падает со стороны подложки и пропущен через эту антиотражательную пленку.
10. Способ изготовления антиотражательной пленки, включающий:
- первый этап нанесения отверждаемой под воздействием видимого света смолы на подложку, содержащую поглощающий УФ излучение компонент, для формирования пленки;
- второй этап формирования негладкой части на поверхности пленки для образования пленки, включающей в себя множество выступов, причем шаг между вершинами соседних выступов множества выступов равен длине волны видимого света или меньше; и
- третий этап иррадиации этой пленки видимым светом со стороны подложки и, тем самым, отверждения пленки, имеющей негладкую часть, для образования антиотражательной пленки,
в котором антиотражательная пленка, будучи нанесенной на подложку, уменьшает отражение видимого света на поверхности подложки.
RU2011107603/28A 2008-09-17 2009-09-01 Антиотражательная пленка и способ ее производства RU2480796C2 (ru)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008238051 2008-09-17
JP2008-238051 2008-09-17
PCT/JP2009/065271 WO2010032610A1 (ja) 2008-09-17 2009-09-01 反射防止膜及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2011107603A true RU2011107603A (ru) 2012-10-27
RU2480796C2 RU2480796C2 (ru) 2013-04-27

Family

ID=42039444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2011107603/28A RU2480796C2 (ru) 2008-09-17 2009-09-01 Антиотражательная пленка и способ ее производства

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8747994B2 (ru)
EP (1) EP2333590B1 (ru)
JP (1) JP5148712B2 (ru)
CN (1) CN102066987B (ru)
BR (1) BRPI0918511A2 (ru)
RU (1) RU2480796C2 (ru)
WO (1) WO2010032610A1 (ru)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102007051752B4 (de) * 2007-10-30 2010-01-28 X-Fab Semiconductor Foundries Ag Licht blockierende Schichtenfolge und Verfahren zu deren Herstellung
JP5511313B2 (ja) * 2008-11-07 2014-06-04 キヤノン株式会社 光学素子成形用金型、光学素子成形用金型の製造方法、光学素子、および光学素子の製造方法
KR20100064215A (ko) * 2008-12-04 2010-06-14 삼성전자주식회사 표시 장치
US20130089662A1 (en) * 2010-07-12 2013-04-11 Dexerials Corporation Method of producing master plate, method of producing alignment film, method of producing retardation film, and method of producing display device
JPWO2012043573A1 (ja) * 2010-10-01 2014-02-24 住友ベークライト株式会社 光導波路、光導波路モジュールおよび電子機器
US20130309452A1 (en) * 2011-02-01 2013-11-21 Sharp Kabushiki Kaisha Laminate and method for producing laminate
EP2711742A4 (en) * 2011-05-17 2014-10-29 Canon Denshi Kk OPTICAL FILTER, OPTICAL DEVICE, ELECTRONIC DEVICE AND ANTI-REFLECTION COMPLEX
JP2012252224A (ja) * 2011-06-03 2012-12-20 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止フィルム
TWI525229B (zh) 2011-11-18 2016-03-11 財團法人工業技術研究院 氧化鋅抗反射層與其製法
JP5903943B2 (ja) * 2012-03-13 2016-04-13 大日本印刷株式会社 反射防止フィルムの製造方法、賦型用金型の製造方法及び反射防止フィルム
JP2013254130A (ja) * 2012-06-08 2013-12-19 Dexerials Corp 光学素子およびその製造方法、表示素子、ならびに投射型画像表示装置
JP6386700B2 (ja) 2012-07-04 2018-09-05 キヤノン株式会社 構造体、光学部材、反射防止膜、撥水性膜、質量分析用基板、位相板、構造体の製造方法、及び反射防止膜の製造方法
TWI490574B (zh) * 2013-04-03 2015-07-01 聚森股份有限公司 發電模組及其導光膜
TWI547378B (zh) * 2013-04-05 2016-09-01 三菱麗陽股份有限公司 積層結構體及其製造方法、物品
JP6167005B2 (ja) * 2013-10-04 2017-07-19 富士フイルム株式会社 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置
US10254169B2 (en) * 2014-09-09 2019-04-09 The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Optical detector based on an antireflective structured dielectric surface and a metal absorber
CN106796310B (zh) * 2014-10-07 2018-11-30 夏普株式会社 透明膜和透明膜的制造方法
JP6495625B2 (ja) * 2014-11-11 2019-04-03 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
WO2016128029A1 (en) * 2015-02-10 2016-08-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv multilayer mirror, optical system including a multilayer mirror and method of manufacturing a multilayer mirror
JP6730803B2 (ja) * 2015-12-18 2020-07-29 デクセリアルズ株式会社 反射防止光学体の形成方法、ディスプレイパネルおよび光学フィルム
JP6623058B2 (ja) * 2015-12-18 2019-12-18 デクセリアルズ株式会社 反射防止光学体の形成方法およびディスプレイパネル
US10877181B2 (en) * 2016-11-11 2020-12-29 AGC Inc. Substrate with low-reflection property and manufacturing method thereof
CN107065041A (zh) * 2017-05-10 2017-08-18 武汉华星光电技术有限公司 一种偏光片的制备方法、偏光片及显示装置
JP7025892B2 (ja) * 2017-11-07 2022-02-25 デクセリアルズ株式会社 積層体、反射防止構造体及びカメラモジュール搭載装置
CN108445564A (zh) * 2018-05-17 2018-08-24 浙江彩丞照明科技有限公司 一种具有非直线棱角锥微结构的防眩光板
JP7208765B2 (ja) * 2018-11-08 2023-01-19 デクセリアルズ株式会社 積層体、積層体の製造方法、光学体の形成方法及びカメラモジュール搭載装置
CN113905556A (zh) * 2021-09-27 2022-01-07 Oppo广东移动通信有限公司 壳体及其制作方法、电子设备
US11951406B2 (en) * 2022-05-08 2024-04-09 Bagira Systems Ltd. Portable gaming console

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4253862B2 (ja) 1998-04-22 2009-04-15 株式会社ブリヂストン 反射防止フィルム
JP4281137B2 (ja) * 1999-01-14 2009-06-17 住友化学株式会社 反射防止膜
JP4197100B2 (ja) * 2002-02-20 2008-12-17 大日本印刷株式会社 反射防止物品
JP2003240903A (ja) 2002-02-20 2003-08-27 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止物品
JP2003279705A (ja) * 2002-03-25 2003-10-02 Sanyo Electric Co Ltd 反射防止部材
JP2003344855A (ja) * 2002-05-30 2003-12-03 Mitsubishi Chemicals Corp フロントライト用導光板
JP2004205990A (ja) 2002-12-26 2004-07-22 Dainippon Printing Co Ltd 反射防止性能を有する微細凹凸パターンの作製方法及び反射防止物品
JP4270968B2 (ja) * 2003-07-10 2009-06-03 オリンパス株式会社 反射防止面付光学素子を持つ光学系を備えた光学機器
JP2006018062A (ja) * 2004-07-02 2006-01-19 Konica Minolta Opto Inc 反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
JP2007079392A (ja) 2005-09-16 2007-03-29 Fujifilm Corp 光学フィルム、表示装置、偏向板
JP2007196397A (ja) 2006-01-23 2007-08-09 Fujifilm Corp 凹凸状シートの製造方法及び装置
CN101825730B (zh) * 2006-08-21 2012-07-04 索尼株式会社 光学元件、光学元件制作用原盘的制造方法以及光电转换装置
WO2008069223A1 (en) * 2006-12-05 2008-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Anti-reflection film and display device
WO2008069164A1 (en) 2006-12-05 2008-06-12 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Antireflection film and display device
JP2008194977A (ja) * 2007-02-14 2008-08-28 Hitachi Maxell Ltd 成形体の製造方法及び製造装置
JP2008209540A (ja) 2007-02-26 2008-09-11 Mitsubishi Rayon Co Ltd 反射防止物品
JP5050605B2 (ja) 2007-03-27 2012-10-17 栗田工業株式会社 有機物処理方法及び有機物処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2010032610A1 (ja) 2010-03-25
RU2480796C2 (ru) 2013-04-27
CN102066987B (zh) 2016-06-22
EP2333590B1 (en) 2017-06-21
JP5148712B2 (ja) 2013-02-20
JPWO2010032610A1 (ja) 2012-02-09
BRPI0918511A2 (pt) 2015-12-01
US8747994B2 (en) 2014-06-10
EP2333590A4 (en) 2011-09-07
US20110123777A1 (en) 2011-05-26
EP2333590A1 (en) 2011-06-15
CN102066987A (zh) 2011-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2011107603A (ru) Антиотражательная пленка и способ ее производства
TWI672817B (zh) 太陽能電池的製造方法及製得的太陽能電池
US8354682B2 (en) Radiation emitting element
CN102116893B (zh) 导光板的制作方法、导光板、背光模块及液晶显示器
RU2012147573A (ru) Слоистая конструкция с внутренними полостями для использования с фотоэлементами и способ ее изготовления
US20220121097A1 (en) Projection screen and projection system
CN103336328B (zh) 偏光片组件及显示设备
JP2011023515A (ja) 光起電力装置用保護基板およびその製造方法
CN101464586A (zh) 具有前光模块的显示装置
CN109473529B (zh) 纳米阵列结构薄膜、制备方法及led器件
CN105870361A (zh) 光学膜的制作方法、光学器件、显示基板及显示装置
TWI493235B (zh) 導光體及其製造方法
WO2009034861A1 (ja) 光拡散板用樹脂組成物、光拡散板及びその製造方法
US20120138119A1 (en) Package structure of solar photovoltaic module and method of manufacturing the same
US20160268465A1 (en) Solar cell module for increasing light trapping efficiency by forming nano plastic balls in light-concentrating part
US20120009382A1 (en) Guard substrate for optical electromotive force equipment, and its production process
KR20160013104A (ko) 근적외선 흡수성 조성물, 근적외선 차단 필터 및 그 제조 방법, 그리고 카메라 모듈 및 그 제조 방법
KR20090020494A (ko) 광학 적층체
US20140286050A1 (en) Backlight module
CN111029421A (zh) 一种实现近红外光吸收增强的微纳米阵列结构
KR101201543B1 (ko) 태양전지 모듈 및 그 제조방법
CN105206697A (zh) 太阳能光伏组件及其制备方法
JP2010164823A (ja) 反射防止積層体
Liang et al. Improving optical performance of NUV-LEDs by highly reflective BN/silicone structures
TWI649366B (zh) 具次波長結構之增亮層應用於光電元件上之方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20150902