TWI493235B - 導光體及其製造方法 - Google Patents

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Description

導光體及其製造方法
本發明涉及導光體及其製造方法。
導光體廣泛應用于背光模组中作導光之用。通常一種導光體只有一種功能，例如聚光或勻光等，其可以是板狀、片狀亦或是薄膜形態。各種功能之導光體組合起來即可達到所需之導光效果。
然而，各種功能之導光體之單純組合，常導致體積較大，重量較重，光傳播損失，且耗費之成本較多。
有鑒於此，有必要提供一種可以克服上述缺點的導光體及其製造方法。
一種導光體製造方法，其包括如下步驟：形成一未固化的透光的第一膠體層；於該第一膠體層的表面形成擴散光的凹凸結構；固化該具有凹凸結構的第一膠體層；於該凹凸結構上塗覆一未固化的透光的第二膠體層；固化該第二膠體層；於該第二膠體層的表面塗覆一未固化的透光的第三膠體層； 於該第三膠體層的表面形成複數背離該第二膠體層的聚光的棱鏡；以及固化該具有棱鏡的第三膠體層。
一種導光體，其包括透光的依序疊置、分別固化形成一體結構的第一膠體層、第二膠體層及第三膠體層。該第一膠體層連接該第二膠體層的界面形成有複數擴散光的凹凸結構，該第三膠體層形成有複數背離該第二膠體層的聚光的棱鏡。
相對於先前技術，本發明提供之導光體利用依序疊置、分別固化形成一體結構的方法使三層膠體層形成兼具聚光和擴散光兩種功能的一體結構。該一體結構使導光體重量減少，成本減小，光可以直接在導光體內傳播，使光損失減少。
100‧‧‧導光體
20‧‧‧第一膠體層
22‧‧‧凹凸結構
30‧‧‧第二膠體層
40‧‧‧第三膠體層
42‧‧‧棱鏡
10‧‧‧下保護膜
50‧‧‧上保護膜
圖1係本發明實施例提供的導光體的示意圖，其中該導光體包括了可被撕離的上下保護膜。
請參閱圖1，本發明實施例提供的導光體100主要包括依序疊置的一第一膠體層20，一第二膠體層30以及一第三膠體層40。該第一膠體層20，第二膠體層30以及第三膠體層40依序分別固化形成一體結構。
該第一膠體層20及第二膠體層30選用環氧樹脂、聚甲基丙稀酸甲酯(PMMA)及矽膠中的一種。該第一膠體層20與該第二膠體層30連接的界面具有複數擴散光的凹凸結構22。該第一膠體層20和第二膠體層30分層形成且先後固化，以形成該界面。該凹凸結構22 可以用模具轉印的方法或粒子摻雜的方法形成(見以下的方法實施例)。特別地，當該第一膠體層20及第二膠體層30選用相同的材質，且用模具轉印方法形成凹凸結構22時，該凹凸結構22最好深度尺寸大一些，如此在第二膠體層30塗覆於該凹凸結構22上時，該凹凸結構22的凹陷處未完全填滿該第二膠體層30的材料，因此可以最終在該第一膠體層20及第二膠體層30之間形成孔洞式的凹凸結構。可以理解，當該第一膠體層20和第二膠體層30連接的界面是不同材料時，該凹凸結構界面如終存在，不會因為第二膠體層30的覆蓋而消失。
該第三膠體層40的材質選用UV膠。該第三膠體層40形成有複數背離該第二膠體層30的聚光的棱鏡42。
該導光體100還可以包括具有脫膜性的一下保護膜10及一上保護膜50。該下保護膜10貼附於該第一膠體層20背離該第二膠體層30的底面，該上保護膜50覆蓋於該第三膠體層40的棱鏡42上。該下保護膜10、上保護膜50表面均為平面。該下保護膜10、上保護膜50可保護膠體層的結構不被污染或破壞。在導光體100使用時，該下保護膜10、上保護膜50可被撕離。由於具有脫膜性，該下保護膜10、上保護膜50不會破壞該些膠體層。該下保護膜10、上保護膜50可選用與該些膠體層不同的材質。該下保護膜10、上保護膜50可被重複使用。
該導光體100可以使用於背光模組中，其兼具聚光和擴散光兩種功能。光線可以先經過棱鏡42會聚再經過凹凸結構22擴散均勻。該導光體一體結構使導光體重量減少，成本減小，光可以直接在導光體內傳播，使光損失減少。
該導光體100可依照如下方法製得。首先，形成一未固化的透光的第一膠體層20。接著，於該第一膠體層20的表面形成擴散光的凹凸結構22，然後固化該具有凹凸結構22的第一膠體層20。其中，該凹凸結構22可以使用模具轉印的方法形成，此時該凹凸結構22與該第一膠體層20為一體。另外，可以直接在該第一膠體層20的表面撒入粒子，以在該第一膠體層20的表面形成凹凸結構；或者在模具轉印的凹凸結構上再撒入粒子，以更好地在該第一膠體層20和第二膠體層30之間形成凹凸結構界面。該粒子有透明、高折射率的光學性質。
其次，於該凹凸結構22上塗覆一未固化的透光的第二膠體層30，然後固化該第二膠體層30。該第二膠體層30固化後，即具有一定硬度，如此在形成第三膠體層40的棱鏡42時，可以起到支撐作用。該第二膠體層30需要適當的厚度，該厚度以大於第一膠體層20為宜，可以起到支撐作用且不破壞凹凸結構22。
接下來，於該第二膠體層30的表面塗覆一透光的第三膠體層40，接著，於該第三膠體層40的表面形成複數背離該第二膠體層30的聚光的棱鏡42，然後固化該具有棱鏡42的第三膠體層40。其中，可以使用模具轉印的方法形成該些棱鏡42。
特別地，該第一膠體層20可以直接先形成於該下保護膜10上，即該下保護膜10可先充當基材，至導光體100使用時再撕離。該第三膠體層40固化後，該上保護膜50可覆蓋於棱鏡42上，至導光體100使用時再撕離。
該第三膠體層40可直接用UV光固化。該第一膠體層20和第二膠體層30可依據所使用的材料的一般性固化方法固化，例如電子束輻 射固化、熱固化等。
綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
100‧‧‧導光體
20‧‧‧第一膠體層
22‧‧‧凹凸結構
30‧‧‧第二膠體層
40‧‧‧第三膠體層
42‧‧‧棱鏡
10‧‧‧下保護膜
50‧‧‧上保護膜

Claims (10)

  1. 一種導光體製造方法，其包括如下步驟：形成一未固化的透光的第一膠體層；於該第一膠體層的表面形成擴散光的凹凸結構；固化該具有凹凸結構的第一膠體層；於該凹凸結構上塗覆一未固化的透光的第二膠體層；固化該第二膠體層；於該第二膠體層的表面塗覆一未固化的透光的第三膠體層；於該第三膠體層的表面形成複數背離該第二膠體層的聚光的棱鏡；以及固化該具有棱鏡的第三膠體層；其中該第一膠體層和該第二膠體層以相同材質製作，該第二膠體層未完全填充該凹凸結構的凹處。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之導光體製造方法，其中：還包括提供一具有脫模性的下保護膜，該第一膠體層直接形成於該下保護膜上。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之導光體製造方法，其中：還包括提供一具有脫模性的上保護膜，該上保護膜覆蓋於該第三膠體層的棱鏡上。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之導光體製造方法，其中：進一步包括撕離該下保護膜和上保護膜的步驟。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之導光體製造方法，其中：該凹凸結構通過模具轉印形成。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之導光體製造方法，其中：該凹凸結構通過混入粒子形成。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之導光體製造方法，其中：該第一膠體層及該 第二膠體層選自環氧樹脂、聚甲基丙稀酸甲酯及矽膠中的一種，該第三膠體層的材質為UV膠。
  8. 一種導光體，其包括依序疊置、分別固化形成一體結構的透光的第一膠體層、第二膠體層及第三膠體層，該第一膠體層連接該第二膠體層的界面形成有複數擴散光的凹凸結構，該第三膠體層形成有複數背離該第二膠體層的聚光的棱鏡；其中該第一膠體層和該第二膠體層以相同材質製作，該第二膠體層未完全填充該凹凸結構的凹處。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之導光體，其中：該凹凸結構通過混入粒子形成。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之導光體，其中：該第一膠體層及該第二膠體層選自環氧樹脂、聚甲基丙稀酸甲酯及矽膠中的一種，該第三膠體層的材質為UV膠。
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