RU2010117196A - Система и способ нанесения покрытий из металлических сплавов посредством применения гальванической технологии - Google Patents
Система и способ нанесения покрытий из металлических сплавов посредством применения гальванической технологии Download PDFInfo
- Publication number
- RU2010117196A RU2010117196A RU2010117196/02A RU2010117196A RU2010117196A RU 2010117196 A RU2010117196 A RU 2010117196A RU 2010117196/02 A RU2010117196/02 A RU 2010117196/02A RU 2010117196 A RU2010117196 A RU 2010117196A RU 2010117196 A RU2010117196 A RU 2010117196A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- cathode
- specified
- anode
- law
- solution
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/18—Electroplating using modulated, pulsed or reversing current
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/60—Electroplating characterised by the structure or texture of the layers
- C25D5/615—Microstructure of the layers, e.g. mixed structure
- C25D5/617—Crystalline layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
1. Способ нанесения покрытия из металлических сплавов, при котором в раствор (3) электролита погружаются по меньшей мере один анод (4, 4а, 4b) и один катод, каждый из которых является электропроводящим, и при котором между указанным по меньшей мере одним анодом (4, 4а, 4b) и указанным катодом прикладывается разность потенциалов с целью осуществления осаждения ряда металлов, предназначенного для образования на катоде сплава, при этом указанная разность потенциалов, прикладываемая между анодом (4, 4а, 4b) и катодом, имеет величину, которая по времени следует заранее заданному закону, а сам способ отличается содержанием этапов: ! - помещения указанного катода в указанный раствор (3) электролита, ! - приложения указанной разности на всей продолжительности прохождения подготовительного этапа способа, при этом подготовительный этап завершается, как только достигается стационарное состояние, при котором величины отношений концентраций в растворе ионов указанных металлических компонентов больше не изменяются, ! - извлечения указанного катода из раствора (3) в конце подготовительного этапа и замены указанного катода новым катодом, содержащим проводящую структуру, ! - помещения в указанный раствор указанного нового катода, ! - приложения второй разности потенциалов между указанным новым катодом и указанным по меньшей мере одним анодом, определяемой вторым заранее заданным законом, устанавливающим величину указанной второй разности потенциалов в динамике по времени. ! 2. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанный закон имеет импульсную природу. ! 3. Способ по п.1, при котором указанный закон определяет, что разность потенциало�
Claims (18)
1. Способ нанесения покрытия из металлических сплавов, при котором в раствор (3) электролита погружаются по меньшей мере один анод (4, 4а, 4b) и один катод, каждый из которых является электропроводящим, и при котором между указанным по меньшей мере одним анодом (4, 4а, 4b) и указанным катодом прикладывается разность потенциалов с целью осуществления осаждения ряда металлов, предназначенного для образования на катоде сплава, при этом указанная разность потенциалов, прикладываемая между анодом (4, 4а, 4b) и катодом, имеет величину, которая по времени следует заранее заданному закону, а сам способ отличается содержанием этапов:
- помещения указанного катода в указанный раствор (3) электролита,
- приложения указанной разности на всей продолжительности прохождения подготовительного этапа способа, при этом подготовительный этап завершается, как только достигается стационарное состояние, при котором величины отношений концентраций в растворе ионов указанных металлических компонентов больше не изменяются,
- извлечения указанного катода из раствора (3) в конце подготовительного этапа и замены указанного катода новым катодом, содержащим проводящую структуру,
- помещения в указанный раствор указанного нового катода,
- приложения второй разности потенциалов между указанным новым катодом и указанным по меньшей мере одним анодом, определяемой вторым заранее заданным законом, устанавливающим величину указанной второй разности потенциалов в динамике по времени.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что указанный закон имеет импульсную природу.
3. Способ по п.1, при котором указанный закон определяет, что разность потенциалов между указанным катодом и указанным анодом (4, 4а, 4b) снимается, как только достигается стационарное состояние, при котором величины соотношений концентраций в растворе ионов указанных металлических компонентов больше не изменяются.
4. Способ по п.2, при котором указанный закон определяет, что разность потенциалов между указанным катодом и указанным анодом (4, 4а, 4b) снимается, как только достигается стационарное состояние, при котором величины соотношений концентраций в растворе ионов указанных металлических компонентов больше не изменяются.
5. Способ по п.1, при котором указанный второй закон является идентичным указанному закону.
6. Способ по п.2, при котором указанный второй закон является идентичным указанному закону.
7. Способ по п.1, при котором указанный второй закон является отличающимся от указанного закона.
8. Способ по любому из пп.1-7, при котором указанный ряд металлов содержит ряд металлических элементов или компонентов, присутствующих в указанном растворе в ионной форме.
9. Способ по п.8, при котором указанный по меньшей мере один анод (4) содержит по меньшей мере некоторые из указанных металлов.
10. Способ по п.9, при котором анод (4) является поддающимся растворению.
11. Способ по п.10, при котором анод (4) содержит все металлы, которые предназначаются для осаждения на катоде.
12. Способ по п.11, при котором указанный по меньшей мере один анод имеет такую же массовую композицию, как и металлический сплав, предназначенный для осаждения на новом катоде.
13. Способ по любому из пп.1-7, отличающийся содержанием этапов генерирования в растворе электролита ванны ионов Н+ в таком же количестве, как и выделяющиеся в газообразной форме, для поддержания концентрации ионов H+ в растворе на постоянном уровне.
14. Способ по п.13, отличающийся тем, что этап генерирования ионов Н+ выполняется подачей к компенсационному аноду заранее заданного компенсационного тока.
15. Способ по любому из пп.1-7, отличающийся тем, что указанные предназначенные для осаждения металлы содержат по меньшей мере три различных химических элемента.
16. Способ по п.8, отличающийся тем, что указанные предназначенные для осаждения металлы содержат по меньшей мере три различных химических элемента.
17. Способ по п.8, отличающийся содержанием этапов генерирования в растворе электролита ванны ионов Н+ в таком же количестве, как и выделяющиеся в газообразной форме, для поддержания концентрации ионов Н+ в растворе на постоянном уровне.
18. Способ по п 17, отличающийся тем, что этап генерирования ионов Н+ выполняется подачей к компенсационному аноду заранее заданного компенсационного тока.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT000704A ITTO20070704A1 (it) | 2007-10-05 | 2007-10-05 | Sistema e metodo di placcatura di leghe metalliche mediante tecnologia galvanica |
ITTO2007A000704 | 2007-10-05 | ||
PCT/IB2008/002612 WO2009044266A2 (en) | 2007-10-05 | 2008-10-03 | System and method of plating metal alloys by using galvanic technology |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2010117196A true RU2010117196A (ru) | 2011-11-10 |
RU2473718C2 RU2473718C2 (ru) | 2013-01-27 |
Family
ID=40314127
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2010117196/02A RU2473718C2 (ru) | 2007-10-05 | 2008-10-03 | Система и способ нанесения покрытий из металлических сплавов посредством применения гальванической технологии |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8668817B2 (ru) |
EP (1) | EP2212451A2 (ru) |
JP (1) | JP5487108B2 (ru) |
KR (1) | KR20100089069A (ru) |
CN (1) | CN101889107B (ru) |
AU (1) | AU2008306569B2 (ru) |
CA (1) | CA2701685A1 (ru) |
IL (1) | IL204627A (ru) |
IT (1) | ITTO20070704A1 (ru) |
MX (1) | MX2010003358A (ru) |
RU (1) | RU2473718C2 (ru) |
WO (1) | WO2009044266A2 (ru) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011120052A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Colorado State University Research Foundation | Self-assembly of coatings utilizing surface charge |
US9689084B2 (en) * | 2014-05-22 | 2017-06-27 | Globalfounries Inc. | Electrodeposition systems and methods that minimize anode and/or plating solution degradation |
EP3571334A1 (en) * | 2017-01-18 | 2019-11-27 | Arconic Inc. | Systems and methods for electrodepositing multi-component alloys, and products made from the same |
CN110286608B (zh) * | 2019-06-06 | 2021-09-21 | 上海蓝箭实业发展有限公司 | 原煤仓动态补偿处理系统及方法 |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1387425A (en) * | 1919-10-13 | 1921-08-09 | Merritt Metals Company | Electrolytic process and apparatus |
GB469438A (en) | 1936-06-20 | 1937-07-26 | Carlo Albin | Improvements in or relating to a method of producing a heavy metal galvanizing solution |
FR863312A (fr) * | 1939-02-20 | 1941-03-29 | Procédé et appareil pour le dépôt électrolytique d'alliages d'étain | |
US3141837A (en) * | 1961-11-28 | 1964-07-21 | Rca Corp | Method for electrodepositing nickel-iron alloys |
US3296100A (en) | 1962-05-09 | 1967-01-03 | Yawata Iron & Steel Co | Process for producing anticorrosive surface treated steel sheets and product thereof |
US3349016A (en) * | 1965-01-12 | 1967-10-24 | Int Nickel Co | Process for employing an auxiliary anode made of high purity nickel |
US3634211A (en) | 1969-10-06 | 1972-01-11 | M & T Chemicals Inc | Process for electroplating chromium and electrolytes therefor |
GB1283024A (en) * | 1970-01-22 | 1972-07-26 | B J S Electro Plating Company | Electro-depositing silver alloys |
DE2121150C3 (de) * | 1971-04-24 | 1980-08-21 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Goldlegierungen |
US3764486A (en) * | 1972-01-03 | 1973-10-09 | Buckbee Mears Co | Method of making memory planes |
US3775267A (en) | 1973-01-04 | 1973-11-27 | Bell Telephone Labor Inc | Electrodeposition of rhodium |
US4189359A (en) * | 1975-08-13 | 1980-02-19 | Societe Metallurgique Le Nickel-Sln | Process for the electrodeposition of ferro-nickel alloys |
DE2605669C3 (de) * | 1976-02-13 | 1982-11-18 | E.D. Rode KG, 2000 Hamburg | Verfahren und Anlage zur Regelung der kathodischen Stromdichte in galvanischen Bädern |
DE3067925D1 (en) * | 1979-06-01 | 1984-06-28 | Emi Ltd | High-speed plating arrangement and stamper plate formed using such an arrangement |
DE3012168A1 (de) | 1980-03-27 | 1981-10-01 | Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin | Verfahren zur galvanischen abscheidung von kupferniederschlaegen |
US4686017A (en) * | 1981-11-05 | 1987-08-11 | Union Oil Co. Of California | Electrolytic bath and methods of use |
US4461680A (en) * | 1983-12-30 | 1984-07-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of Commerce | Process and bath for electroplating nickel-chromium alloys |
US4725339A (en) * | 1984-02-13 | 1988-02-16 | International Business Machines Corporation | Method for monitoring metal ion concentrations in plating baths |
GB8411063D0 (en) | 1984-05-01 | 1984-06-06 | Mccormick M | Chromium electroplating |
USRE34191E (en) * | 1989-05-31 | 1993-03-09 | Eco-Tec Limited | Process for electroplating metals |
RU1794111C (ru) * | 1990-07-10 | 1993-02-07 | Днепропетровский Институт Инженеров Железнодорожного Транспорта Им.М.И.Калинина | Способ нанесени покрытий сплавом золото-никель |
JPH05247694A (ja) * | 1992-03-03 | 1993-09-24 | Mitsubishi Materials Corp | Zn−Ni合金電気メッキ用可溶性Zn−Niアノード |
JPH06146087A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-27 | Nobuyasu Doi | 電気メッキ法 |
US5433797A (en) * | 1992-11-30 | 1995-07-18 | Queen's University | Nanocrystalline metals |
JP2000160389A (ja) * | 1998-12-01 | 2000-06-13 | Fujitsu Ltd | メッキ方法及び磁気ヘッドの製造方法 |
US6793794B2 (en) * | 2000-05-05 | 2004-09-21 | Ebara Corporation | Substrate plating apparatus and method |
JP2002004094A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-01-09 | Osaka Prefecture | ニッケル・タングステン合金電極及びその製造方法 |
US6344123B1 (en) * | 2000-09-27 | 2002-02-05 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for electroplating alloy films |
US6482298B1 (en) * | 2000-09-27 | 2002-11-19 | International Business Machines Corporation | Apparatus for electroplating alloy films |
US6776891B2 (en) | 2001-05-18 | 2004-08-17 | Headway Technologies, Inc. | Method of manufacturing an ultra high saturation moment soft magnetic thin film |
KR100877923B1 (ko) * | 2001-06-07 | 2009-01-12 | 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈, 엘.엘.씨 | 전해 구리 도금법 |
ITMI20011374A1 (it) * | 2001-06-29 | 2002-12-29 | De Nora Elettrodi Spa | Cella di elettrolisi per il ripristino della concentrazione di ioni metallici in processi di elettrodeposizione |
DE10209423A1 (de) * | 2002-03-05 | 2003-09-18 | Schwerionenforsch Gmbh | Beschichtung aus einer Gettermetall-Legierung sowie Anordnung und Verfahren zur Herstellung derselben |
US6805786B2 (en) | 2002-09-24 | 2004-10-19 | Northrop Grumman Corporation | Precious alloyed metal solder plating process |
RU2231578C1 (ru) * | 2002-11-12 | 2004-06-27 | Курская государственная сельскохозяйственная академия им. проф. И.И. Иванова | Способ электролитического осаждения сплава железо-ванадий |
US7442286B2 (en) * | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
JP4195934B2 (ja) | 2004-03-01 | 2008-12-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | イオン性液体を用いたグリコール酸およびそのエステルの製造方法 |
JP2006146087A (ja) | 2004-11-24 | 2006-06-08 | Fujitsu Hitachi Plasma Display Ltd | 表示パネルを備えた表示装置における電磁波遮蔽方法および表示装置 |
DE502005007138D1 (de) | 2005-04-26 | 2009-06-04 | Atotech Deutschland Gmbh | Alkalisches Galvanikbad mit einer Filtrationsmembran |
-
2007
- 2007-10-05 IT IT000704A patent/ITTO20070704A1/it unknown
-
2008
- 2008-10-03 EP EP08835403A patent/EP2212451A2/en not_active Withdrawn
- 2008-10-03 CA CA2701685A patent/CA2701685A1/en not_active Abandoned
- 2008-10-03 MX MX2010003358A patent/MX2010003358A/es unknown
- 2008-10-03 AU AU2008306569A patent/AU2008306569B2/en not_active Ceased
- 2008-10-03 CN CN200880119190.1A patent/CN101889107B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-10-03 WO PCT/IB2008/002612 patent/WO2009044266A2/en active Application Filing
- 2008-10-03 KR KR1020107010020A patent/KR20100089069A/ko not_active Application Discontinuation
- 2008-10-03 JP JP2010527563A patent/JP5487108B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-10-03 RU RU2010117196/02A patent/RU2473718C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2008-10-03 US US12/680,790 patent/US8668817B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-03-21 IL IL204627A patent/IL204627A/en not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-11-08 US US14/075,454 patent/US20140061035A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2008306569B2 (en) | 2013-06-13 |
JP5487108B2 (ja) | 2014-05-07 |
KR20100089069A (ko) | 2010-08-11 |
US8668817B2 (en) | 2014-03-11 |
CA2701685A1 (en) | 2009-04-09 |
EP2212451A2 (en) | 2010-08-04 |
US20100221571A1 (en) | 2010-09-02 |
CN101889107B (zh) | 2015-09-23 |
CN101889107A (zh) | 2010-11-17 |
IL204627A (en) | 2014-05-28 |
RU2473718C2 (ru) | 2013-01-27 |
AU2008306569A2 (en) | 2010-06-10 |
WO2009044266A3 (en) | 2010-01-21 |
MX2010003358A (es) | 2010-06-23 |
US20140061035A1 (en) | 2014-03-06 |
AU2008306569A1 (en) | 2009-04-09 |
WO2009044266A2 (en) | 2009-04-09 |
ITTO20070704A1 (it) | 2009-04-06 |
JP2010540780A (ja) | 2010-12-24 |
IL204627A0 (en) | 2010-11-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhang et al. | Lithiophilic sites in doped graphene guide uniform lithium nucleation for dendrite‐free lithium metal anodes | |
Sun et al. | Studies of the reduction mechanism of selenium dioxide and its impact on the microstructure of manganese electrodeposit | |
Yu et al. | Electrochemical migration of Sn-Pb and lead free solder alloys under distilled water | |
Mabille et al. | Mechanism of dissolution of a Cu–13Sn alloy in low aggressive conditions | |
Vimalanandan et al. | Zn Mg and Zn Mg Al alloys for improved corrosion protection of steel: Some new aspects | |
RU2010117196A (ru) | Система и способ нанесения покрытий из металлических сплавов посредством применения гальванической технологии | |
Mendizabal et al. | TaNX coatings deposited by HPPMS on SS316L bipolar plates for polymer electrolyte membrane fuel cells: Correlation between corrosion current, contact resistance and barrier oxide film formation | |
JP6733844B1 (ja) | 被覆金属材の耐食性試験方法及び耐食性試験装置 | |
MX2013007133A (es) | Proceso para evaluar resistencia a la corrosion de revestimiento. | |
WO2010036758A3 (en) | Alloy coating apparatus and metalliding method | |
Bellemare et al. | Subtleties behind hydrogen embrittlement of cadmium-plated 4340 steel revealed by thermal desorption spectroscopy and sustained-load tests | |
Venkatakrishna et al. | Electrolytic preparation of cyclic multilayer Zn–Ni alloy coating using switching cathode current densities | |
JP2015537123A (ja) | 物体の電解コーティングのためのデバイス及び方法 | |
US3232853A (en) | Corrosion resistant chromide coating | |
RU2006126703A (ru) | Усовершенствованное гальванопокрытие металлической полосы | |
CN104099658A (zh) | 一种用于酸性锌镍合金电镀的辅助阳极 | |
Song | “Electroless” E-coating: an innovative surface treatment for magnesium alloys | |
Yolshina et al. | A lead–film electrode on an aluminium substrate to serve as a lead–acid battery plate | |
ATE509146T1 (de) | Verfahren zur elektrochemischen abtragung von refraktärmetallen oder -legierungen und verwendung einer lösung zur durchführung dieses verfahrens | |
CN204174298U (zh) | 一种用于酸性锌镍合金电镀的辅助阳极 | |
Coleman et al. | The effects of multiple electroplated zinc layers on the inhibition of hydrogen permeation through an iron membrane | |
Willert et al. | Electrodeposition of Lithium in Polystyrene Sphere Opal Structures on Copper from an Ionic Liquid | |
Kajanek et al. | EFFECT OF APPLIED CURRENT DENSITY OF PLASMA ELECTROLYTIC OXIDATION PROCESS ON CORROSION RESISTANCE OF AZ31 MAGNESIUM ALLOY. | |
Ma et al. | Corrosion behavior of detonation gun sprayed Al coating on sintered NFeB | |
JP3290507B2 (ja) | 塗膜付き金属板の塗膜重量測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20151004 |