RU2009136636A - Прибор для ренгеновского анализа - Google Patents

Прибор для ренгеновского анализа Download PDF

Info

Publication number
RU2009136636A
RU2009136636A RU2009136636/28A RU2009136636A RU2009136636A RU 2009136636 A RU2009136636 A RU 2009136636A RU 2009136636/28 A RU2009136636/28 A RU 2009136636/28A RU 2009136636 A RU2009136636 A RU 2009136636A RU 2009136636 A RU2009136636 A RU 2009136636A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
xrd
ray
tube
sample holder
source
Prior art date
Application number
RU2009136636/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2450261C2 (ru
Inventor
Рависехар ЙЕЛЛЕПЕДДИ (CH)
Рависехар ЙЕЛЛЕПЕДДИ
Пьер-Ив НЕГРО (CH)
Пьер-Ив НЕГРО
Мишель БОНЗОН (CH)
Мишель БОНЗОН
Original Assignee
Термо Фишер Сайентифик Инк. (Us)
Термо Фишер Сайентифик Инк.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Термо Фишер Сайентифик Инк. (Us), Термо Фишер Сайентифик Инк. filed Critical Термо Фишер Сайентифик Инк. (Us)
Publication of RU2009136636A publication Critical patent/RU2009136636A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2450261C2 publication Critical patent/RU2450261C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
    • G01N23/2076—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions for spectrometry, i.e. using an analysing crystal, e.g. for measuring X-ray fluorescence spectrum of a sample with wavelength-dispersion, i.e. WDXFS
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/2206—Combination of two or more measurements, at least one measurement being that of secondary emission, e.g. combination of secondary electron [SE] measurement and back-scattered electron [BSE] measurement
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076—X-ray fluorescence

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

1. Устройство для выполнения как рентгеновского дифракционного анализа (XRD), так и рентгеновского флюоресцентного анализа (XRF) кристаллического образца, содержащее откачиваемую камеру; ! держатель образца, расположенный в откачиваемой камере, для установки кристаллического образца так, чтобы его можно было анализировать; ! рентгеновский источник флюоресценции, установленный в откачиваемой камере, для облучения кристаллического образца рентгеновским излучением; ! установку регистрации XRF для регистрации вторичного рентгеновского излучения, испущенного с поверхности кристаллического образца в результате облучения рентгеновским излучением от указанного рентгеновского источника флюоресценции; ! отличающееся тем, что содержит: ! рентгеновский источник дифракции, также установленный в откачиваемой камере, но отделенный от рентгеновского источника флюоресценции, для облучения кристаллического образца рентгеновским излучением; ! установку регистрации XRD для регистрации рентгеновского излучения характеристической длиной волны, которая была дифрагирована кристаллическим образцом; и ! подвижный опорный узел XRD, содержащий первую часть, выполненную с возможностью установки источника XRD, для перемещения источника XRD относительно держателя образца, и вторую часть, выполненную с возможностью установки регистрации XRD для перемещения установки регистрации XRD относительно держателя образца. ! 2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что первая часть подвижного опорного узла выполнена с возможностью установки трубки XRD для вращательного перемещения через множество угловых положений относительно держателя обр�

Claims (13)

1. Устройство для выполнения как рентгеновского дифракционного анализа (XRD), так и рентгеновского флюоресцентного анализа (XRF) кристаллического образца, содержащее откачиваемую камеру;
держатель образца, расположенный в откачиваемой камере, для установки кристаллического образца так, чтобы его можно было анализировать;
рентгеновский источник флюоресценции, установленный в откачиваемой камере, для облучения кристаллического образца рентгеновским излучением;
установку регистрации XRF для регистрации вторичного рентгеновского излучения, испущенного с поверхности кристаллического образца в результате облучения рентгеновским излучением от указанного рентгеновского источника флюоресценции;
отличающееся тем, что содержит:
рентгеновский источник дифракции, также установленный в откачиваемой камере, но отделенный от рентгеновского источника флюоресценции, для облучения кристаллического образца рентгеновским излучением;
установку регистрации XRD для регистрации рентгеновского излучения характеристической длиной волны, которая была дифрагирована кристаллическим образцом; и
подвижный опорный узел XRD, содержащий первую часть, выполненную с возможностью установки источника XRD, для перемещения источника XRD относительно держателя образца, и вторую часть, выполненную с возможностью установки регистрации XRD для перемещения установки регистрации XRD относительно держателя образца.
2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что первая часть подвижного опорного узла выполнена с возможностью установки трубки XRD для вращательного перемещения через множество угловых положений относительно держателя образца, и что вторая часть подвижного опорного узла выполнена с возможностью установки детектора XRD для вращательного перемещения через множество угловых положений относительно держателя образца.
3. Устройство по п.2, отличающееся тем, что подвижный опорный узел содержит гониометр, причем первая часть подвижного опорного узла включает в себя первое плечо гониометра, а вторая часть подвижного опорного узла включает в себя второе плечо гониометра.
4. Устройство по п.3, дополнительно содержащее средство приведения в действия гониометра для приведения в действие каждого из первого плеча и второго плеча гониометра с тем, чтобы управлять угловым перемещением соответственно трубки XRD и установки регистрации XRD вокруг держателя образца между первым и вторым конечными положениями.
5. Устройство по п.4, отличающееся тем, что держатель образца образует горизонтальную плоскость внутри откачиваемой камеры, что первое и второе конечные положения установки регистрации XRD стягивают углы относительно этой горизонтальной плоскости, соответственно равные приблизительно 3° и 40°, и что первое и второе конечные положения трубки XRD стягивают углы относительно этой горизонтальной плоскости, равные приблизительно 3° и 40°.
6. Устройство по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что трубка XRF установлена в фиксированном положении относительно держателя образца и вакуумной камеры.
7. Устройство по п.6, отличающееся тем, что трубка XRF имеет продольную ось, которая пересекает держатель образца.
8. Устройство по п.1, отличающееся тем, что держатель образца выполнен с возможностью вращения вокруг оси.
9. Устройство по п.1, отличающееся тем, что установка регистрации XRF установлена на подвижном опорном узле XRF.
10. Устройство по п.1, отличающееся тем, что трубка XRD полностью помещена внутрь вакуумной камеры.
11. Устройство по п.10, дополнительно содержащее канал охлаждения, идущий снаружи вакуумной камеры к трубке XRD для подачи к ней охлаждения, и соединение с источником питания, также идущее снаружи вакуумной камеры к трубке XRD для подачи к ней питания.
12. Устройство по п.11, отличающееся тем, что и охлаждающий канал, и соединение с источником питания является гибким по меньше мере в своей части для сохранения подачи питания и охлаждения к трубке XRD во время ее перемещения относительно вакуумной камеры в процессе использования.
13. Устройство по п.1, отличающееся тем, что трубка XRD выполнена с возможностью создавать монохроматический рентгеновский пучок, а трубка XRF выполнена с возможностью создавать полихроматический рентгеновский пучок.
RU2009136636/28A 2007-03-06 2008-02-28 Прибор для рентгеновского анализа RU2450261C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0704322.7A GB2447252B (en) 2007-03-06 2007-03-06 X-ray analysis instrument
GB0704322.7 2007-03-06

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009136636A true RU2009136636A (ru) 2011-04-20
RU2450261C2 RU2450261C2 (ru) 2012-05-10

Family

ID=37966025

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009136636/28A RU2450261C2 (ru) 2007-03-06 2008-02-28 Прибор для рентгеновского анализа

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7983386B2 (ru)
EP (1) EP2126553B1 (ru)
JP (1) JP5301470B2 (ru)
CN (1) CN101669024B (ru)
GB (1) GB2447252B (ru)
RU (1) RU2450261C2 (ru)
WO (1) WO2008107108A1 (ru)
ZA (1) ZA200905811B (ru)

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101776620B (zh) * 2009-05-11 2014-06-25 中国建材检验认证集团股份有限公司 波长色散x荧光光谱仪的弯面晶体分光装置及其工作方法
US7978820B2 (en) 2009-10-22 2011-07-12 Panalytical B.V. X-ray diffraction and fluorescence
GB2476255B (en) 2009-12-17 2012-03-07 Thermo Fisher Scient Ecublens Sarl Method and apparatus for performing x-ray analysis of a sample
JP4914514B2 (ja) * 2010-07-02 2012-04-11 株式会社リガク 蛍光ｘ線分析装置および方法
CN101936929B (zh) * 2010-07-27 2012-05-23 中国石化集团华北石油局 X射线荧光元素分析装置及其录井仪
WO2012050620A1 (en) * 2010-10-14 2012-04-19 Caldera Pharmaceuticals, Inc. Method for analysis using x-ray flourescence
JP5838109B2 (ja) * 2011-05-13 2015-12-24 株式会社リガク 複合ｘ線分析装置
US9952165B2 (en) * 2012-04-19 2018-04-24 University Of Leicester Methods and apparatus for X-ray diffraction
WO2016193968A1 (en) * 2015-06-01 2016-12-08 Xwinsys Ltd. Metrology inspection apparatus
US10175184B2 (en) 2015-06-22 2019-01-08 Moxtek, Inc. XRF analyzer for light element detection
CN107437487A (zh) * 2016-05-25 2017-12-05 宝山钢铁股份有限公司 一种用于扫描电镜样品台升降防撞装置
WO2018086853A1 (en) * 2016-11-09 2018-05-17 Imec Vzw Apparatus for combined stem and eds tomography
CN106646585B (zh) * 2017-01-24 2023-12-22 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 准单能x射线标定平台
CN108572185A (zh) * 2017-03-13 2018-09-25 中国科学院兰州化学物理研究所 X-射线单晶衍射仪易风化晶体低温显微上样系统
US11435300B2 (en) 2017-05-16 2022-09-06 Fct Actech Pty Ltd. Method and apparatus for analysing particulate material
CN107228871B (zh) * 2017-07-21 2023-07-04 中国地质大学（武汉） 一种便携式x射线分析装置
CN108267467A (zh) * 2018-03-26 2018-07-10 中国地质大学（武汉） 一种便携式多用途x射线分析仪
WO2019202197A1 (en) * 2018-04-20 2019-10-24 Outotec (Finland) Oy X-ray fluorescence analyser, and a method for performing x-ray fluorescence analysis
US11592407B2 (en) * 2018-05-18 2023-02-28 Enersoft Inc. Systems, devices, and methods for x-ray fluorescence analysis of geological samples
JP7394464B2 (ja) * 2018-07-04 2023-12-08 株式会社リガク 蛍光ｘ線分析装置
FI20215587A1 (en) * 2018-10-19 2021-05-18 Commw Scient Ind Res Org Energy dispersive X-ray diffraction analyzer with improved reflection geometry
WO2020105722A1 (ja) * 2018-11-22 2020-05-28 株式会社リガク 単結晶ｘ線構造解析装置とそのための方法
JP7217943B2 (ja) * 2019-04-11 2023-02-06 株式会社リガク 投影像の撮影方法、制御装置、制御プログラム、処理装置および処理プログラム
EP4165379A1 (en) * 2020-07-29 2023-04-19 Gemological Institute of America, Inc. (GIA) Ultraviolet-visible absorption spectroscopy for gemstone identification
EP4019951A1 (en) * 2020-12-24 2022-06-29 Inel S.A.S Apparatuses and methods for combined simultaneous analyses of materials
CN113125471B (zh) * 2021-03-31 2023-06-27 武汉联影生命科学仪器有限公司 扫描系统和扫描控制方法
CN114062406B (zh) * 2022-01-04 2022-03-22 中国工程物理研究院流体物理研究所 时间分辨多晶x射线衍射靶装置
CN114486971A (zh) * 2022-01-25 2022-05-13 深圳市埃芯半导体科技有限公司 多源设计的x射线分析系统和方法
US11885755B2 (en) * 2022-05-02 2024-01-30 Sigray, Inc. X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer
CN116879335B (zh) * 2023-09-08 2023-11-17 四川大学 一种组合扫描式xrd/xrf综合成像方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3344274A (en) * 1967-09-26 Ray analysis apparatus having both diffraction amd spectrometer tubes mounted on a common housing
NL30954C (ru) * 1927-03-28
US2462374A (en) * 1944-10-04 1949-02-22 Philips Lab Inc Stress analysis by x-ray diffraction
US4263510A (en) * 1979-07-30 1981-04-21 General Electric Company Combined x-ray diffraction and fluorescence spectroscopy apparatus with environmentally controllable chamber
SU1257482A1 (ru) * 1984-07-03 1986-09-15 Ордена Трудового Красного Знамени Институт Кристаллографии Им.А.В.Шубникова Рентгенодифракционный способ исследовани структурных нарушений в тонких приповерхностных сло х кристаллов
SU1317342A2 (ru) * 1985-05-20 1987-06-15 Ленинградское научно-производственное объединение "Буревестник" Способ получени рентгеновских дифракционных топограмм
JPS63167251A (ja) * 1986-12-27 1988-07-11 Shimadzu Corp Ｘ線分析装置
JP2742415B2 (ja) * 1987-11-27 1998-04-22 株式会社日立製作所 Ｘ線分析装置
JPH0739987B2 (ja) * 1988-06-28 1995-05-01 川崎製鉄株式会社 皮膜の厚みと組成の同時測定方法
US5369275A (en) * 1991-07-11 1994-11-29 International Superconductivity Technology Center Apparatus for solid surface analysis using X-ray spectroscopy
GB9223592D0 (en) * 1992-11-11 1992-12-23 Fisons Plc X-ray analysis apparatus
EP0800647A1 (en) * 1995-10-03 1997-10-15 Koninklijke Philips Electronics N.V. Apparatus for simultaneous x-ray diffraction and x-ray fluorescence measurements
JP2002131251A (ja) * 2000-10-20 2002-05-09 Seiko Instruments Inc Ｘ線分析装置
JP2003098126A (ja) * 2001-09-26 2003-04-03 Rigaku Industrial Co 蛍光・回折共用ｘ線分析装置
CN1270176C (zh) * 2002-12-02 2006-08-16 中国科学技术大学 对组合样品的结构和成分进行测量分析的方法及装置
US7092843B2 (en) * 2003-10-21 2006-08-15 X-Ray Optical Systems, Inc. Apparatus and method for suppressing insignificant variations in measured sample composition data, including data measured from dynamically changing samples using x-ray analysis techniques
JP3912606B2 (ja) * 2004-10-26 2007-05-09 株式会社リガク Ｘ線薄膜検査装置と、プロダクトウエーハの薄膜検査装置およびその方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5301470B2 (ja) 2013-09-25
RU2450261C2 (ru) 2012-05-10
EP2126553B1 (en) 2016-04-13
GB0704322D0 (en) 2007-04-11
CN101669024B (zh) 2012-10-31
US7983386B2 (en) 2011-07-19
WO2008107108A8 (en) 2009-09-11
US20100111251A1 (en) 2010-05-06
EP2126553A1 (en) 2009-12-02
JP2010520467A (ja) 2010-06-10
WO2008107108A1 (en) 2008-09-12
GB2447252B (en) 2012-03-14
CN101669024A (zh) 2010-03-10
GB2447252A (en) 2008-09-10
ZA200905811B (en) 2010-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009136636A (ru) Прибор для ренгеновского анализа
US7848489B1 (en) X-ray diffractometer having co-exiting stages optimized for single crystal and bulk diffraction
JP5838109B2 (ja) 複合ｘ線分析装置
US7123686B2 (en) Apparatus and method for X-ray analysis
RU2012156197A (ru) Способ неразрушающего контроля и устройство для осуществления способа
RU2011123731A (ru) Устройство получения рентгеновских изображений
WO2009112986A3 (en) Circular tomosynthesis x-ray tube
RU2677486C1 (ru) Универсальный автоматизированный рентгенофлуоресцентный анализатор
KR100532850B1 (ko) 엑스선 검사를 위한 엑스선 투시장치
WO2020044399A1 (ja) Ｘ線分析装置
US5181233A (en) Specimen holder
JP6376698B2 (ja) Ｘ線検査装置およびｘ線検査装置の調整方法
JP4514781B2 (ja) 全反射蛍光ｘ線分析装置およびその装置に用いるプログラム
JP6078249B2 (ja) Ｘ線回折装置
US20230273134A1 (en) Transmission x-ray diffraction apparatus and related method
EP3346484B1 (en) X-ray generation device and method, and sample measurement system
JP2007163262A (ja) エックス線分析装置
JP2508884Y2 (ja) Ｘ線回折装置の試料台
CN116754593A (zh) 一种x射线与电子束联用测试设备
JPH07218455A (ja) Ｘ線回折装置の試料保持装置
JP2008039559A (ja) エックス線分析装置
JP6131623B2 (ja) 放射線発生装置
CN111508633A (zh) 单能x射线辐射装置
JP2001050914A (ja) Ｘ線回折装置における試料台交換装置
JP2005216578A (ja) Ｘ線発生装置及びその調整方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20200229