CN116754593A - 一种x射线与电子束联用测试设备 - Google Patents
一种x射线与电子束联用测试设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116754593A CN116754593A CN202310747877.6A CN202310747877A CN116754593A CN 116754593 A CN116754593 A CN 116754593A CN 202310747877 A CN202310747877 A CN 202310747877A CN 116754593 A CN116754593 A CN 116754593A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- sample
- ray
- hole
- electron beam
- inner cavity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title claims abstract description 72
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 claims abstract description 39
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 31
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 194
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 20
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 abstract description 14
- 238000000833 X-ray absorption fine structure spectroscopy Methods 0.000 description 10
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000001069 Raman spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 3
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 238000012613 in situ experiment Methods 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 2
- 208000033962 Fontaine progeroid syndrome Diseases 0.000 description 1
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
- G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
本申请公开了一种X射线与电子束联用测试设备,属于测试设备领域。X射线与电子束联用测试设备包括透射电镜装置、X射线强度探测装置、X射线发射装置和X射线荧光接收装置。透射电镜装置包括装置主体和样品支撑组件,样品支撑组件的一部分穿设于第一通孔设置在内腔内;X射线强度探测装置设置于装置主体外,且朝向第二通孔设置;X射线发射装置发射的X射线依次穿过气体电离室和第二通孔射向样品;X射线荧光接收装置的一部分穿设于第三通孔设置在内腔内,且朝向样品的方向设置。本申请提供的X射线与电子束联用测试设备,能够同时对样品进行X射线吸收精细结构谱测试和透射电子成像测试,以获得样品真实可对应的二维形貌像和局域配位结构信息。
Description
技术领域
本申请涉及测试设备技术领域,尤其涉及一种X射线与电子束联用测试设备。
背景技术
同步辐射X射线吸收精细结构谱(XAFS,X-ray Absorption Fine Structure)是研究材料局域原子配位结构和元素化学价态的一种重要方法。利用同步辐射高亮度、能量连续可调的光源优势,可在秒级完成实验室X射线吸收谱仪几个小时才能完成的测试。同时相比于X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS),XAFS有着无法代替的优势。透射电子显微镜(TEM,Transmission Electron Microscopy)则是研究材料二维局域形貌的一种重要方法。利用波长小于可见光和紫外线的电子束,提高显微镜的分辨率,可获得分辨率为0.2nm的视场成像,可对样品的元素分布进行分析。可用于病毒学、材料科学、以及纳米技术、半导体研究等研究领域。
若将XAFS技术与TEM实现联用,可同时获得样品的微观二维形貌像与局域原子配位结构、样品元素分布与元素价态。但是至今仍未有科学家,将XAFS与TEM技术实现真正意义上的联用。为了满足材料、环境、能源、生物医学等领域的样品同时获得二维形貌像、局域原子配位结构的分析测试需要,亟需一种X射线吸收谱与透射电子显微成像联用测试装置,以实现对样品进行XAFS与TEM的同时测试,以获取形貌像、元素配位情况等信息。
发明内容
有鉴于此,本申请的目的是为了克服现有技术中的不足,提供一种X射线与电子束联用测试设备。
为解决上述技术问题,本申请提供了:
一种X射线与电子束联用测试设备,包括:
透射电镜装置,所述透射电镜装置包括装置主体和样品支撑组件,所述装置主体具有内腔,沿所述装置主体的周向间隔开设有第一通孔、第二通孔和第三通孔,所述样品支撑组件的一部分穿设于所述第一通孔设置在所述内腔内,用于安装样品;
X射线强度探测装置,具有气体电离室,所述X射线强度探测装置设置于所述装置主体外,且朝向所述第二通孔设置;
X射线发射装置,所述X射线发射装置发射的X射线依次穿过所述气体电离室和所述第二通孔射向所述样品;
X射线荧光接收装置,所述X射线荧光接收装置的一部分穿设于所述第三通孔设置在所述内腔内,且朝向所述样品的方向设置,用于接收所述样品激发的特征X射线。
另外,根据本申请的X射线与电子束联用测试设备,还可具有如下附加的技术特征:
在本申请的一些实施例中,所述X射线与电子束联用测试设备还包括透光件,所述透光件设置于所述第二通孔内,且所述透光件的周向壁与所述第二通孔的孔壁相抵接。
在本申请的一些实施例中,所述X射线与电子束联用测试设备还包括驱动件,所述样品支撑组件包括样品杆和样品支架,所述样品支架设置于所述内腔内,用于安装所述样品,所述样品杆的一端与所述驱动件的输出端连接,另一端穿设于所述第一通孔与所述样品支架连接。
在本申请的一些实施例中,所述样品支架包括支架主体、连接组件和样品台,所述支架主体开设有与所述连接组件和所述样品台相适配的第一安装槽,且开设有与所述样品杆相适配的第二安装槽,所述样品台通过所述连接组件与所述支架主体连接。
在本申请的一些实施例中,所述连接组件包括连接轴、弹性件和配合件,所述第一安装槽的槽壁开设有与所述连接轴相适配的安装孔,所述弹性件和所述配合件均套设于所述连接轴上,所述配合件的一端具有第一抵接部,所述样品台具有与所述第一抵接部相适配的第二抵接部,所述弹性件的一端与所述支架主体抵接,另一端与所述第二抵接部远离所述第一抵接部的一侧抵接。
在本申请的一些实施例中,所述弹性件包括弹簧主体、位于所述弹簧主体一端的第一扭臂和位于所述弹簧主体另一端的第二扭臂,所述弹簧主体与所述第一扭臂和所述第二扭臂一体成型,所述弹簧主体套设于所述连接轴上,所述第一扭臂与所述支架主体支撑抵接,所述第二扭臂与所述第二抵接部远离所述第一抵接部的一侧支撑抵接。
在本申请的一些实施例中,所述样品支架还包括样品安装件,所述样品台开设有与所述样品安装件相适配的第三安装槽,所述样品安装件开设有呈阵列排布的多个通孔。
在本申请的一些实施例中,所述X射线荧光接收装置包括X射线荧光探测器和信息采集分析模块,所述X射线荧光探测器的探头穿设于所述第三通孔设置在所述内腔内,且朝向所述样品的方向设置,所述信息采集分析模块与所述X射线荧光探测器电连接。
在本申请的一些实施例中,所述X射线荧光探测器设置有两个,两个所述X射线荧光探测器沿所述装置主体的周向相间隔设置。
在本申请的一些实施例中,所述透射电镜装置还包括电子发生器和成像探测器,所述电子发生器和所述成像探测器均设置于所述内腔内,且所述电子发生器和所述成像探测器分别位于所述样品支撑组件的两相对侧,所述电子发生器发射的电子束射向所述样品,所述成像探测器用于接收透过所述样品的电子束。
相对于现有技术,本申请的有益效果是:
本申请提出一种X射线与电子束联用测试设备,X射线与电子束联用测试设备包括透射电镜装置、X射线强度探测装置、X射线发射装置和X射线荧光接收装置,透射电镜装置包括装置主体和样品支撑组件,装置主体具有内腔,X射线强度探测装置具有气体电离室。通过沿装置主体的周向间隔开设第一通孔、第二通孔和第三通孔,并将样品支撑组件的一部分穿设于第一通孔设置在内腔内,且将样品安装在样品支撑组件上,以实现将样品稳定安装在内腔内的功能。通过设置X射线发射装置并在装置主体外设置朝向第二通孔设置的X射线强度探测装置,这样使得X射线发射装置发射的X射线能够依次穿过气体电离室和第二通孔射向样品,通过将X射线荧光接收装置的一部分穿设于第三通孔设置在内腔内,且朝向样品的方向设置,以实现接收样品激发的特征X射线的功能,从而实现对样品进行X射线吸收精细结构谱测试的功能。同时,透射电镜装置能够对样品进行透射电子成像测试,实现对样品进行透射电子成像测试的功能。本申请提供的X射线与电子束联用测试设备,能够在同一时间、同一空间对样品进行X射线吸收精细结构谱测试和透射电子成像测试,从而获得样品真实可对应的二维形貌像和原子局域配位结构信息。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1示出了本申请一些实施例中X射线与电子束联用测试设备的立体示意图;
图2示出了图1中A部结构的放大示意图;
图3示出了本申请一些实施例中样品支架的一视角立体示意图;
图4示出了本申请一些实施例中样品支架的另一视角立体示意图。
主要元件符号说明:
100-X射线与电子束联用测试设备;110-透射电镜装置;111-装置主体;1111-内腔;1112-第一通孔;1113-第二通孔;1114-第三通孔;112-样品支撑组件;1121-样品杆;1122-样品支架;11221-支架主体;112211-第一安装槽;1122111-安装孔;112212-第二安装槽;11222-连接组件;112221-连接轴;112222-弹性件;1122221-弹簧主体;1122222-第一扭臂;1122223-第二扭臂;112223-配合件;1122231-第一抵接部;11223-样品台;112231-第二抵接部;112232-第三安装槽;11224-样品安装件;112241-通孔;113-电子发生器;114-成像探测器;120-X射线强度探测装置;121-气体电离室;130-X射线荧光接收装置;131-X射线荧光探测器;140-透光件;150-驱动件。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
需要说明的是,相关技术中公开了一种XAFS、TEM、Raman、IR、GC-MS联用的实验方法,将一种电镜原位样品池先后进行原位电镜测试、原位同步辐射XAFS测试、原位IR测试、原位拉曼测试,获得同一样品的TEM、XAFS、Raman、IR数据,同时利用GCMS获得原位实验的气体组分变化情况,得到原位条件下的样品粒径尺寸、局域配位结构、样品晶体结构、样品分子吸附特性等信息。虽然可以获得同一个样品的原位结构信息,但是这些信息并不是同一时间同一地点获得。在采集不同信息时,需要将样品反复的进行不同条件的原位实验,这可能导致样品结构发生变化,结构信息出现失真。这便迫切的需要在同一时间,同一空间对同一个样品进行XAFS与TEM的测试,获得真实可对应的二维形貌像和局域配位结构信息。
如图1所示,本申请的实施例提供了一种X射线与电子束联用测试设备100,X射线与电子束联用测试设备100包括透射电镜装置110、X射线强度探测装置120、X射线发射装置和X射线荧光接收装置130。
其中,所述透射电镜装置110包括装置主体111和样品支撑组件112,所述装置主体111具有内腔1111,沿所述装置主体111的周向间隔开设有第一通孔1112、第二通孔1113和第三通孔1114,所述样品支撑组件112的一部分穿设于所述第一通孔1112设置在所述内腔1111内,用于安装样品。
所述X射线强度探测装置120具有气体电离室121,所述X射线强度探测装置120设置于所述装置主体111外,且朝向所述第二通孔1113设置。所述X射线发射装置发射的X射线依次穿过所述气体电离室121和所述第二通孔1113射向所述样品。所述X射线荧光接收装置130的一部分穿设于所述第三通孔1114设置在所述内腔1111内,且朝向所述样品的方向设置,用于接收所述样品激发的特征X射线。
本申请提供的X射线与电子束联用测试设备100,通过沿装置主体111的周向间隔开设第一通孔1112、第二通孔1113和第三通孔1114,并将样品支撑组件112的一部分穿设于第一通孔1112设置在内腔1111内,且将样品安装在样品支撑组件112上,以实现将样品稳定安装在内腔1111内的功能。
通过设置X射线发射装置并在装置主体111外设置朝向第二通孔1113设置的X射线强度探测装置120,这样使得X射线发射装置发射的X射线能够依次穿过气体电离室121和第二通孔1113射向样品,通过将X射线荧光接收装置130的一部分穿设于第三通孔1114设置在内腔1111内,且朝向样品的方向设置,以实现接收样品激发的特征X射线的功能,从而实现对样品进行X射线吸收精细结构谱测试的功能。
同时,透射电镜装置110能够对样品进行透射电子成像测试,实现对样品进行透射电子成像测试的功能。本申请提供的X射线与电子束联用测试设备100,能够在同一时间、同一空间对样品进行X射线吸收精细结构谱测试和透射电子成像测试,从而获得样品真实可对应的二维形貌像和原子局域配位结构信息。
如图1和图2所示,在本申请的一个实施方式中,可选地,所述X射线与电子束联用测试设备100还包括透光件140,所述透光件140设置于所述第二通孔1113内,且所述透光件140的周向壁与所述第二通孔1113的孔壁相抵接。
在本实施方式中,通过在第二通孔1113内设置透光件140,这样使得X射线发射装置发射的X射线能够依次穿过气体电离室121、透光件140和第二通孔1113射向样品。通过设置透光件140的周向壁与第二通孔1113的孔壁相抵接,以实现密封连接,从而利于保持内腔1111内的高真空环境。
示例性的,透光件140采用的材质可以为铍,以减少透光件140对X射线的吸收,增加入射光通量,从而提高信噪比。
如图1和图2所示,在本申请的一个实施方式中,可选地,所述X射线与电子束联用测试设备100还包括驱动件150,所述样品支撑组件112包括样品杆1121和样品支架1122,所述样品支架1122设置于所述内腔1111内,用于安装所述样品,所述样品杆1121的一端与所述驱动件150的输出端连接,另一端穿设于所述第一通孔1112与所述样品支架1122连接。
在本实施方式中,通过将样品杆1121的一端与驱动件150的输出端连接,另一端穿设于第一通孔1112与样品支架1122连接,通过驱动件150驱动样品杆1121转动,使样品支架1122跟随样品杆1121同步转动,从而自动调节样品支架1122的角度,进而实现自动调节样品的角度的功能,以便对样品进行X射线吸收精细结构谱测试和透射电子成像测试。
示例性的,驱动件150可以为旋转电机。
如图2、图3和图4所示,在本申请的上述实施方式中,可选地,所述样品支架1122包括支架主体11221、连接组件11222和样品台11223,所述支架主体11221开设有与所述连接组件11222和所述样品台11223相适配的第一安装槽112211,且开设有与所述样品杆1121相适配的第二安装槽112212,所述样品台11223通过所述连接组件11222与所述支架主体11221连接。
在本实施方式中,通过在样品支架1122上开设与样品杆1121相适配的第二安装槽112212,以实现样品杆1121与样品支架1122连接的功能,使得样品支架1122能够跟随样品杆1121同步转动。通过在支架主体11221上开设与连接组件11222和样品台11223相适配的第一安装槽112211,且样品台11223通过连接组件11222与支架主体11221连接,以实现样品台11223与支架主体11221连接的功能。
如图3和图4所示,在本申请的上述实施方式中,可选地,所述连接组件11222包括连接轴112221、弹性件112222和配合件112223,所述第一安装槽112211的槽壁开设有与所述连接轴112221相适配的安装孔1122111,所述弹性件112222和所述配合件112223均套设于所述连接轴112221上,所述配合件112223的一端具有第一抵接部1122231,所述样品台11223具有与所述第一抵接部1122231相适配的第二抵接部112231,所述弹性件112222的一端与所述支架主体11221抵接,另一端与所述第二抵接部112231远离所述第一抵接部1122231的一侧抵接。
在本实施方式中,通过在第一安装槽112211的槽壁上开设与连接轴112221相适配的安装孔1122111,以实现连接轴112221与支架主体11221连接的功能。通过将弹性件112222和配合件112223均套设在连接轴112221上,并将弹性件112222的一端与支架主体11221抵接,另一端与第二抵接部112231远离第一抵接部1122231的一侧抵接,以在弹性件112222的作用下将第二抵接部112231夹紧抵接在第一抵接部1122231上,从而使得样品台11223稳定且可拆卸地安装在支架主体11221上。
如图3和图4所示,在本申请的上述实施方式中,可选地,所述弹性件112222包括弹簧主体1122221、位于所述弹簧主体1122221一端的第一扭臂1122222和位于所述弹簧主体1122221另一端的第二扭臂1122223,所述弹簧主体1122221与所述第一扭臂1122222和所述第二扭臂1122223一体成型,所述弹簧主体1122221套设于所述连接轴112221上,所述第一扭臂1122222与所述支架主体11221支撑抵接,所述第二扭臂1122223与所述第二抵接部112231远离所述第一抵接部1122231的一侧支撑抵接。
在本实施方式中,通过将弹簧主体1122221套设在连接轴112221上,并将第一扭臂1122222与支架主体11221支撑抵接,第二扭臂1122223与第二抵接部112231远离第一抵接部1122231的一侧支撑抵接,以在弹性件112222的作用下将第二抵接部112231夹紧抵接在第一抵接部1122231上,从而使得样品台11223稳定且可拆卸地安装在支架主体11221上,不仅提升了对样品的安装稳定性,样品台11223还能够从支架主体11221上取出以便操作人员将样品安放到样品台11223上,提升了对样品安装的便捷性。
如图3和图4所示,在本申请的上述实施方式中,可选地,所述样品支架1122还包括样品安装件11224,所述样品台11223开设有与所述样品安装件11224相适配的第三安装槽112232,所述样品安装件11224开设有呈阵列排布的多个通孔112241。
在本实施方式中,通过在样品台11223上开设与样品安装件11224相适配的第三安装槽112232,以实现对样品安装件11224的安装功能,样品安装件11224用于安装样品,从而实现对样品的安装功能。通过在样品安装件11224上开设呈阵列排布的多个通孔112241,以避让透射电镜装置110发射的电子束,利于对样品进行透射电子成像测试。
如图1和图2所示,在本申请的一个实施方式中,可选地,所述X射线荧光接收装置130包括X射线荧光探测器131和信息采集分析模块,所述X射线荧光探测器131的探头穿设于所述第三通孔1114设置在所述内腔1111内,且朝向所述样品的方向设置,所述信息采集分析模块与所述X射线荧光探测器131电连接。
在本实施方式中,通过将X射线荧光探测器131的探头穿设于第三通孔1114设置在内腔1111内,且朝向样品的方向设置,以便X射线荧光探测器131的探头接收样品激发的特征X射线,从而实现对样品进行X射线吸收精细结构谱测试的功能。
通过将信息采集分析模块与X射线荧光探测器131电连接,这样X射线荧光探测器131接收的样品激发的特征X射线信号能够被送入信息采集分析模块进行X射线吸收精细结构谱测试分析,从而实现对样品进行X射线吸收精细结构谱测试的功能。
示例性的,X射线荧光探测器131可以为硅漂移探测器,信息采集分析模块可以由多通道数字处理器以及谱图处理软件等组成。
需要说明的是,X射线与电子束联用测试设备100利用气体电离室121与硅漂移探测器实现对样品进行X射线吸收精细结构谱测试。
具体的,首先开启硅漂移探测器与气体电离室121,通过记录气体电离室121的入射X射线强度I0与硅漂移探测器中样品元素的荧光强度If,利用公式μ=If/I0获得样品中目标元素的X射线吸收系数μ,这样便可以获得元素的特定能量X射线的吸收系数。连续改变入射X射线的能量,便可以获得吸收系数随入射X射线能量变化曲线,即样品的X射线吸收精细结构谱。
如图1和图2所示,在本申请的上述实施方式中,可选地,所述X射线荧光探测器131设置有两个,两个所述X射线荧光探测器131沿所述装置主体111的周向相间隔设置。
在本实施方式中,通过将X射线荧光探测器131的数量设置为两个,并将两个X射线荧光探测器131沿装置主体111的周向相间隔设置,以提升X射线荧光探测器131接收样品激发的特征X射线信号的强度,从而提升检测结果的准确性和稳定性,进而提升对样品进行X射线吸收精细结构谱测试的功能。
如图1所示,在本申请的一些实施方式中,可选地,所述透射电镜装置110还包括电子发生器113和成像探测器114,所述电子发生器113和所述成像探测器114均设置于所述内腔1111内,且所述电子发生器113和所述成像探测器114分别位于所述样品支撑组件112的两相对侧,所述电子发生器113发射的电子束射向所述样品,所述成像探测器114用于接收透过所述样品的电子束。由此,实现对样品进行透射电子成像测试的功能,从而获得样品真实可对应的二维形貌像信息。需要说明的是,透射电镜装置110还包括循环冷却系统、真空系统和供电系统。
综上所述,本申请提出一种X射线与电子束联用测试设备100,X射线与电子束联用测试设备100包括透射电镜装置110、X射线强度探测装置120、X射线发射装置和X射线荧光接收装置130,透射电镜装置110包括装置主体111和样品支撑组件112,装置主体111具有内腔1111,X射线强度探测装置120具有气体电离室121。通过沿装置主体111的周向间隔开设第一通孔1112、第二通孔1113和第三通孔1114,并将样品支撑组件112的一部分穿设于第一通孔1112设置在内腔1111内,且将样品安装在样品支撑组件112上,以实现将样品稳定安装在内腔1111内的功能。通过设置X射线发射装置并在装置主体111外设置朝向第二通孔1113设置的X射线强度探测装置120,这样使得X射线发射装置发射的X射线能够依次穿过气体电离室121和第二通孔1113射向样品,通过将X射线荧光接收装置130的一部分穿设于第三通孔1114设置在内腔1111内,且朝向样品的方向设置,以实现接收样品激发的特征X射线的功能,从而实现对样品进行X射线吸收精细结构谱测试的功能。同时,透射电镜装置110能够对样品进行透射电子成像测试,实现对样品进行透射电子成像测试的功能。本申请提供的X射线与电子束联用测试设备100,能够在同一时间、同一空间对样品进行X射线吸收精细结构谱测试和透射电子成像测试,从而获得样品真实可对应的二维形貌像和原子局域配位结构信息。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本申请的限制,本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,包括:
透射电镜装置,所述透射电镜装置包括装置主体和样品支撑组件,所述装置主体具有内腔,沿所述装置主体的周向间隔开设有第一通孔、第二通孔和第三通孔,所述样品支撑组件的一部分穿设于所述第一通孔设置在所述内腔内,用于安装样品;
X射线强度探测装置,具有气体电离室,所述X射线强度探测装置设置于所述装置主体外,且朝向所述第二通孔设置;
X射线发射装置,所述X射线发射装置发射的X射线依次穿过所述气体电离室和所述第二通孔射向所述样品;
X射线荧光接收装置,所述X射线荧光接收装置的一部分穿设于所述第三通孔设置在所述内腔内,且朝向所述样品的方向设置,用于接收所述样品激发的特征X射线。
2.根据权利要求1所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述X射线与电子束联用测试设备还包括透光件,所述透光件设置于所述第二通孔内,且所述透光件的周向壁与所述第二通孔的孔壁相抵接。
3.根据权利要求1所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述X射线与电子束联用测试设备还包括驱动件,所述样品支撑组件包括样品杆和样品支架,所述样品支架设置于所述内腔内,用于安装所述样品,所述样品杆的一端与所述驱动件的输出端连接,另一端穿设于所述第一通孔与所述样品支架连接。
4.根据权利要求3所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述样品支架包括支架主体、连接组件和样品台,所述支架主体开设有与所述连接组件和所述样品台相适配的第一安装槽,且开设有与所述样品杆相适配的第二安装槽,所述样品台通过所述连接组件与所述支架主体连接。
5.根据权利要求4所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述连接组件包括连接轴、弹性件和配合件,所述第一安装槽的槽壁开设有与所述连接轴相适配的安装孔,所述弹性件和所述配合件均套设于所述连接轴上,所述配合件的一端具有第一抵接部,所述样品台具有与所述第一抵接部相适配的第二抵接部,所述弹性件的一端与所述支架主体抵接,另一端与所述第二抵接部远离所述第一抵接部的一侧抵接。
6.根据权利要求5所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述弹性件包括弹簧主体、位于所述弹簧主体一端的第一扭臂和位于所述弹簧主体另一端的第二扭臂,所述弹簧主体与所述第一扭臂和所述第二扭臂一体成型,所述弹簧主体套设于所述连接轴上,所述第一扭臂与所述支架主体支撑抵接,所述第二扭臂与所述第二抵接部远离所述第一抵接部的一侧支撑抵接。
7.根据权利要求5所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述样品支架还包括样品安装件,所述样品台开设有与所述样品安装件相适配的第三安装槽,所述样品安装件开设有呈阵列排布的多个通孔。
8.根据权利要求1所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述X射线荧光接收装置包括X射线荧光探测器和信息采集分析模块,所述X射线荧光探测器的探头穿设于所述第三通孔设置在所述内腔内,且朝向所述样品的方向设置,所述信息采集分析模块与所述X射线荧光探测器电连接。
9.根据权利要求8所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述X射线荧光探测器设置有两个,两个所述X射线荧光探测器沿所述装置主体的周向相间隔设置。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的X射线与电子束联用测试设备,其特征在于,所述透射电镜装置还包括电子发生器和成像探测器,所述电子发生器和所述成像探测器均设置于所述内腔内,且所述电子发生器和所述成像探测器分别位于所述样品支撑组件的两相对侧,所述电子发生器发射的电子束射向所述样品,所述成像探测器用于接收透过所述样品的电子束。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310747877.6A CN116754593A (zh) | 2023-06-25 | 2023-06-25 | 一种x射线与电子束联用测试设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310747877.6A CN116754593A (zh) | 2023-06-25 | 2023-06-25 | 一种x射线与电子束联用测试设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116754593A true CN116754593A (zh) | 2023-09-15 |
Family
ID=87956783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310747877.6A Pending CN116754593A (zh) | 2023-06-25 | 2023-06-25 | 一种x射线与电子束联用测试设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116754593A (zh) |
-
2023
- 2023-06-25 CN CN202310747877.6A patent/CN116754593A/zh active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6937380B2 (ja) | X線分光を実施するための方法およびx線吸収分光システム | |
US5402460A (en) | Three-dimensional microtomographic analysis system | |
JP5301470B2 (ja) | X線分析機器 | |
CN101636651B (zh) | 具有x射线荧光及电火花发射光谱分析功能的仪器 | |
JP4723487B2 (ja) | X線吸収端近傍構造解析を実行するためのxanes解析システム及びその方法 | |
US6548810B2 (en) | Scanning confocal electron microscope | |
CN114729907B (zh) | 用于计算机层析x射线荧光成像的系统和方法 | |
EP3770945B1 (en) | Kikuchi diffraction detector | |
US6442236B1 (en) | X-ray analysis | |
JP2007093593A (ja) | 全反射蛍光x線分析方法及び装置 | |
WO2007116509A1 (ja) | 質量分析装置 | |
JP2024501623A (ja) | 透過x線源を用いた高スループット3d x線撮像システム | |
US11796492B2 (en) | Apparatuses and methods for combined simultaneous analyses of materials | |
CN107228871B (zh) | 一种便携式x射线分析装置 | |
US3944822A (en) | Polarization excitation device for X-ray fluorescence analysis | |
JP2005515435A (ja) | 回折計及び回折分析方法 | |
EP3602020B1 (en) | Method of performing x-ray spectroscopy and x-ray absorption spectrometer system | |
CN116754593A (zh) | 一种x射线与电子束联用测试设备 | |
Bufon et al. | A novel multi-cell silicon drift detector for Low Energy X-Ray Fluorescence (LEXRF) spectroscopy | |
Bombelli et al. | Towards on‐the‐fly X‐ray fluorescence mapping in the soft X‐ray regime | |
US10784078B2 (en) | Electron diffraction imaging system for determining molecular structure and conformation | |
CN219737335U (zh) | 一种弧形探测器机构及x射线衍射-荧光谱仪 | |
CN113218974A (zh) | 一种x射线吸收谱测量系统 | |
Longoni et al. | XRF spectrometers based on monolithic arrays of silicon drift detectors: Elemental mapping analyses and advanced detector structures | |
Ko et al. | Development of a second generation scanning photoemission microscope with a zone plate generated microprobe at the National Synchrotron Light Source |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |