JP7217943B2 - 投影像の撮影方法、制御装置、制御プログラム、処理装置および処理プログラム - Google Patents
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Description
動作例を用いて本発明の原理を説明する。図1(a)~(c)は、それぞれ板状試料の回転角度に対してX線源116aと試料S0との配置を示す側面図である。図1(a)~(c)に示すように、本発明に係る撮影方法では、試料S0とX線発生部116が接触しないように、回転ステージの動作により試料S0を光軸方向に動かしながら、試料S0を回転中心C0回りに回転させて、検出器117により投影像データを取得する。なお、X線源116aは、X線発生部116内に存在し、X線発生部116のハウジングに対し相対的に点状のサイズと考えてよい。
(X線CT測定システムの構成)
図2は、X線CT測定システム100を示す概略図である。図2に示すように、X線CT測定システム100は、撮影装置110、コンピュータ120(制御装置および処理装置)、入力部210、出力部220を備えている。これらの各装置および各部は、有線または無線で接続され、制御情報や撮影データ等を送受信可能になっている。
撮影装置110は、制御ユニット111、ステージ駆動機構113、試料ステージ114、X線発生部116、および検出器117を備え、保持した試料のX線CT撮影を行なう。X線発生部116は、内部にX線源116aを有している。撮影装置110は、X線CT用であり、撮影した投影像データ(投影像データ)は、コンピュータ120に送信される。
試料ステージ114の回転中心に対して外形が非均一な試料が好ましい。特に、試料が板状である場合のように固有の非均一な外形を有する場合には好ましい。例えば、板状に形成され、母材と母材中に分散した充填材を含む試料に対して好適である。このような長所を活かして、CTを用いて電子基板や炭素繊維強化樹脂の試験、検査に応用できる。微細な構造の検査に用いられることを考慮すると、特に、X線焦点サイズをミクロンオーダにして測定するX線マイクロCTを用いるのが適している。
図3は、X線CT測定システム100を示すブロック図である。図3では、主にコンピュータ(制御装置および処理装置)の機能的構成を示している。コンピュータ120は、例えばPCであり、処理を実行するプロセッサおよびプログラムやデータを記憶するメモリまたはハードディスク等により構成される。コンピュータ120は、ROI設定部121、回転制御部122、進退制御部123、撮影制御部124、データ取得部125、記憶部126、画素調整部127および再構成部128を備えている。各部は、制御バスLにより情報を送受できる。
コンピュータ120は、撮影装置110に撮影条件等を送信し、撮影装置110の動作を制御する。ROI設定部121は、試料の設定後、ユーザの入力に基づいてROI(Region of Interest;関心領域)を記憶させる。試料は、ROIが回転中心に近づくようにその位置が調整されることが好ましく、自動で適した試料の位置が計算され位置調整されることが好ましい。
コンピュータ120は、撮影された投影像データを処理する。データ取得部125は、撮影された試料の投影像データを撮影装置110から取得する。記憶部126は、取得された試料の投影像データを記憶する。例えば、異なる拡大率に対して異なる回転角度で撮影された試料の投影像データを記憶する。また、記憶部126は、画素調整部127が算出した各画素の値を記憶する。
上記のように構成されたX線CT測定システム100を用いた試料の撮影方法を説明する。図4は、撮影方法を示すフローチャートである。
試料S0にX線発生部116が衝突することなく、効率よく高い空間分解能の投影像を取得するために、回転中心C0に対するX線源116aの軌道を決定する方法を説明する。図5(a)~(c)は、それぞれ試料の外形を示す側断面図、円座標で試料断面の外形および最外形を示すグラフである。試料の外形は、広視野、低分解能CT、CAD図面、3次元測定機器等により事前に把握しておく。ユーザが関心領域ROIを指定することで、回転中心に対する試料の位置が決まる。試料ステージの回転中心を直交座標系の座標(0,0)として、試料の外形画像を極座標変換し、θ-r座標系で表示する。
上記のようにして得られた投影像データの処理を説明する。図7は、処理方法を示すフローチャートである。まず、処理装置は、撮影装置110から撮影に対応する回転角度、拡大率、投影像データを取得する(ステップS201)。拡大率は、X線源と回転中心との距離Aまたは実効画素サイズであってもよい。得られた各データは対応付けられて記憶される(ステップS202)。
上記の実施形態では、試料S0の外形そのものに基づいて試料ステージの動作を決定するが、試料の外形が包摂される試料範囲枠を用いて試料ステージの動作を決定してもよい。なお、第1の実施形態では、試料範囲枠が試料の外形そのものである場合と考えることもできる。
上記の実施形態では、試料ステージ114の軌道を決定する際に、X線発生部116の光軸方向のハウジング寸法(長さ)を考慮しているものの、その幅は考慮していない。図9は、幅の広いX線発生部116に対し、試料範囲枠の回転角度θに対してX線の照射方向の位置rを示す側断面図である。マイクロCTで使用されるX線発生部116は光軸と直交する方向のサイズ(幅)が大きいことが多い。図9に示すように、幅の広いX線発生部116は、試料S0の回転に対して衝突が生じやすい。
試料S0の断面が一律の場合には、試料範囲枠F0を単純な形状の柱状体として定義できるが、断面の外枠が異なる場合には、単純な定義が難しい。すなわち、試料S0の異なる高さの断面の形状が異なると全断面に対してθ-rの関係を計算するのに負担が大きくなる。そこで、試料範囲枠F0を断面の投影を重ね合わせた形状の柱状体として定義するのが好ましい。図12(a)~(d)は、それぞれ試料S0を示す斜視図、各断面における試料範囲枠F0を示す断面図および各断面を重ね合わせた画像を示す図である。
上記の実施形態では、撮影ポイントの決定は任意であるが、効率性を考慮すると数種類の拡大率を離散的に設けて撮影ポイントを決定するのが好ましい。図13(a)~(c)は、それぞれ円座標による撮影ポイントを距離A1~A3、拡大率M1~M4および画素サイズP1~P4で示すグラフである。
上記の実施形態では、あらかじめ把握した試料S0の外形に基づいて、試料ステージ114の軌道を決定するが、その場における都度の制御で軌道を決定し、試料に衝突しないようにしながら、X線源116aを試料S0に近づけることもできる。
上記の実施形態では、X線CT用の撮影装置の例を記載しているが、X線顕微鏡へ適用してもよい。X線CT用の撮影装置は、固定されたX線源に試料を設置した回転中心を近接および離間させ、その近接および離間により拡大率を変えられる。一方、X線顕微鏡は、固定された試料に対し検出器を近接および離間させるものであり、X線源と回転中心に設置された試料との距離は一定であるため拡大率は変化しない。
上記のような撮影方法で実際に電子部品、ボンディング、ワイヤが設けられた基板の試料を撮影した。幅150mm、厚さ数mmの板状の試料を用いた。X線源にはX線マイクロCTのものを用いた。
110 撮影装置
111 制御ユニット
113 ステージ駆動機構
114 試料ステージ
116 X線発生部
116a X線源
117 検出器
120 コンピュータ
121 ROI設定部
122 回転制御部
123 進退制御部
124 撮影制御部
125 データ取得部
126 記憶部
127 画素調整部
128 再構成部
210 入力部
220 出力部
310 撮影装置
315a、315b センサ
410 X線顕微鏡
416 X線発生部
416a X線源
417 検出器
A X線源と回転中心との距離
B X線源と検出器との距離
C X線発生部のハウジングの距離
D 試料と検出器との距離
C0 回転中心
F0、F1、F2 試料範囲枠
L 制御バス
P0 方向
P1~P4 画素サイズ
R1~R4 領域
ROI 関心領域
S0 試料
S X線源のサイズ
Claims (18)
- 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像の撮影方法であって、
X線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に試料を配置するステップと、
前記試料を前記回転中心回りに回転させ、前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて光軸方向における前記X線源と前記回転中心との離間距離または前記回転中心と前記検出器との離間距離を相対的に変えることで、180°以上の回転角度にわたり、異なる拡大率に対して異なる回転角度で前記試料の投影像を撮影するステップと、を含み、
前記撮影の前に、前記回転中心周りの角度に対し前記試料の外形を包摂する試料範囲枠と前記回転中心との距離が極大または極小となる点に基づいて、前記試料の回転角度に応じた前記X線源と前記回転中心との離間距離を決定することで、前記試料に前記X線源が衝突しないように前記試料の回転と前記離間距離の変更とを同時かつ連続的に行うことを特徴とする撮影方法。 - 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像の撮影方法であって、
X線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に試料を配置するステップと、
前記試料を前記回転中心回りに回転させ、前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて光軸方向における前記X線源と前記回転中心との離間距離または前記回転中心と前記検出器との離間距離を相対的に変えることで、180°以上の回転角度にわたり、異なる拡大率に対して異なる回転角度で前記試料の投影像を撮影するステップと、を含み、
前記試料の関心領域を設定するステップをさらに含み、
前記試料の関心領域が前記回転中心に近くなるように前記試料を配置し、
前記関心領域および関心領域以外に対し、それぞれ所望の画素サイズに応じて撮影する回転角度を決定することを特徴とする撮影方法。 - 前記投影像の撮影は、前記回転中心に対し前記X線源を近接または離間させることを特徴とする請求項1または請求項2記載の撮影方法。
- 前記投影像の撮影は、前記回転中心に対し前記検出器を近接または離間させることを特徴とする請求項1または請求項2記載の撮影方法。
- 前記試料の回転と前記離間距離の変更とを同時かつ連続的に行うことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の撮影方法。
- 前記回転中心に最も近接したときの前記X線源は、前記試料を前記回転中心回りに一回転させたときの前記試料の外形の軌道と交わることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の撮影方法。
- 前記回転中心回りの角度に対する位置の集合で、前記試料の外形を包摂する試料範囲枠を把握し、前記試料範囲枠を用いて前記試料に前記X線源が衝突しないように制御することを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の撮影方法。
- 前記試料の前記回転中心に垂直な断面の重ね合わせより前記試料範囲枠を把握することを特徴とする請求項7記載の撮影方法。
- 前記試料範囲枠を単純形状の柱状体として設定し、前記試料範囲枠内に前記X線源が入らないように制御することを特徴とする請求項7または請求項8記載の撮影方法。
- 前記回転中心回りの角度に対し前記試料の外形を包摂する試料範囲枠と前記回転中心との距離が極大または極小となる点に基づいて波形を表す曲線関数でフィッティングすることで、前記試料の回転角度に応じた前記X線源と前記回転中心との離間距離を決定することを特徴とする請求項7から請求項9のいずれかに記載の撮影方法。
- 前記試料の関心領域を設定するステップをさらに含み、
前記試料の関心領域が前記回転中心に近くなるように前記試料を配置することを特徴とする請求項1から請求項10のいずれかに記載の撮影方法。 - 前記試料は、板状に形成され、母材と前記母材中に分散した充填材を含むことを特徴とする請求項1から請求項11のいずれかに記載の撮影方法。
- 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を撮影するための制御装置であって、
X線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に配置された試料を前記回転中心回りに回転させる回転制御部と、
前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて前記回転中心に前記X線源または検出器を近接および離間させる進退制御部と、
180°以上の回転角度にわたり、異なる回転角度に対して異なる重複しない拡大率の前記試料の投影像を撮影する撮影制御部と、を備え、
前記撮影の前に、前記回転中心周りの角度に対し前記試料の外形を包摂する試料範囲枠と前記回転中心との距離が極大または極小となる点に基づいて、前記試料の回転角度に応じた前記X線源と前記回転中心との離間距離を決定することで、前記試料に前記X線源が衝突しないように前記試料の回転と前記離間距離の変更とを同時かつ連続的に行うことを特徴とする制御装置。 - 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を撮影するための制御装置であって、
X線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に配置された試料を前記回転中心回りに回転させる回転制御部と、
前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて前記回転中心に前記X線源または検出器を近接および離間させる進退制御部と、
180°以上の回転角度にわたり、異なる回転角度に対して異なる重複しない拡大率の前記試料の投影像を撮影する撮影制御部と、を備え、
前記試料の関心領域を設定するROI設定部をさらに備え、
前記試料の関心領域が前記回転中心に近くなるように前記試料が配置され、
前記撮影制御部は、前記関心領域および関心領域以外に対し、それぞれ所望の画素サイズに応じて撮影する回転角度を決定することを特徴とする制御装置。 - 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を撮影するための制御プログラムであって、
X線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に配置された試料を前記回転中心回りに回転させる制御の処理と、
前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて前記回転中心に前記X線源または検出器を近接および離間させる制御の処理と、
180°以上の回転角度にわたり、異なる回転角度に対して異なる拡大率の前記試料の投影像を撮影する制御の処理と、をコンピュータに実行させ、
前記撮影の前に、前記回転中心周りの角度に対し前記試料の外形を包摂する試料範囲枠と前記回転中心との距離が極大または極小となる点に基づいて、前記試料の回転角度に応じた前記X線源と前記回転中心との離間距離を決定することで、前記試料に前記X線源が衝突しないように前記試料の回転と前記離間距離の変更とを同時かつ連続的に行うことを特徴とする制御プログラム。 - 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を撮影するための制御プログラムであって、
X線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に配置された試料を前記回転中心回りに回転させる制御の処理と、
前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて前記回転中心に前記X線源または検出器を近接および離間させる制御の処理と、
180°以上の回転角度にわたり、異なる回転角度に対して異なる拡大率の前記試料の投影像を撮影する制御の処理と、をコンピュータに実行させ、
前記試料の関心領域を設定する処理をさらにコンピュータに実行させ、
前記試料の関心領域が前記回転中心に近くなるように前記試料を配置し、前記関心領域および関心領域以外に対し、それぞれ所望の画素サイズに応じて撮影する回転角度を決定することを特徴とする制御プログラム。 - 請求項13または請求項14記載の制御装置により撮影された、回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を処理する処理装置であって、
異なる拡大率に対して異なる回転角度で撮影された試料の投影像データを記憶する記憶部と、
前記記憶された試料の投影像データの画素サイズを一定基準に合わせる画素調整部と、
前記画素サイズを調整された投影像データを用いて3次元CT画像を再構成する再構成部と、を備えることを特徴とする処理装置。 - 請求項15または請求項16記載の制御プログラムにより撮影された、回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を処理する処理プログラムであって、
異なる拡大率に対して異なる回転角度で撮影された試料の投影像データを記憶する処理と、
前記記憶された試料の投影像データの画素サイズを一定基準に合わせる処理と、
前記画素サイズを調整された投影像データを用いてCTの3次元画像を再構成する処理と、をコンピュータに実行させることを特徴とする処理プログラム。
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