JP2020173175A5 - - Google Patents

Description

（１）上記の目的を達成するため、本発明の投影像の撮影方法は、回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像の撮影方法であって、Ｘ線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に試料を配置するステップと、前記試料を前記回転中心回りに回転させ、前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて光軸方向における前記Ｘ線源と前記回転中心との離間距離または前記回転中心と前記検出器との離間距離を相対的に変えることで、１８０°以上の回転角度にわたり、異なる拡大率に対して異なる回転角度で前記試料の投影像を撮影するステップと、を含むことを特徴としている。

（４）また、本発明の投影像の撮影方法は、前記試料の回転と前記離間距離の変更とを同時かつ連続的に行なうことを特徴としている。これにより、一回の連続的な移動制御で投影像を撮影できる。

（６）また、本発明の投影像の撮影方法は、前記回転中心回りの角度に対する位置の集合で、前記試料の外形を包摂する試料範囲枠を把握し、前記試料範囲枠を用いて前記試料に前記Ｘ線源が衝突しないように制御することを特徴としている。これにより、Ｘ線源の試料への衝突を回避できる。

Claims (17)

1. 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像の撮影方法であって、
   Ｘ線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に試料を配置するステップと、
   前記試料を前記回転中心回りに回転させ、前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて光軸方向における前記Ｘ線源と前記回転中心との離間距離または前記回転中心と前記検出器との離間距離を相対的に変えることで、１８０°以上の回転角度にわたり、異なる拡大率に対して異なる回転角度で前記試料の投影像を撮影するステップと、を含むことを特徴とする撮影方法。
2. 前記投影像の撮影は、前記回転中心に対し前記Ｘ線源を近接または離間させることを特徴とする請求項１記載の撮影方法。
3. 前記投影像の撮影は、前記回転中心に対し前記検出器を近接または離間させることを特徴とする請求項１記載の撮影方法。
4. 前記試料の回転と前記離間距離の変更とを同時かつ連続的に行うことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の撮影方法。
5. 前記回転中心に最も近接したときの前記Ｘ線源は、前記試料を前記回転中心回りに一回転させたときの前記試料の外形の軌道と交わることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の撮影方法。
6. 前記回転中心回りの角度に対する位置の集合で、前記試料の外形を包摂する試料範囲枠を把握し、前記試料範囲枠を用いて前記試料に前記Ｘ線源が衝突しないように制御することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれかに記載の撮影方法。
7. 前記試料の前記回転中心に垂直な断面の重ね合わせより前記試料範囲枠を把握することを特徴とする請求項６記載の撮影方法。
8. 前記試料範囲枠を単純形状の柱状体として設定し、前記試料範囲枠内に前記Ｘ線源が入らないように制御することを特徴とする請求項６または請求項７記載の撮影方法。
9. 前記試料範囲枠の極に基づいて波形を表す曲線関数でフィッティングすることで、前記回転中心に対する前記Ｘ線源の軌道を決定することを特徴とする請求項６から請求項８のいずれかに記載の撮影方法。
10. 前記試料の前記Ｘ線源側の端部の位置を検出し、前記試料の端部と前記Ｘ線源との距離が閾値以下になった場合には、前記Ｘ線源を前記回転中心から所定距離だけ離す制御を行うことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか記載の撮影方法。
11. 前記試料の関心領域を設定するステップをさらに含み、
    前記試料の関心領域が前記回転中心に近くなるように前記試料を配置することを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれかに記載の撮影方法。
12. 前記関心領域および関心領域以外に対し、それぞれ所望の画素サイズに応じて撮影する回転角度を決定することを特徴とする請求項１１記載の撮影方法。
13. 前記試料は、板状に形成され、母材と前記母材中に分散した充填材を含むことを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれかに記載の撮影方法。
14. 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を撮影するための制御装置であって、
    Ｘ線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に配置された試料を前記回転中心回りに回転させる回転制御部と、
    前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて前記回転中心に前記Ｘ線源または検出器を近接および離間させる進退制御部と、１８０°以上の回転角度にわたり、異なる回転角度に対して異なる重複しない拡大率の前記試料の投影像を撮影する撮影制御部と、を備えることを特徴とする制御装置。
15. 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を撮影するための制御プログラムであって、
    Ｘ線源と検出器との間に設定された回転中心の位置に配置された試料を前記回転中心回りに回転させる制御の処理と、
    前記試料の外形および前記試料の回転角度に応じて前記回転中心に前記Ｘ線源または検出器を近接および離間させる制御の処理と、
    １８０°以上の回転角度にわたり、異なる回転角度に対して異なる拡大率の前記試料の投影像を撮影する制御の処理と、をコンピュータに実行させることを特徴とする制御プログラム。
16. 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を処理する処理装置であって、
    異なる拡大率に対して異なる回転角度で撮影された試料の投影像データを記憶する記憶部と、
    前記記憶された試料の投影像データの画素サイズを一定基準に合わせる画素調整部と、
    前記画素サイズを調整された投影像データを用いて３次元ＣＴ画像を再構成する再構成部と、を備えることを特徴とする処理装置。
17. 回転中心に対して外形が非均一な試料の投影像を処理する処理プログラムであって、
    異なる拡大率に対して異なる回転角度で撮影された試料の投影像データを記憶する処理と、
    前記記憶された試料の投影像データの画素サイズを一定基準に合わせる処理と、
    前記画素サイズを調整された投影像データを用いてＣＴの３次元画像を再構成する処理と、をコンピュータに実行させることを特徴とする処理プログラム。