JPS63167251A - Ｘ線分析装置 - Google Patents
Ｘ線分析装置Info
- Publication number
- JPS63167251A JPS63167251A JP30994286A JP30994286A JPS63167251A JP S63167251 A JPS63167251 A JP S63167251A JP 30994286 A JP30994286 A JP 30994286A JP 30994286 A JP30994286 A JP 30994286A JP S63167251 A JPS63167251 A JP S63167251A
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- Japan
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- ray
- angle
- around
- spectral crystal
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- Pending
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 2
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- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
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- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は、Ｘ線照射角度、試料からのＸ線取出角度及び
分光装置の波長走査運動を可能としたＸ線分析装置に関
する。
分光装置の波長走査運動を可能としたＸ線分析装置に関
する。
口、従来の技術
蛍光Ｘ線分析装置において、分析対象が薄膜又は極めて
薄い表面等の場合には、Ｘ線の試料への照射角度θ１及
び試料から放出されるＸ線の取出角度θ２を小さく設定
して、Ｘ線が分析領域内の試料原子に衝突する確率を高
めると共に試料深部からの情報を担ったＸ線の減衰を強
める必要がある。しかし、従来の分光結晶波長走査機構
では、励起用Ｘ線管、試料のＸ線照射点１分光器の位置
等は固定されており、そのなめに、Ｘ線管からの試料へ
のＸ線照射角度θｌ及び試料からＸ線取出角度θ２は変
更できないので、薄膜又は極めて薄い表面等の測定が難
しく、それ用の装置を別途用意しなければならないので
測定能率も悪く、不経済である等の問題があった。
薄い表面等の場合には、Ｘ線の試料への照射角度θ１及
び試料から放出されるＸ線の取出角度θ２を小さく設定
して、Ｘ線が分析領域内の試料原子に衝突する確率を高
めると共に試料深部からの情報を担ったＸ線の減衰を強
める必要がある。しかし、従来の分光結晶波長走査機構
では、励起用Ｘ線管、試料のＸ線照射点１分光器の位置
等は固定されており、そのなめに、Ｘ線管からの試料へ
のＸ線照射角度θｌ及び試料からＸ線取出角度θ２は変
更できないので、薄膜又は極めて薄い表面等の測定が難
しく、それ用の装置を別途用意しなければならないので
測定能率も悪く、不経済である等の問題があった。
ハ１発明が解決しようとする問題点
本発明は、一つのＸ線分析装置による分析可能な対象の
拡大を計り、上述したような薄膜や極めて薄い表面も、
通常の元素分析も可能とすることで、測定能率を高め、
経済性も高めることを目的とする。
拡大を計り、上述したような薄膜や極めて薄い表面も、
通常の元素分析も可能とすることで、測定能率を高め、
経済性も高めることを目的とする。
二０問題点解決のための手段
Ｘ線分析装置において、試料をＸ線照射位置を軸として
回転させる手段を設け、試料を中心に分光結晶及び検出
器よりなる分光器或は励起用線源を回転可能に設けた。
回転させる手段を設け、試料を中心に分光結晶及び検出
器よりなる分光器或は励起用線源を回転可能に設けた。
ホ０作用
本発明によれば、試ｆ−＋を回転可能に設け、ソーラス
リット及び分光結晶等よりなる分光器或は励起用線源を
、試料のＸ線照射点を軸として回転可能に設置すること
により、試料へ入射するＸ線の入射角度θ、及び試料か
らのＸ線の収出角度θ２を自由に変更できるようにした
ので、薄膜や極めて薄い表面等における測定も、通常の
測定も可能となり、分析能率が向上した。
リット及び分光結晶等よりなる分光器或は励起用線源を
、試料のＸ線照射点を軸として回転可能に設置すること
により、試料へ入射するＸ線の入射角度θ、及び試料か
らのＸ線の収出角度θ２を自由に変更できるようにした
ので、薄膜や極めて薄い表面等における測定も、通常の
測定も可能となり、分析能率が向上した。
へ、実施例
図に本発明の一実施例を示す。図において、Ｓは試料で
試料テーブルＴによってＸ線照射点を軸（紙面に垂直）
として回転可能に設置されている、１は試料にＸ線を照
射するＸ線管で試料テーブルＴの回転軸と同軸に枢支さ
れた腕Ａ上に取付けられている。Ｓ２は照射Ｘ線によっ
て励起されて試料Ｓから放出されるＸ線から、分光結晶
に入射せしめる平行Ｘ線束を取出すソーラスリット、２
はＸ線を分光する分光結晶、３は分光結晶２で分光され
たＸ線を検出する検出器で、ソーラスリットＳ２９分光
結晶２．検出器３によってＸ線分光器が構成されている
。Ｂはゴニオメータで分光結晶２を中心に検出器３を分
光結晶２の回転角αの２（ｆｌの回転角２αで回転させ
る２倍角機横を有する。以上の構成全体は真空界２Ｈｗ
内に収納されている。
試料テーブルＴによってＸ線照射点を軸（紙面に垂直）
として回転可能に設置されている、１は試料にＸ線を照
射するＸ線管で試料テーブルＴの回転軸と同軸に枢支さ
れた腕Ａ上に取付けられている。Ｓ２は照射Ｘ線によっ
て励起されて試料Ｓから放出されるＸ線から、分光結晶
に入射せしめる平行Ｘ線束を取出すソーラスリット、２
はＸ線を分光する分光結晶、３は分光結晶２で分光され
たＸ線を検出する検出器で、ソーラスリットＳ２９分光
結晶２．検出器３によってＸ線分光器が構成されている
。Ｂはゴニオメータで分光結晶２を中心に検出器３を分
光結晶２の回転角αの２（ｆｌの回転角２αで回転させ
る２倍角機横を有する。以上の構成全体は真空界２Ｈｗ
内に収納されている。
以上の構成で分光結晶波長走査ｉｔ＃Ｉの波長設定動作
を説明する。試料Ｓを回転させてソーラスリットＳ２の
方向がＸ線取出角度θ２になるように設定する０次に腕
Ａを回転させてＸ線照射角θｌを設定する。その上でゴ
ニオメータＢを作動させて波長走査を行う。
を説明する。試料Ｓを回転させてソーラスリットＳ２の
方向がＸ線取出角度θ２になるように設定する０次に腕
Ａを回転させてＸ線照射角θｌを設定する。その上でゴ
ニオメータＢを作動させて波長走査を行う。
上述実施例では試料周面にＸ線管の角位置を可変にした
が、反対に分光器の試料に対する角位置を可変にしても
よい。
が、反対に分光器の試料に対する角位置を可変にしても
よい。
ト、効果
本発明によれば、試料へのＸ線照射角度及び試料からの
Ｘ線収出角度を自由に設定できるようになったことによ
り、薄膜や極めて薄い表面等も、通常の測定も一台の装
置で可能となり、−試料について表面分析と、全体分析
の両方を行いたいような場合、一台の装置で間に合うか
ら経済的な上、試料を装置から装置へ移しがえる必要が
ないから測定の能率も向上する。
Ｘ線収出角度を自由に設定できるようになったことによ
り、薄膜や極めて薄い表面等も、通常の測定も一台の装
置で可能となり、−試料について表面分析と、全体分析
の両方を行いたいような場合、一台の装置で間に合うか
ら経済的な上、試料を装置から装置へ移しがえる必要が
ないから測定の能率も向上する。
図は本発明の一実施例の平面図である。
１・・・Ｘ線管、２・・・分光結晶、３・・・検出器、
Ｓ・・・試料、Ｓ２・・・ソーラスリット、Ａ・・・腕
、Ｂ・・・ゴニオメータ、Ｔ・・・テーブル、Ｗ・・・
真空容器。
Ｓ・・・試料、Ｓ２・・・ソーラスリット、Ａ・・・腕
、Ｂ・・・ゴニオメータ、Ｔ・・・テーブル、Ｗ・・・
真空容器。
Claims (1)
- 試料をＸ線照射位置を軸として回転させる手段を設ける
と共に、試料を中心に分光結晶及び検出器よりなる分光
器或は励起用線源を回転可能に設けたことを特徴とする
Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30994286A JPS63167251A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | Ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30994286A JPS63167251A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | Ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63167251A true JPS63167251A (ja) | 1988-07-11 |
Family
ID=17999202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30994286A Pending JPS63167251A (ja) | 1986-12-27 | 1986-12-27 | Ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63167251A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03202760A (ja) * | 1989-10-19 | 1991-09-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 全反射螢光ｘ線分折装置 |
| JPH062208U (ja) * | 1992-04-16 | 1994-01-14 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2010520467A (ja) * | 2007-03-06 | 2010-06-10 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク | Ｘ線分析機器 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6117052A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-01-25 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 螢光ｘ線分析装置 |
| JPS61132847A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-20 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ２層メツキ被膜の螢光ｘ線分析方法及び装置 |
-
1986
- 1986-12-27 JP JP30994286A patent/JPS63167251A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6117052A (ja) * | 1984-07-02 | 1986-01-25 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 螢光ｘ線分析装置 |
| JPS61132847A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-20 | Sumitomo Metal Ind Ltd | ２層メツキ被膜の螢光ｘ線分析方法及び装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03202760A (ja) * | 1989-10-19 | 1991-09-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 全反射螢光ｘ線分折装置 |
| JPH062208U (ja) * | 1992-04-16 | 1994-01-14 | 理学電機工業株式会社 | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2010520467A (ja) * | 2007-03-06 | 2010-06-10 | サーモ フィッシャー サイエンティフィック インク | Ｘ線分析機器 |
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