RU1792538C - Фотополимеризующийс состав - Google Patents
Фотополимеризующийс составInfo
- Publication number
- RU1792538C RU1792538C SU894614056A SU4614056A RU1792538C RU 1792538 C RU1792538 C RU 1792538C SU 894614056 A SU894614056 A SU 894614056A SU 4614056 A SU4614056 A SU 4614056A RU 1792538 C RU1792538 C RU 1792538C
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- composition
- parts
- weight
- continuation
- substituted
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 30
- -1 1-pyrryl Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 claims abstract 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 125000006656 (C2-C4) alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 1
- 125000001064 morpholinomethyl group Chemical group [H]C([H])(*)N1C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims 1
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004008 6 membered carbocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 abstract 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 abstract 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene titanium Chemical compound [Ti].C1C=CC=C1.C1C=CC=C1 KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 4-oxopentanoic acid Chemical compound CC(=O)CCC(O)=O JOOXCMJARBKPKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 125000006701 (C1-C7) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-prop-2-enoyloxypropoxy)propoxy]propan-2-yl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(C)COCC(C)OC(=O)C=C ZDQNWDNMNKSMHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine Chemical compound COCN(COC)C1=NC(N(COC)COC)=NC(N(COC)COC)=N1 BNCADMBVWNPPIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N Cyanamide Chemical compound NC#N XZMCDFZZKTWFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N [3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COC(=O)C=C SSOONFBDIYMPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006222 dimethylaminomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])N(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 1
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229940040102 levulinic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229940093429 polyethylene glycol 6000 Drugs 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/325—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals directly attached to the ring nitrogen atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/333—Radicals substituted by oxygen or sulfur atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D207/335—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/04—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F17/00—Metallocenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
- C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
- C07F7/0814—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring said ring is substituted at a C ring atom by Si
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/28—Titanium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
- Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/148—Light sensitive titanium compound containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Pyrrole Compounds (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Dental Preparations (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Description
где RI независимо друг от друга.в соответствующем случае замещенный одно- или двукратно метилом или тримётйлсйлилом циклопентадиенил;
R2 - фенил, замещенный в обоих положени х к св зи титан-углерод фтором и в мета-положении остатком формулы II
:
;тсч
где R3,R4,R5,Re - независимо друг от друга атом водорода, С1-С7-алкил, алкоксиалкил. фенил, 2-фурил, С2-С4-алкенил, тринизший алкилсилил, димётиламинометил, бис(ме- токсиэтил)аминометил или морфолйноме- тил, причем а) содержитс в количестве 100 мае.ч.; б) в количестве 0.02-8,0 мас.ч.;;::
ПредпочтитёльнС чтобы Состав допол- нительно содержал в количестве, 1-2 мас.ч. фотоинициатор бензилкеталь или смесь 1:1. а-гидроксициклогексилфенйлкетрна и бензофенона . ;:: 7
Пример 1. Фотоотверждение смеси акрилатов. . л: Получают фотоотверждаемый состав смешиванием следующих компонентов, г:
Содержание тв.вёщ.
150.30 скрыпсета 5401 (30%-ный рас- , твор в ацетоне) - сополимер полистирола и ангидрида мале- . инрвой кислоты, (Монсанто) 45,1 48,30 триакрйлата
триметилолпропана.48,3 6,60 диакрилата поли- этиленгликол 6,6 0,08 кристаллического фиолетового
205,28100 100 мас.ч. этого состава смешивали с указанными в табл.1, количествами фото- инициатора или смеси инициаторов. В случае смеси инициаторов речь идет о растворах титаноцена в жидком инициаторе , состо щем из смеси 1:1 сг-гидроксицик0 (СН2СН20)5(СН2)9СНз
Концентраци фотоинициаторов рассчитывалась на основе их содержани твердых частиц.
Все операции проводили при красном или желтом свете.
Пробы, смешанные с инициатором, наносили толщиной 150/мм на алюминиевую пленку . После удалени растворител при 60°С в течение 15 мин в конвекционной сушильной камере, на жидкий слой накладывали полиэфирную пленку толщиной 76уМм и на нее накладывали стандартизованный тестовый негатив с 21 ступен ми различной оптической плотности (клин Шта- уфера). Пробу покрывали второй УФ-про- зрачной пленкой и полученный таким образом ламинат с помощью вакуума нажимали на металлическую пластинку, Затем пробу освещали металлогалогенидной лампой мощностью 5 квт на рассто нии 3.0 см в течение р д тестов 10,20,40 и 60 с. После освещени удал ли пленку и маску, освещённый слой про вл ли 2 мин в ультразвуковой ванне про вителем Ах, а затем высушивали в конвекционной сушильной камере..
Чувствительность примен емой системы инициаторов характеризовали путем указани последней неклейко изображенной ступени. Чем выше число ступеней, тем чувствительнее система. Повышение на две ступени обозначает при этом примерно удвоение скорости отверждени .
Про витель Ах содержит 15 г натрийме- тасиликата. 9Н20; 0,17 г, КОН; 3 г полиэти- ленгликол 6000; 0,5 г левулиновой кислоты и 1000 г деионизированной воды.
Результаты приведены в табл.1.
П р и м е р 2. Фотоотверждение смеси акрилатов,
Получают фотоотвержденный состав смешиванием следующих компонентов:
37,64 г сартомера SR444 (триакрилат лентаэритритола, Sartomer Company, Westchester)
10,76 г цимел 301 (гексаметоксиметил- меламин, цианамид)
47,30 г карбосета 525 (термопластичный акрилат с карбоксильными группами, B.F.Goodrich)
4,30 г поливипилпирролидон (GAF)
на алюминиевую пленку толщиной 200 /им. После удалени растворител при 60°С в течение 15 мин в конвекционной сушильной камере на жидкий слой накладывали полиэфирную пленку толщиной 76 it и на нее накладывали стандартизованный тестовый негатив с 21 ступен ми различной оптической плотности (клин Штауфера). Пробу покрывали второй УФ-прозрачной пленкой и с помощью вакуумананимали на металлическую пластину. Затем пробу освещали металл огалоген ид ной лампой MOUiHipCTbto 5 кВт на рассто нии 30 см в течение Первого р да тестов 20 с, в течение второгорада тестов 4Q с, и в третьем р де тестов - 60 с. После освещени удал ли плёнку и маску, освещенный слой про вл ли 2 мин в ультразвуковой ванне про вителем А (состав которого описан в примере 1) при 23°С с последующим высушиванием при 40°С 5 мин в конвекционной сушильной камере.
.Чувствительность примен емой системы инициаторов характеризовали путем указани последней неклейко изображенной ступени. Чем выщё число ступеней, тем выше чувствительность инициатора.
Результаты/приведены втабл.5.;
П рим е р б. Фотоотвержденйе смеси
акрилата. .,.:.:Х : ;- - Г . Составы и услови реакции соответству; ют тем ё примере 3, ;;± У,..-..- . . -
бсвеЩеНие тестового негатива проводили в трёх р дах тестов - в течение 10,20 и
.4Ci(:.,;C;; : ft -VV:: vri-:- : ,-; РезуШтЙы Нрй1вШёны в табл.б.
П р им е р 7. Приготовили фотОотвёрж- даемый состав аналогично примеру 1. л
Этот состав порци ми смешивали с 0,2% фоТоинйциатбрЬв в соотйётст-вий с изобретением и 1,8% бензилкётал форму Щ
-с-с
;
Испытани в дальнейшем проводили аналогично примеру 3.
Результаты приведены в табл.7.
Пример 8. Приготовилифбтоотверж- даемый состав смешиванием следующих компонентов: v
10,0 г МойогиДро сйпёнтааКрилата ди- пентаэритритола (Sartpmer Со.)
15,0 г диакрилата трипропиленгликол (Sartomer Со.)
15,0 г N-винилпирролидона (Fluka)
Ю.Огтриакрилататрисметилолпропана (Degussa)
50,0 г Actilan (уретан-акрилата) (Societe National des Poudres et Exploslfs) 0,3 г Byk 300 (Byk-Malllnckroth) Этот состав порци ми смешивали с 1,8% бензилкётал формулы 0 O-iCHjCH siCH gCHj
-C-C- S) S: : 0 (СНгСН20)5(СН2)
и 0,2% в расчете на содержание твердых частиц, тйтаноценового фотоинициатора. Всё операции проводили при красном свете. Пробы, смешанные с инициатором, на- Нобили на алюминиевую пленку . Толщина высушенного сло составл ет 60 /ш. На WOT слой накладывали полиэфирную пленку толщиной 76/JM и на нее накладывали стандартизованный тестовый негатив с 21 ступен ми различной оптической плотности (клин Штауфера}. Пробу покрывали второй УФ-прозрачной пленкой и с помощью вакуума нажимали на металлическую Пластину . Затем пробу освещали лампой типа Bulbtyp M023 мощностью 5 кВт на рассто нии 30 см в течение первого р да тестов 5 с, в течение второго р да тестов 10 с, а в треть- ем р де тестов - 15 с. После освещени пленки и маску удал ли и про вл ли осве- щенный слой 10 с в ультразвуковой ванне при 23°С в этаноле. Высушивание проводилось при 40°С 5 мИн в конвекционной су- шильной камере.
Чувствительность примен емой систе- мы инициаторов характеризовали путем указани последней неклейно изображенной ступени. Чем выше число ступеней, тем выше чувствительность системы.
Результаты приведены в табл.8. П р и м е р 9. Фотоотвержденйе составов в соответствии с изобретением по сравнению с составами, содержащих фото- инициаторы в соответствии с прототипом.
Приготовили .фотоотверждаемый состав аналогично примеру.
Этот состав порци ми смешивали с 0,3% в расчете на содержание твердых частиц , фотоинициаторов, приведенных в табл.8.
Испытание проводили аналогично примеру 3. Результаты приведены в табл.9. Пример 10. Фотоотвержденйе состава в соответствии с изобретением по сравнению с составом, содержащим фото- инициатор в соответствии с прототипом.
Приготовили фотоотверждаемый состав аналогично примеру 2.
Этот состав порци ми смешивали с 0,3% в расчете на содержание твердых частиц титаноцена. Все операции проводили при красном свете.
Пробы, смешанные с инициатором, на- нос или толщиной высушенного сло 30/гм на Алюминиевую пленку толщиной 200 . Растворитель удал ли нагреванием до 60°С в течение 15 мин в конвекционной сушильной камере. На пленку накладывали полиэфирную пленку толщиной 76 мм и на нее накладывали стандартизованный тестовый негатив с 21 ступен ми различной оптической плотности (клин Штауфера). Пробу покрывали второй УФ-прозрачной пленкой и с помощью вакуума нажимали на металлическую пластину. Пробу затем освещали ме- тал логалогенидной лампой мощностью 5 кфт на рассто нии 30 см в течение первого р /|а тестов 10 с, во втором р де тестов 20 с, а в третьем р де тестов 30 с. После освещени пленки и маску удал ли, освещенный слой про вл ли в ультразвуковой ваНне4 мин про вителем А (сортав которого описан в примере 1) при 23 С и затем высушивали . Чувствительность примен емой системы инициаторов характеризовали пу- тем указани последней неклейко изображенной ступени клина. Чем выше число ступеней, тем выше чувствительность ини- циеНгора, при этом повышение числа ступеней на 2 означает приблизительно удвоение скорости отверждени . Результаты приведены в табл.10.
Соединение в соответствии с прототипом .
Пример 11. Приготовили фотоотвер- ждаемый состав аналогично примеру 6 и изучили порции этого состава, смешанные с фотЪинициатором, примен емым в равных количествах. Освещение проводили в течение 5,10 и 20 с. Результаты приведены в таб ..
Формул а иэо бретени 1 .Фотополимеризующийс состав. включающий:
а) нелетучее, мономерное, олигомерное
или полимерное соединение с по меньшей
мере одной полимеризующейс этиленово
ненасыщенной двойной св зью и б) фотоинициатор-титаноцен , отличающийс
тем, что, с целью повышени скорости отверждени . он содержит в качестве фотоинициатора-титаноцена соединение общей
формулы. Kt
Claims (2)
- I15,где оба заместител RI независимо друг 6т друга означают в соответстЁующем случае замещенный одно- или двукратно метилом или триметилсилилом циклопентадиенил;R2 - фенил, замещенный в обоих орто- положени х к св зи титан-углерод фтором и в метаположении остатком общей формулыч ,JY- c/R,з I 1Лбгде Ra -Re независимо друг от друга водород , С1-С7-ЗЛКИЛ, алкоксиалкил, фенил,2-фурйл, С2-С4-алкенил, тринизший акилсилил , дйметиламинбтмётйл, бис(метоксиэтил )аминометил или морфолинометил,, причем а) содержитс в количестве 100 мас.ч., б) в количестве 0,02-8,0 мас.ч.
- 2.Состав по п.1, отличающийс тем, что он дополнительнб содержит фотоинициатор в) 1-2 мас.ч. бензилкеталь или смеси 1:1 а-гидроксициклогексилфенилке- тона и бензофенона.Таблица 1Продолжение табл. 1Продолжение табл. 1:- V .-: . . VТаб лица 2F frПродолжение табл. 2Таблица 3гчт|VLF RJ-Та блица 4Таблица 5Таблица 6Таблица 7Т а б л и ц а 8Изучение соединениТаблица 9F RТаблица 10Таблица 11
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH468387 | 1987-12-01 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU1792538C true RU1792538C (ru) | 1993-01-30 |
Family
ID=4280676
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU894614056A RU1792538C (ru) | 1987-12-01 | 1989-05-18 | Фотополимеризующийс состав |
SU915001952A RU2086555C1 (ru) | 1987-12-01 | 1991-11-14 | Титаноцены |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU915001952A RU2086555C1 (ru) | 1987-12-01 | 1991-11-14 | Титаноцены |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5008302A (ru) |
EP (1) | EP0318894B1 (ru) |
JP (1) | JP2764288B2 (ru) |
KR (1) | KR0120391B1 (ru) |
AT (1) | ATE101613T1 (ru) |
AU (1) | AU610953B2 (ru) |
BR (1) | BR8806307A (ru) |
CA (1) | CA1337765C (ru) |
DE (1) | DE3887837D1 (ru) |
HK (1) | HK103296A (ru) |
MX (1) | MX173654B (ru) |
RU (2) | RU1792538C (ru) |
SU (1) | SU1713438A3 (ru) |
ZA (1) | ZA888961B (ru) |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4857654A (en) * | 1986-08-01 | 1989-08-15 | Ciba-Geigy Corporation | Titanocenes and their use |
US4954885A (en) * | 1987-02-25 | 1990-09-04 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Filter for separating luminance and chrominance signals from composite color television signal |
US5068371A (en) * | 1989-06-01 | 1991-11-26 | Ciba-Geigy Corporation | Novel nitrogen-containing titanocenes, and the use thereof |
US5075467A (en) * | 1989-06-01 | 1991-12-24 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of titanocenes containing o,o'-difluoroaryl ligands |
DE59007807D1 (de) * | 1989-06-01 | 1995-01-12 | Ciba Geigy Ag | Neue sauerstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung. |
IT1237084B (it) * | 1989-10-03 | 1993-05-18 | Chimia Prodotti E Processi Srl | Sensibilizzazione di composti metallorganici per la polimerizzazione radicalica fotocatalizzata e stabilizzazione dei preparati. |
DE4007428A1 (de) * | 1990-03-09 | 1991-09-12 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE69210846T2 (de) * | 1991-01-29 | 1996-10-02 | Nat Starch Chem Invest | Photopolymerisierbare Zusammensetzungen |
US5087790A (en) * | 1991-06-12 | 1992-02-11 | University Of Southern California | Method for olefination of carbonyl compounds using titanocene derivatives |
TW237456B (ru) * | 1992-04-09 | 1995-01-01 | Ciba Geigy | |
US5499127A (en) * | 1992-05-25 | 1996-03-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having a larger gap between the substrates in the display area than in the sealant area |
AT401520B (de) * | 1994-03-22 | 1996-09-25 | Danubia Petrochem Polymere | Metallocene und deren einsatz für die olefinpolymerisation |
DE4418645C1 (de) | 1994-05-27 | 1995-12-14 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial |
JP3478630B2 (ja) * | 1995-02-09 | 2003-12-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
US5731363A (en) * | 1995-03-20 | 1998-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photopolymerizable composition containing sensitizing dye and titanocene compound |
EP0780731B1 (en) | 1995-12-22 | 2002-04-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device |
US5939148A (en) * | 1996-09-13 | 1999-08-17 | Kansai Paint Co., Ltd. | Visible laser-curable composition |
CN1052485C (zh) * | 1997-09-03 | 2000-05-17 | 中国石油化工总公司 | 茂金属钛化合物 |
CA2353685A1 (en) * | 1998-09-28 | 2000-04-06 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Chelates comprising chinoid groups as photoinitiators |
JP4130030B2 (ja) | 1999-03-09 | 2008-08-06 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物 |
DE19961355A1 (de) | 1999-12-17 | 2001-06-21 | S & C Polymer Silicon & Compos | Photoinitiatorsystem mit Titanocen-Initiatoren |
US6936384B2 (en) | 2002-08-01 | 2005-08-30 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive composition containing a metallocene derivative |
DE10255663B4 (de) * | 2002-11-28 | 2006-05-04 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente |
DE10255667B4 (de) * | 2002-11-28 | 2006-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente mit ausgezeichneter Lagerbeständigkeit |
JP2005300908A (ja) | 2004-04-12 | 2005-10-27 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料 |
CN100541327C (zh) * | 2004-05-21 | 2009-09-16 | 明德国际仓储贸易(上海)有限公司 | 液晶显示元件散乱层光阻组成物 |
JP4452572B2 (ja) | 2004-07-06 | 2010-04-21 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法 |
JP5089866B2 (ja) | 2004-09-10 | 2012-12-05 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
JP5102454B2 (ja) | 2006-03-03 | 2012-12-19 | 富士フイルム株式会社 | チタノセン系化合物、感光性組成物、及び感光性転写シート |
CN101679555B (zh) | 2007-05-23 | 2012-05-23 | 昭和电工株式会社 | 具有醚键的反应性氨基甲酸酯化合物、固化性组合物及固化物 |
JP4890408B2 (ja) | 2007-09-28 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法 |
US8507726B2 (en) | 2008-11-03 | 2013-08-13 | Basf Se | Photoinitiator mixtures |
JP5374403B2 (ja) | 2009-02-13 | 2013-12-25 | 三菱製紙株式会社 | 感光性平版印刷版材料 |
US20100227269A1 (en) | 2009-03-04 | 2010-09-09 | Simpson Christopher D | Imageable elements with colorants |
US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
CN102584904A (zh) * | 2011-08-03 | 2012-07-18 | 湖北固润科技股份有限公司 | 光引发剂gr-fmt的生产方法 |
CN107340688B (zh) * | 2016-04-29 | 2022-05-06 | 东友精细化工有限公司 | 硬掩模用组合物 |
TWI766073B (zh) | 2017-07-21 | 2022-06-01 | 台橡股份有限公司 | 用於製備發泡體的組合物、發泡體以及包含該發泡體的鞋體 |
US10465029B2 (en) * | 2018-02-02 | 2019-11-05 | Pacific Light & Hologram, Inc. | Photosensitive resin and manufacturing method thereof |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4590287A (en) * | 1983-02-11 | 1986-05-20 | Ciba-Geigy Corporation | Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same |
US4548891A (en) * | 1983-02-11 | 1985-10-22 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing prepolymers with olefin double bonds and titanium metallocene photoinitiators |
US4713401A (en) * | 1984-12-20 | 1987-12-15 | Martin Riediker | Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes |
GB8515475D0 (en) * | 1985-06-19 | 1985-07-24 | Ciba Geigy Ag | Forming images |
KR910000199B1 (ko) * | 1986-04-15 | 1991-01-23 | 시바-가이기 코오포레이숀 | 액체 광개시제 혼합물 |
US4849320A (en) * | 1986-05-10 | 1989-07-18 | Ciba-Geigy Corporation | Method of forming images |
DE3768919D1 (en) * | 1986-11-26 | 1991-05-02 | Ciba Geigy Ag | Fluessige photoinitiatorgemische. |
-
1988
- 1988-11-21 US US07/273,522 patent/US5008302A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-28 EP EP88119799A patent/EP0318894B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-28 AT AT88119799T patent/ATE101613T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-11-28 DE DE88119799T patent/DE3887837D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-29 CA CA000584482A patent/CA1337765C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-30 ZA ZA888961A patent/ZA888961B/xx unknown
- 1988-11-30 SU SU884356932A patent/SU1713438A3/ru active
- 1988-11-30 BR BR888806307A patent/BR8806307A/pt not_active IP Right Cessation
- 1988-11-30 MX MX013996A patent/MX173654B/es unknown
- 1988-12-01 JP JP63305137A patent/JP2764288B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-01 AU AU26462/88A patent/AU610953B2/en not_active Ceased
- 1988-12-01 KR KR1019880016124A patent/KR0120391B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-05-18 RU SU894614056A patent/RU1792538C/ru active
-
1990
- 1990-08-14 US US07/567,048 patent/US5106722A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-11-14 RU SU915001952A patent/RU2086555C1/ru not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-06-13 HK HK103296A patent/HK103296A/xx not_active IP Right Cessation
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Европейский патент № 0122223, кл.603С1/68,1984. * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1337765C (en) | 1995-12-19 |
BR8806307A (pt) | 1989-08-15 |
EP0318894A2 (de) | 1989-06-07 |
EP0318894A3 (en) | 1990-05-16 |
US5008302A (en) | 1991-04-16 |
RU2086555C1 (ru) | 1997-08-10 |
EP0318894B1 (de) | 1994-02-16 |
KR890009954A (ko) | 1989-08-05 |
MX173654B (es) | 1994-03-22 |
JPH02291A (ja) | 1990-01-05 |
ATE101613T1 (de) | 1994-03-15 |
SU1713438A3 (ru) | 1992-02-15 |
MX13996A (es) | 1993-10-01 |
US5106722A (en) | 1992-04-21 |
ZA888961B (en) | 1989-07-26 |
AU2646288A (en) | 1989-06-01 |
JP2764288B2 (ja) | 1998-06-11 |
DE3887837D1 (de) | 1994-03-24 |
HK103296A (en) | 1996-06-21 |
AU610953B2 (en) | 1991-05-30 |
KR0120391B1 (ko) | 1997-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU1792538C (ru) | Фотополимеризующийс состав | |
KR960016468B1 (ko) | 중합성 화합물 | |
US4983498A (en) | Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom | |
US4410621A (en) | Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan | |
US4780393A (en) | Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same | |
US4351893A (en) | Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions | |
US3765898A (en) | Photopolymerizable copying composition and copying material produced therewith | |
SU438204A1 (ru) | Фотополимеризующа с копировальна композици | |
JPH0697339B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
US4168982A (en) | Photopolymerizable compositions containing nitroso dimers to selectively inhibit thermal polymerization | |
US3926643A (en) | Photopolymerizable compositions comprising initiator combinations comprising thioxanthenones | |
US5066564A (en) | Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom | |
JPH0766185B2 (ja) | 感光性組成物 | |
US4987055A (en) | Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups, and a recording material produced therefrom | |
KR100187787B1 (ko) | 광중합성 혼합물 및 이로부터 제조된 기록물질 | |
CA1329043C (en) | Photopolymerizable composition | |
JPH02226148A (ja) | 光重合性混合物及びそれを含む光重合性複写材料 | |
JPH08114917A (ja) | 写真画像形成の可能な液状レジスト | |
JPS6212801B2 (ru) | ||
JPH0635189A (ja) | 光重合性混合物およびそれから調製される記録材料 | |
JPS5810737A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
US5043249A (en) | Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups and a recording material produced therefrom | |
US4029505A (en) | Method of producing positive polymer images | |
US4985341A (en) | Photopolymerizable mixture, and a recording material produced therefrom | |
US4894314A (en) | Photoinitiator composition containing bis ketocoumarin dialkylamino benzoate, camphorquinone and/or a triphenylimidazolyl dimer |