JP2764288B2 - チタノセン、それらの使用方法及びn−置換ピロール - Google Patents

チタノセン、それらの使用方法及びn−置換ピロール

Info

Publication number
JP2764288B2
JP2764288B2 JP63305137A JP30513788A JP2764288B2 JP 2764288 B2 JP2764288 B2 JP 2764288B2 JP 63305137 A JP63305137 A JP 63305137A JP 30513788 A JP30513788 A JP 30513788A JP 2764288 B2 JP2764288 B2 JP 2764288B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
bis
formula
phenyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63305137A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02291A (ja
Inventor
ヒュスラー リナルド
クリンゲルト ベルント
レムボルト マンフレート
スタイナー エギンハルト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Schweiz AG
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG filed Critical Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Publication of JPH02291A publication Critical patent/JPH02291A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2764288B2 publication Critical patent/JP2764288B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/325Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals directly attached to the ring nitrogen atom
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/33Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/333Radicals substituted by oxygen or sulfur atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/33Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/335Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D405/00Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
    • C07D405/02Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
    • C07D405/04Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F17/00Metallocenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/0803Compounds with Si-C or Si-Si linkages
    • C07F7/081Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
    • C07F7/0812Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
    • C07F7/0814Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring said ring is substituted at a C ring atom by Si
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/28Titanium compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/12Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121Nitrogen in heterocyclic ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/148Light sensitive titanium compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Dental Preparations (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明はフッ素化され及びピロール置換された芳香族
基を含むチタノセン、これらチタノセンを光開始剤とし
て含むエチレン性不飽和化合物からなる光重合性組成
物、この組成物で被覆された基材、この被覆基材を用い
る写真レリーフ画像の形成方法、及びフルオロ芳香族置
換ピロールに関する。
<従来の技術、発明が解決しようとする課題> ヨーロッパ特許出願明細書EP−A−0,122,223には、
フルオロアリール配位子を含むチタノセンは優れた光開
始剤であることが開示されている。これらチタノセンの
フルオロアリール配位子は複素環式脂肪族基により置換
されていてもよい。複素芳香族基(heteroaryl radical
s)による置換は述べられていない。
<課題を解決するための手段> 本発明は次式I 〔式中、 両R1基は互に独立してシクロペンタジエニル 、イン
デニル 又は4,5,6,7−テトラヒドロインデニル (そ
れらおのおのは置換されていないか又は炭素原子数1な
いし18のアルキルもしくはアルコキシ基、炭素原子数2
ないし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシク
ロアルキル基、炭素原子数6ないし16のアリール基、炭
素原子数7ないし16のアルアルキル基、▲SiR4 3▼、▲G
eR4 3▼、シアノ基又はハロゲン原子でモノーもしくはポ
リ置換されている)を表わすか、或は 両R1は一緒になって、非置換の又は上記の如く置換さ
れた次式II {式II中、XはCH2 (nは1,2又は3を表わす)、
非置換のもしくはフェニル基で置換された炭素原子数2
ないし12のアルキリデン基、環炭素原子数5ないし7の
シクロアルキリデン基、▲SiR4 2▼ ▲SiR4 2▼−O−▲
SiR4 2▼、▲GeR4 2▼又は▲SnR4 2▼を表わす}で表わさ
れる基を表わし、 R4は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
5ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし16
のアリール基又は炭素原子数7ないし16のアルアルキル
基を表わし、 R2は6員炭素環式又は5−もしくは6−員複素環式芳
香族環(チタン−炭素結合に対する二つのオルト位の少
くとも一方がフッ素原子で置換されており、また芳香族
環は更に置換基を含んでいてもよい)を表わし、 R3は独立してR2で定義された意味を表わすか或は R2とR3は一緒になって次式III −Q−Y−Q− (III) {式III中、 Qは炭素環式芳香族環(Y基に対するオルト−位のお
のおの二つの結合があり、チタン−炭素結合に対する第
二オルト位は各場合フッ素原子で置換されており、また
Qは更に置換基を含んでいてもよい)を表わし、 YはCH2、炭素原子数2ないし12のアルキリデン基、
環炭素原子数5ないし7のシクロアルキリデン基、N
R4、O、S、SO、SO2、CO、▲SiR4 2▼、▲Ge4 2▼又は▲
SnR4 2▼を表わし、そして R4は上記で定義した意味を表わす} で表わされる基を表わし、そのチタノセン中、R2及びR3
は次式IV {式IV中、 R5,R6,R7及びR8は互に独立して水素原子、線状もしく
は枝分れ状炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原
子数2ないし5のアルケニル基、炭素原子数7ないし9
のアルアルキルもしくはアルカリール基、炭素原子数8
ないし10のアルカラルキル基、炭素原子数6ないし10の
アリール基、2−フリル基、炭素原子数5ないし8のシ
クロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケ
ニル基、炭素原子数2ないし12のアルカノイル基又は炭
素原子数2ないし12のアルコキシカルボニル基(それら
のおのおのは置換されていないか又は炭素原子数2ない
し8のジアルキルアミノもしくは−アミノメチル基、ビ
ス−〔2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)エチ
ル〕−アミノもしくは−アミノメチル基、モルホリノ
基、モルホリニルメチル基、ピペリジノ基、ピペリジニ
ルメチル基、N−メチルピペラジノ基、N−メチルピペ
ラジニルメチル基、ピロリジノ基、ピロリジニルメチル
基、第四炭素原子数3ないし10のトリアルキルアンモニ
ウムもしくは−アンモニウムメチル基、炭素原子数1な
いし12のアルコキシ基、OCH2CH2 lO−炭素原子数1
ないし16のアルキル基<lは1ないし20の数を表わす
>、1,3−ジオキソラン−2−イル基、4−メチル−1,3
−ジオキソラン−2−イル基、−OCH2CH2O−、炭素原子
数1ないし12のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2
ないし12のアルカノイルオキシ基、炭素原子数2ないし
12のアルカノイル基、炭素原子数1ないし12のアルキル
チオ基、ハロゲン原子、シアノ基又は▲SiR4 3▼<R4
上記で定義した意味を表わす>で置換されている)を表
わすか;或は−CHO、▲SiR4 3▼又は−▲GeR4 3▼(R4
上記で定義した意味を表わす)を表わすか、或は R5とR6及び/又はR7とR8又はR6とR7は各場合において
一緒になって−(CH2−、−(CH2−、−CH=CH
=CH−CH−、−CH=CH−C(R11)=CR−、−CH2−O−
CH2−又は−CH2N(炭素原子数1ないし4のアルキル
基)CH2−(ここでR11はヒドロキシル基、炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基又は炭素原子数2ないし4のア
ルカノイルオキシ基を表わす)を表わす〕 で表わされるチタノセンに関する。
両R1基は好ましくは同一の基である。R1の適当な置換
基は次のものである:炭素原子数1ないし18、特には1
ないし12、とりわけ1ないし6の線状もしくは枝分れ状
アルキルもしくはアルコキシ基、及び炭素原子数2ない
し18、特には2ないし12、とりわけ2ないし6のアルケ
ニル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、n−ブチル基、第三ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基及び
相当するアルケニル基とアルコキシ基;環炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基、例えばシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、メチルシク
ロペンチル基及びメチルシクロヘキシル基;炭素原子数
6ないし16のアリール基及び炭素原子数7ないし16のア
ルアルキル基、例えばフェニル基、ナフチル基、ベンジ
ル基及びフェニルエチル基;シアノ基及びハロゲン原
子、特にフッ素原子、塩素原子及び臭素原子;▲SiR4 3
▼又は▲GeR4 3▼(R4は好ましくは炭素原子数1ないし
8のアルキル基、シクロヘキシル基、フェニル基又はベ
ンジル基を表わす)。アルキル基R4の例としてメチル
基、エチル基、n−及びi−プロピル基、n−、i−及
び第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基
及びオクチル基が挙げられる。
R1は5個までの、しかし特には3個までの置換基を含
んでよい。特に両R1はシクロペンタジエニル又はメチ
ルシクロペンタジエニル基である。
式II中、アルキリデン基Xは好ましくは2ないし6個
の炭素原子を含む。非置換の又はフェニル基で置換され
ていてもよいアルキリデン基、及びシクロアルキリデン
基の例としてはエチリデン基、プロピリデン基、ブチリ
デン基、ヘキシリデン基、フェニルメチレン基、ジフェ
ニルメチレン基、シクロペンチリデン基及びシクロヘキ
シリデン基が挙げられる。基X中、アルキル基R4は好ま
しくは1ないし6個の炭素原子を含み、例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基又はヘキシル基で
あり、そしてシクロアルキル基R4は好ましくはシクロペ
ンル基又はシクロヘキシル基であり、アリール基R4は好
ましくはフェニル基で、アルアルキル基R4は好ましくは
ベンジル基である。CH2 のXとしてはメチレン基
が好ましい。
6員炭素環式芳香族環及びフッ素置換環として、R2
フッ素置換インデン、インダン、フルオレン、ナフタリ
ン及び特にフェニルであってよい。複素環式芳香族及び
5−員基としてR2は好ましくは1個のヘテロ原子を含
み、そして6員環として好ましくは1もしくは2個のヘ
テロ原子を含む。両オルト−位はフッ素原子で置換され
ているのが好ましい。例として、4,6−ジフルオロイン
デン−5−イル基、5,7−ジフルオロインダン−6−イ
ル基、2,4−ジフルオロフルオレン−3−イル基、1,3−
ジフルオロナフト−2−イル基、2,6−ジフルオロフェ
ン−1−イル基、2,4−ジフルオロピリ−3−イル基、
2,4−ジフルオロフリ−3−イル基、2,4−ジフルオロチ
エン−3−イル基、2,4−ジフルオロピリジ−3−イル
基、4,6−ジフルオロピリジン−5−イル基及び3,5−ジ
フルオロピリダジン−4−イル基が挙げられる。
式IIIで表わされる基として、R2及びR3は例えば であってよい。
式III中及び上記式中、Yは好ましくはメチレン基、
エチリデン基、プロピリデン基、S又はOを表わす。R3
はR2と同じ意味を表わすのが好ましい。
好ましい具体例として、式I中のR2が2,6−ジ−フル
オロフェン−1−イル基を表わすか、又はR2とR3が一緒
になって次式 (式中、Yは上記定義の意味を表わす) で表わされる置換基を表わし、また式IVで表わされる基
によって置換され、そして更に他の置換基を含んでいて
もよい。特にはR2は1ないし3個の置換基(そのうちの
少なくとも1個は式IVで表わされる基)を含む2,6−ジ
フルオロフェン−1−イル基である。
好ましい具体例として、R2及びR3は式IVで表わされる
基と結合している2,6−ジフルオロフェン−1−イル基
であり、それは更に1ないし2個の同一又は異なる置換
基を含んでいてもよい。
式Iで表わされるメタロセンの好ましい群は、両R1
シクロペンタジエニル 又は炭素原子数1ないし4のア
ルキル基置換シクロペンタジエニル を表わし、R2及び
R3が次式V 〔式中、R5,R6,R7及びR8は上記で定義した意味を表わ
し、そしてR9及びR10は互に独立して水素原子又はフッ
素原子を表わす〕 で表わされる基を表わすものである。R6及びR10は水素
原子を表わすのが好ましい。
式V中、ピリル基は好ましくはフッ素原子に対するオ
ルト−位に結合する。R9及びR10は好ましくは水素原を
表わす。
R5,R6,R7及びR8上の置換基は炭素原子数2ないし8
の、好ましくは炭素原子数2ないし4のジアルキルアミ
ノもしくは−アミノメチル基、例えばジメチル−、ジエ
チル−、ジ−n−プロピル、ジ−n−ブチルもしくはメ
チルエチルアミノ基及び相当する−アミノメチル基;ビ
ス〔2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)エチ
ル〕アミノもしくは−アミノメチル基、例えばビス(2
−メトキシエチル)アミノアミノメチル基又はビス(2
−エトキシエチル)−アミノもしくは−アミノメチル
基;モルホリノ基;モルホリニルメチル基;ピペリジノ
基;ピペリジニルメチル基;N−メチルピペラジノ基;N−
メチルピペラジニルメチル基;ピロリジノ基;ピロリジ
ニルメチル基;第四炭素原子数3ないし10のトリアルキ
ル−、好ましくは炭素原子数3ないし6のトリアルキル
アンモニウムもしくは−アンモニウムメチル基、例えば
トリメチル−、トリエチル−、ジメチルエチル−もしく
はジメチルプロピルアンモニウム及び相当する−アンモ
ニウムメチル基;炭素原子数1ないし12の、好ましくは
炭素原子数1ないし4のアルコキシ基、例えばメトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基及びブトキシ基;OCH2
CH2 lO−炭素原子数1ないし16のアルキル基(lは好
ましくは1ないし3の数を表わす)、例えばCH3−OC
H2CH2 2;1,3−ジオキソラン−2−イル基;4−メチル−
1,3−ジオキソラン−2−イル基、−OCH2CH2−;炭素原
子数2ないし12の、好ましくは炭素原子数2ないし6の
アルコキシカルボニル基、例えばメトキシ−、エトキシ
−、プロポキシ−及びブトキシカルボニル基;炭素原子
数2ないし12の、好ましくは炭素原子数2ないし6のア
ルカノイルオキシ基、例えばアセチル−、プロピオニル
−及びブチリルオキシ基;炭素原子数2ないし12の、好
ましくは炭素原子数2ないし6のアルカノイル基、例え
ばアセチル基、プロピオニル基及びブチリル基;炭素原
子数1ないし12の、好ましくは炭素原子数1ないし6の
アルキルチオ基、例えばメチル−、エチル−、プロピル
−及びブチルチオ基;ハロゲン原子、好ましくはフッ素
原子、塩素原子及び臭素原子;シアノ基;▲SiR4 3▼(R
4好ましくは炭素原子数1ないし6のアルキル基、例え
ばブチル基、プロピル基、エチル基及び特にメチル基を
表わす)である。
置換基の中でも、炭素原子数2ないし8のジアルキル
アミノもしくは−アミノメチル基、ビス(2−メトキシ
エチル)アミノもしくは−アミノメチル基、モルホリノ
基、モルホリニルメチル基、N−メチルピペリジノ基、
N−メチルピペリジニルメチル基、炭素原子数1ないし
12のアルキルジメチルアンモニウムもしくは−アンモニ
ウムメチル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基、
OCH2CH2 lO−炭素原子数1ないし12のアルキル基
(lは1ないし3の数を表わす)、1,3−ジオキソラン
−2−イル基、−CH2CH2O−、炭素原子数2ないし8の
アルカノイルオキシ基、炭素原子数2ないし8のアルカ
ノイル基、炭素原子数1ないし8のアルコキシカルボニ
ル基、ハロゲン原子、シアノ基、ホルミル基、炭素原子
数1ないし4のアルキルチオ基及びトリメチルシリル基
からなる群より選択される置換基が好ましい。置換基の
特に好ましい基は、炭素原子数2ないし8のジアルキル
アミノもしくは−アミノメチル基、ビス(2−メトキシ
チル)アミノもしくは−アミノメチル基、モルホリノ
基、モルホニルメチル基、炭素原子数1ないし4のアル
コキシ基、1,3−ジオキソラン−2−イル基及びシアノ
基から選択される。R5,R6,R7及びR8基はモノ置換又はポ
リ置換されていてよく、モノ置換ないしトリ置換、特に
モノ置換が好ましい。好ましい具体例としてはアルキル
基R5,R6,R7及びR8のみが定義したように置換される。
アルキル基R5,R6,R7及びR8は好ましくは1ないし12
の、そして特には1ないし8個の炭素原子を含むのが好
ましい。例としてメチル基、エチル基が、及びプロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデ
シル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基及びオクタデシル基の各種異性体が挙げられる。アル
ケニル基R5,R6,R7及びR8は2ないし4個の炭素原子を含
むのが好ましい。例えばビニル基、アリル基、クロトニ
ル基、2−メチルプロペ−1−エン−1−イル基、ブテ
−1−エン−1−イル基、プテ−2−エン−2−イル
基、プテ−2−エン−1−イル基、ブテ−3−エン−1
−イルもしくは−2−イル基又はペンテ−1−エン−1
−イル基である。アリール基R5,R6,R7及びR8は特にフェ
ニルィである。アルアルキルもしくはアルカリール基
R5,R6,R7及びR8は例えばベンジル基、フェニルエチル
基、フェニルプロピル基、メチルフェニル基、エチルフ
ェニル基、プロピルフェニル基、ジメチルフェニル基及
びメチルエチルフェニル基であってよい。アルカラルキ
ル(alkaralkyl)基R5,R6,R7及び例えばメチルベンジル
基、エチルベンジル基、プロピルベンジル基−(メチル
フェニル)エチル基又はジメチルベンジル基であってよ
い。シクロアルキル及びシクロアルケニル基R5,R6,R7
びR8特にはシクロペンチル基、シクロペンテニル基、シ
クロヘキシル基又はシクロヘキセニル基である。アルカ
ノイル基R5,R6,R7及びR8は好ましくは2ないし8個の、
特には2ないし6個の炭素原子を含む。例えばアセチル
基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、
ヘキサノイル基、オクタノイル基及びドデカノイル基で
ある。炭素原子数2ないし12のアルコキシカルボニル基
R5,R6,R7及びR8は特には炭素原子数2ないし5のアルコ
キシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基又はブトキシカルボニル基である。
R5,R6,R7及びR8は▲−GeR4 3▼基及び好ましくは▲−SiR
4 3▼基であってよい。これら基中、R4は好ましくは炭素
原子数1ないし12の、特に好ましくは炭素原子数1ない
し8の、なかんずく炭素原子数1ないし4のアルキル基
である。−Si(CH3基が特に好ましい。
好ましい亜群としてR5,R6,R7及びR8は互に独立して水
素原子又は非置換のもしくは置換された炭素原子数1な
いし12のアルキル基、炭素原子数2ないし5のアルケニ
ル基、炭素原子数7もしくは8のアルアルキルもしくは
アルカリール基、フェニル基、2−フリル基、炭素原子
数5もしくは6のシクロアルキル基、炭素原子数5もし
くは6のシクロアルケニル基、炭素原子数2ないし8の
アルカノイル基、炭素原子数2ないし5のアルコキシカ
ルボニル基、−CHO又は▲SiR4 3▼(R4は炭素原子数1な
いし8のアルキル基を表わす)を表わす。
他の好ましい亜群として、R5,R6,R7及びR8は互に独立
して水素原子、又は非置換のもしくは置換された炭素原
子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数2ないし4の
アルケニル基、ベンジル基、フェニル基、2−フリル
基、炭素原子数5もしくは6のシクロアルキル基、炭素
原子数2ないし6のアルカノイル基、炭素原子数2ない
し5のアルコキシカルボニル基、−CHO又は▲SiR4 3
(R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす)を
表わす。
更に別の好ましい亜群として、R5,R6,R7及びR8は互に
独立して水素原子又は非置換のもしくは置換された炭素
原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数2ないし4
のアルケニル基、フェニル基、2−フリル基又は▲SiR4
3▼(R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わ
す)を表わす。
好ましい具体例として、式IV中のR6又はR6とR7は水素
原子を表わす。
式Iで表わされる化合物の例を幾つか以下に掲げる。
ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジチルピリ−1−イル)フェニル〕チ
タニウム、 ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(2,5−ジメチルピリ−1−イ
ル)フェニル〕チタニウム、 ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(2,5−ジメチルピリ−1−イル)フェ
ニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−イソプロピル−5−メチルピリ−1−イ
ル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(1−エチルペンチル)−5−メチルピ
リ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(2−メトキシエチル)−5−メチルピ
リ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(5−メチル−2−フェニルピリ−1−イル)
フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(2−フリル)−5−メチルピリ−1−
イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ビス(2−メチルプロペ−1−エニ
ル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−(2−メチルプロペ−
1−エニル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−(トリメチルシリル)
ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ビス(ジメチルアミノメチル)ピリ−
1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ビス(ビス(2−メトキシエチル)ア
ミノメチル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−(ジメチルアミノメチ
ル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3,4−ビス(ジメチルアミノ
メチル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−((2,5−ジメチル−3−(トリメチルアンモ
ニウムメチル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム
クロライド、 ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(2,5−ジメチル−3−(ビス(2−メ
トキシエチルアミノ)メチル)ピリ−1−イル)フェニ
ル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−(モリホリノ)メチ
ル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−((ジブチルアミノ)メチル)ピリ−1−イ
ル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−(エチルオキシ)メチ
ル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,3,5,6−テト
ラフルオロ−4−(2,5−ジメチル−3−((4−メチ
ル−1−ピペラジニル)メチル)ピリ−1−イル)フェ
ニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,3,5,6−テト
ラフルオロ−4−(2−(1−エチルペンチル)−5−
メチルピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−((ジメトキ)メチ
ル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(5−イソプロピル−2−メチル−3−
((ジエトキシ)メチル)ピリ−1−イル)フェニル〕
チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(4−メチル−1,3−ジオキソラン−2
−イル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1,1−エチレンジオキシ−エチル)ピリ−1
−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ビス(2,2−ジエトキシエチル)ピリ−
1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−メチル−3−(ジメトキシ−メチル)−
5−(2,2−ジメトキシ−エチル)ピリ−1−イル)フ
ェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−(ジエトキシ−メチ
ル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(5−メチル−2−(2,2−ジメトキシ−エチ
ル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(メチルシクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジ
フルオロ−3−(2,5−ジメチル−3−プロピルチオ−
ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)ビス
〔2,6−ジフルオロ−3−(2,5−ジメチル−3−トリメ
チルシリルピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジエトキシメチル−ピリ−1−イル)
フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−メチル−4,6−ジヒドロ−1H−フロ〔3,4
−b〕ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(4,6−ジメチル−3,5−ジヒドロ−1H−フロ
〔3,4−c〕ピリ−5−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピロ
〔3,4−b〕ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1,3,5−トリメチル−2,4,5,6−テトラヒドロ
ピロロ〔3,4−c〕ピリ−2−イル)フェニル〕チタニ
ウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1,4,5,7−テトラヒドロ−3H−ジフルオロ−
〔3,4−b:3′,4′−d〕ピリ−4−イル)フェニル〕チ
タニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,6−ジメチル−2,3,4,5,6,7−ヘキサヒドロ
−1H−ジピロロ〔3,4−b:3′−4′−d〕ピリ−4−イ
ル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(6−メチル−1,3,4,5,6,7−ヘキサヒドロフ
ロ〔3,4−b〕ピロロ〔3,4−d〕ピリ−4−イル)フェ
ニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−イソブチル−5−メチル−ピリ−1−イ
ル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(1−エチルペンチル)−5−メチルピ
リ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(シクロヘキセ−3−エニル)−5−メ
チル−ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(6−メチル−6−メトキシヘプチル)
−5−メチルピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(1,1−ジメチル−2−メトキシ−エチ
ル)−5−メチルピリ−1−イル)フェニル〕チタニウ
ム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−メチル−4−(2,5−ジメチル−3−(2−メ
チルプロペ−1−エニル)ピリ−1−イル)フェニル〕
チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−5−メチル−3−(2,5−ジメチル−3−(エトキ
シメチル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−5−クロロ−3−(5−メチル−2−(1−エチル
−ペンチル)ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,4,6−トリフ
ルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル〕−チタニウ
ム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,5,6−トリフ
ルオロ−3−(2,5−ジメチルピリ−1−イル)フェニ
ル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔4−ブロモ−2,
6−ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル〕−
チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,4,5,6−テト
ラフルオロ−3−(2,5−ジメチルピリ−1−イル)フ
ェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,4,5,6−テト
ラフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル〕−チタ
ニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔4−メチル−2,
5,6−トリフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニ
ル〕−チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジエチルピリ−1−イル)フェニル〕
−チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,5−ジメチル−3−エトキシカルボニル−
ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,3,4,5−テトラメチルピリ−1−イル)−
フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,3,5−トリメチルピリ−1−イル)−フェ
ニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,4−ジメチルピリ−1−イル)−フェニ
ル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(3,4−ジメチルピリ−1−イル)−フェニ
ル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(2,5−ジオキサヘキシル)−5−メチ
ル−ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−(2,5−ジオキサノニル)−5−メチル
−ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(4,5,6,7−テトラヒドロ−2H−イソインドー
ル−2−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2H−イソインドール−2−イル)フェニル〕
−チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1,3−ジフェニル−1H−イソインドール−2
−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1,4,5,6−テトラヒドロシクロペンタ−
〔b〕ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1,4,5,6−テトラヒドロ−2−フェニル−シ
クロペンタ〔b〕ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウ
ム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1,4,5,6−テトラヒドロ−2−メチル−シク
ロペンタ〔b〕ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウ
ム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(4,5,6,7−テトラヒドロ−1H−インドール−
1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(4,5,6,7−テトラヒドロ−2−フェニル−1H
−インドール−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(4,5,6,7−テトラヒドロ−2−メチル−1H−
インドール−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,3,4,5,6,7−ヘキアヒドロ−1H−ジ−シク
ロペンタ〔b,d〕ピリ−1−イル)フェニル〕チタニウ
ム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,3,4,5,6,7,8,9−オクタヒドロ−1H−カル
バゾール−9−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,3,4,9−テトラヒドロ−1H−カルバゾール
−9−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,3,4,9−テトラヒドロ−6−メトキシ−1H
−カルバゾール−9−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル〕チ
タニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル〕チ
タニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,3,5,6−テト
ラフルオロ−4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェ
ニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,4,6−トリフ
ルオロ−5−メチル−3−(9H−カルバゾール−9−イ
ル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,5,6−トリフ
ルオロ−3−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニ
ル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(1H−インール−1−イル)フェニル〕チタニ
ウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−メチル−1H−インドール−1−イル)フ
ェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−メトキシカルボニル−1H−インドール−
1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2−エトキシカルボニル−1H−インドール−
1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(5−ヒドロキシ−2−メチル−1H−インドー
ル−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(5−メトキシ−2−メチル−1H−インドール
−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(5−アセトキシ−2−メチル−1H−インドー
ル−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(5−ヒドロキシ−3−メチル−1H−インドー
ル−1−イル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,6−ジフルオ
ロ−3−(2,3−ジメチル−1H−インドール−1−イ
ル)フェニル〕チタニウム、 ビス(シクロペンタジエニル)ビス〔2,3,5,6−テト
ラフルオロ−4−(2,3−ジメチル−1H−インドール−
1−イル)フェニル〕チタニウム、 式Iで表わされるチタノセンは、次式VI (R1は上記で定義した意味を表わし、Zはハロゲン原
子、特に塩素原子を表わす) で表わされる化合物1モルを、1モルのLiR2及び1モル
のLiR3と、又は1モルのLi2QYQと反応させ(R2,R3及びQ
YQは上記で定義した意味を表わす)、次いでそれ自体公
知の方法で単離することによる、公知又は類似の製法に
より製造することができる。
その公知製法は例えばJ.Organometal.Chem.第2巻(1
964)第206〜212頁、J.Organometal.Chem.第4巻(196
5)第445〜446頁及びEP−A−0,122,223に記載されてい
る。
式VI(式中、Zは特に塩素原子を表わす)で表わされ
る出発化合物は公知であるか又はTiCl4とナトリムウ化
合物NaR1の反応による類似の製法により得ることができ
る。リチウム化合物LiR2及びLi2QYQは新規である。それ
は例えばブチルリチウムと式VIIで表わされる化合物を
反応させることによる、それ自体公知の製法により製造
することができる。
本発明は更に次式VII 〔式中、 Aはそのオルト位に少なくとも1個のフッ素原子、水
素原子又はハロゲン原子を含み、場合により他の置換基
を含む6員炭素環式又は5−もしくは6−員複素環式芳
香族環を表わすか、或はAは次式 (各式中、DはYに対するオルト−位において水素原子
又はハロゲン原子を表わし、QはD基に対するオルト−
位において各場合フッソ原子により置換された炭素環式
芳香族環を表わし、そしてQは更に置換基を含んでいて
よい)を表わし、 Y,R5,R6,R7及びR8は請求項1で定義した意味を表わ
す〕 で表わされる化合物〔但し、3,4−ジメチル−1−(ペ
ンタ−フルオロフェニル)ピロールを除く〕に関する。
R2又は一緒になったR2とR3として及び式IVで表わされ
る基として上記したような具体例及び好ましいものが、
A,R5,R6,R7,R8、Q及びYにもあてはまる。
6員炭素環式又は5−もしくは6−員複素環式芳香族
環として、基Aは更に他のフッ素原子を、水素原子又は
ハロゲン原子に対するオルト−位に含む。ハロゲン原子
は好ましくはフッ素原子、塩素原子又は臭素原子から選
択される。芳香族環はフェニル環であるのが好ましい。
特に、フッ素原子に対する又はYに対するオルト−位に
水素原子が結合する。ピロール環はフッ素原子に対する
オルト−位に結合するのが好ましい。そのような化合物
中のフッ素原子に隣接する水素原子は驚ろくべきことに
リチウムによって直接置換され得ることが発見された。
化合物の好ましい基は次式VII a (式中、R9及びR10は互に独立して水素原子又はフッ素
原子、特には水素原子を表わし、R5,R6,R7及びR8は上記
で定義した意味を表わす) で表わされる。ピロール基は好ましくはフッ素原子に対
するオルト−位に結合する。
式VIIで表わされる化合物はそれ自体公知の方法で製
造することができる。3,4−ジメチル−1−(ペンタフ
ルオロフェニル)ピロールはU.JgerらによるChem.Be
r.第119巻、第3405〜3410(1986年)に記載されてい
る。一般的な製造可能性は、式A−NH2で表わされるア
ミンと非置換のもしくは置換された1,4−ジケトン、1,4
−ジアルデヒド又は1,4−ケトアルデヒドとの反応(パ
ール−クノール合成:Paal−Knorrsynthesis)である。
この反応は例えばComprehensive Organic Chemistry第
4巻、第299頁及びJ.Chem.Soc第1952巻、1467頁に記載
されてる。そのアミン及びジケトン及びジアルデヒドは
公知であり、そのうち幾つかは市販されているか又は公
知方法により製造可能である。
式VII(式中R5及びR8は水素原子を表わす)で表わさ
れる化合物もまたアミンA−NH2と非置換のもしくは置
換された2,5−ジメトキシテトラヒドロフランもしくは
2,5−ジアセトキシテトラヒドロフランとの反応により
得られる(G.Stefacichら、Farmaco Ed.Sc.第40巻、第2
37〜238頁(1985年)及びHouben−Weyl.第6/3巻、第730
頁参照)。
アミンA−NH2から得られる式VIIで表わされる化合物
の他の合成法は、2,2′−(エタン−1,2−ジイル)ビス
−1,3−ジオキソランとの反応、2−アルキン−1,4−ジ
オールとの反応、又はα−ハロケトン及びβ−ハロケト
ンとの反応(ハンチの合成:Hantzsch synthesis)であ
る(Comprehensive Organic Chemistry第4巻、第298頁
参照)。
インドール構造を有する式VIIで表わされる化合物は
例えばノイイ ツェスクー合成(Neuitzescu Synthesi
s)又はビシュラー合成(Bischler Synthesis)により
製造することができる(Comprehensiv Organic Chemist
ry)第4巻、第461及び462頁)。イソインドール構造を
有する式VIIで表わされる化合物は例えば相当するフタ
ルイミドから錯体金属水素化物を用いる還元により製造
することができる(Houben−Weyl第4/Id巻、第258
頁)。カルバゾール構造を有する式VIIで表わされる化
合物は例えばダンロップ及びタッカー法(the method o
f Dunlop and Tucker)により製造することができる
(J.Chem.Soc.第1939巻、第1945頁)。
続いて、式VIIで表わされる非置換のもしくは部分的
に置換されたピロール誘導体に置換基を導入することが
できる。シリル基はシリル トリフルオロメタンスルホ
ネートを用いて導入できる〔G.Simchen.Tetrahedron第4
2巻第5号、第1299頁(1986年)。〕更に、ホルミル化
はPOCl3/DMFによって行なうことができる(G.F.Smith、
J.Chem.Soc.第1954巻、第3842頁)。アシル化はROCl又
は(RCO)2OとAlCl3によって行なうことができる〔J.Ro
ckachら、Tetrahedron Lettera第22巻、第4901頁(1981
年)及びM.Kakushimaら、J.Org.Chem.第48巻、第3214頁
(1983年)参照〕。ホルミル基又はアシル基は本発明内
容からして更に誘導させることができ、例えば炭素原子
数2ないし5のアルケニル基をウィティッヒ反応(Witt
igreaction)により形成されることができる。
式Iで表わされるメタロセンは一般的に、不活性溶媒
例えば炭化水素又はエーテルの存在下、−30ないし−10
0℃好ましくは−60ないし−90℃の温度で、及び保護ガ
ス雰囲気下で製造される。製法の一具体例として、LiR2
又はLiR3を、適当なハロゲン化物とブチルリチウムを、
溶媒としてのエーテル例えばテトラヒドロフラン中、−
78℃あたりの温度で反応させることにより最初に製造す
る。次いでその冷却した反応混合物中に適当なチタノセ
ンジハライドを加え、冷却を止め、その混合物を室温ま
で温たまるようにする。次いで反応混合物を濾過し、適
当ならば溶媒を加えた後、沈殿又は溶媒蒸発により、溶
液から本発明のチタノセンが単離される。
該化合物は一般的に結晶性でまた通常橙色であり、そ
して高い熱的安定性により特徴づけられ、高温でのみ分
解する。空気の作用下又は水の作用下で分解は観察され
ない。該化合物はたとえ相対的に多量であっても硬化性
組成物中に溶解することができ、それ故価値のある応用
特性を提供する。該化合物はまた溶媒中に容易に溶かす
ことができ、硬化性組成物中に溶液の形態で、望むなら
溶媒を除いた後に混入させることができる。
該化合物は暗所中で長い貯蔵寿命を有し、保護ガス無
しで取り扱うことができる。それらはエチレン性不飽和
化合物の光誘導重合のための非常に効果的な光開始剤と
してそれら自身としても適している。この応用におい
て、それらは非常に高い感光性及び約200nm(紫外光)
ないし約600nmの広範な波長にわたる活性によって特徴
づけられる。チタノセンはまた熱の影響下でも効果的に
重合を開始させることができ、この場合170゜ないし240
℃に加温するのが好都合である。もちろん、重合のため
に光作用と加温を用いることも可能であり、この場合重
合のための暴露後の加温は低温度、例えば80〜150℃で
あってよい。驚ろくべきことにその感光性はピロリジン
誘導体の場合よりも高い。
更に本発明は(a)少なくとも一つの重合性エチレン
性不飽和二重結合を含む少なくとも1種の非揮発性のモ
ノマー、オリゴマー又はポリマー化合物と(b)光開始
剤としての少なくとも1種の式Iで表わされる化合物を
含む光重合性組成物に関する。
本組成物は(b)の他に更に別の光開始剤(c)、例
えばベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフェノン、ベ
ンジルケタール、4−アロイル−1,3−ジオキソラン、
ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ−もしく
はα−アミノアセトフェノン又はα−ヒドロキシシクロ
アルキルフェニルケトン類、或はそれらの混合物を含ん
でもよい。その利点は、本発明のチタノセンの使用量を
より少なくすることができ、またそれにも拘わらず同等
もしくは改良された感光性が達せられることである。こ
れら成分の重量非(c):(b)は例えば1:1ないし30:
1であってよく、5:1ないし15:1が好ましい。
本発明のチタノセンの添加量は実質上、経済的な観
点、それらの溶解性及び所望の感光性に依存する。一般
的に成分(a)に基づいて0.01〜20重量%、好ましくは
0.05〜10重量%、そして特には0.1〜5重量%が用いら
れる。
成分(a)として、光重合により反応し、高分子量化
合物を生じる同時に溶解性が改変するエチレン性不飽和
モノマー、オリゴマー及びポリマー化合物が適当であ
る。
特に適しているのは例えばエチレン性不飽和カルボン
酸とポリオールもいくはポリエポキシドとのエステル、
エチレン性不飽和基を鎖中に又はその側基中に含んでい
るポリマー例えば不飽和ポリエステル、ポリアミド及び
ポリウレタン及びそれらのコポリマー、ポリブタジエン
及びブタジエンコポリマー、ポリイソプレン及びイソプ
レンコポリマー、側鎖中に(メタ)アクリル基を含むポ
リマー及びコポリマー、及びそのようなポリマーの1種
又はそれ以上の混合物である。
不飽和カルボン酸の例として、アクリル酸、メタクリ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸及び不飽和脂
肪酸、例えばリノレン酸及びオレイン酸が挙げられる。
アクリル酸及びメタクリル酸が好ましい。
適当なポリオールは芳香族及び、特に脂肪族及び環式
脂肪族ポリオールである。芳香族ポリオールの例として
ヒドロキノン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル、2,2−
ジ(4−ヒドロキシフェニル)プロパンならびにノボラ
ック及びレゾールが挙げられる。ポリエポキシドの例
は、上記ポリオールを、特には芳香族ポリオール及びエ
ピクロロヒドリンをベースとするものである。
また他の適当なポリオールは、ポリマー鎖中に又はそ
の側基中にヒドロキシル基を含むポリマーもしくはコポ
リマーであり、例えばポリビニルアルコール及びそれら
のコポリマー又はヒドロキシアルキルポリメタクリレー
トもしくはそれらのコポリマーが挙げられる。他の適当
なポリオールはヒドロキシル末端基を含むオリゴマーで
ある。
脂肪族及び環式脂肪族ポリオールの例として、好まし
くは炭素原子数2ないし12のアルキレンジオール、例え
ばエチレングリコール、1,2−もしくは1,3−プロパンジ
オール、1,2−、1,3−もしくは1,4−ブタンジオール、
ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジオー
ル、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、好ましくは200ないし1500の分子量
を持つポリエチレングリコール、1,3−シクロペンタン
ジオール、1,2−、1,3−もしくは1,4−シクロヘキサン
ジオール、1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサング
リセロール、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、
トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペン
タエリトリトール、ジペンタエリトリトール及びソルビ
トールが挙げられる。
ポリオールは1種又は種々の不飽和カルボン酸で部分
的に又は完全にエステル化されていてよく、部分エステ
ル中の遊離ヒドロキシル基にとって変性されること、例
えばエーテル化又は他のカルボン酸でのエステル化は可
能である。
エステルの例として、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、テトラメチレ
ングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコー
ルジメタクリレート、テトラエチングリコールジアクリ
レート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタ
エリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアク
リレート、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、
ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジペンタ
エリトリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリト
リトールオクタアクチレート、ペンタエリトリトールジ
メタクリレート、ペンタエリトリトールトリメタクリレ
ート、ジペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペ
ンタエリトリトールテトラメタクリレート、トリペンタ
エリトリトールオクタメタクリレート、ペンタエリトリ
トールジイタコネート、ジペンタエリトリトールトリシ
タコネート、ジペンタエリトリトールペンタイタコネー
ト、ジペンタエリトリトールヘキサイタコネート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオー
ルジアクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレ
ート、1,4−ブタンジオールジイタコネート、ソルビト
ールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクレリレ
ート、ペンタエリトリトール変性トリアクリレート、ソ
ルビトールテトラメタクリレート、ソルビトールペンタ
アクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、オリ
ゴエステルアクリレート及びメタクリレート、グリセロ
ールジアクリレート及びトリアクリレート、1,4−シク
ロヘキサンジアクリレート、200ないし1500の分子量を
持つポリエチレングリコールのビスアクリレート及びビ
スメタクリレート、又はそれらの混合物が挙げられる。
好ましくは2ないし6、特には2ないし4個のアミノ
基を有する芳香族、環式脂肪族及び脂肪族ポリアミンの
同一又は異なる不飽和カルボン酸のアミドもまた成分
(a)として適当である。そのようなポリアミンの例と
してエチレンジアミン、1,2−もしくは1,3−プロピレン
ジアミン、1,2−、1,3−もしくは1,4−ブチレンジアミ
ン、1,5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミ
ン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4−
ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニ
レンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミ
ノエチルエーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレ
ンテトラミン、ジ−(β−アミノエトキシ)−もしくは
ジ(β−アミノプロポキシ)エタンが挙げられる。他の
適当なポリアミンは側鎖にアミノ基を含むポリマー及び
コポリマーならびにアミノ末端を有するオリゴマーであ
る。
このタイプの不飽和アミドの例としては、メチレンビ
スアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビスアクリル
アミド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミ
ド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エタン、β−
メタクリルアミドエチルメタクリレート及びN−〔β−
ヒドロキシエトキシ)エチル〕アクリルアミドが挙げら
れる。
適当な不飽和ポリエステル及びポリアミドは例えばマ
レイン酸とジオールもしくはジアミンから誘導される。
マレイン酸は一部他のジカルボン酸に置き代っていても
よい。それらはエチレン性不飽和コモノマー、例えばス
チレンと一緒に用いられてよい。
ポリエステル及びポリアミドはまたジカルボン酸とエ
チレン性不飽和ジオールもしくはジアミンから、特には
例えば炭素原子数6ないし20の比較的長鎖のものからも
誘導できる。ポリウレタンの例として飽和もしくは不飽
和ジイソシアネートと不飽和もしくは飽和ジオールから
作られたものが挙げられる。
ポリブタジエン及びポリイソプレンならびにそれらの
コポリマーは知られている。適当なコモノマーの例とし
てオレフィン例えばエチレン、プロペン、ブテン、ヘキ
セン、(メタ)アクリレート、アクリロニトリル、スチ
レン又は塩化ビニルが挙げられる。側鎖中に(メタ)ア
クリレート基を含むポリマーも同様に知られている。そ
れらは例えばノボラックをベースとするエポキシ樹脂と
(メタ)アクリル酸の反応生成物、(メタ)アクリル酸
でエステル化されたポリビニルアルコールのポリマーも
しくはコポリマー又はそれらのヒドロキシアルキル誘導
体、或はヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートでエ
ステル化された(メタ)アクリレートのホモポリマーも
しくはコポリマーが挙げられる。
光重合性化合物は単独で又は何らかの所望混合物で用
いられる。ポリオール(メタ)アクリレートの混合物を
使用するのが好ましい。
本発明の組成物に結合剤を加えることも可能であり、
もし光重合性組成物が液体又は粘性物質である場合は特
に好都合である。結合剤の量は総組成物に基づいて例え
ば5ないし95重量%、好ましくは10ないし90そして特に
は50ないし90重量%であってよい。結合剤の選択は、施
用面積に及びこのために要求される特性、例えば水性及
び有機溶媒系中での現像性、基材への接着性及び酸素感
受性に依存する。
適当な結合剤は例えば約5000ないし2,000,000、好ま
しくは10,000ないし1,000,000の分子量を有するポリマ
ーである。例として以下のものが挙げられる:ホモポリ
マーの及びコポリマーのアクリレート及びメタクリレー
ト、例えばメチルメタクリレート/エチルアクリレート
/メタクリル酸から製造されたコポリマー、ポリアルキ
ルメタクリレート及びポリアルキルアクリレート;セル
ロースエステル及びエーテル、例えばセルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、メチルセルロ
ース多びエチルセルロース;ポリビニルブチラール、ポ
リビニルホルマール、環化ゴム、ポリエーテル例えばポ
リエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド及びポリ
テトラヒドロフラン;ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンから製造されたコポ
リマー、塩化ビニリデンとアクリロニトリル、メチルメ
タクリレート及び酢酸ビニルとのコポリマー、ポリ酢酸
ビニル、コポリ(エチレン/酢酸ビニル)、ポリアミド
例えばポリカプロラクタム及びポリ(ヘキサメチレンア
ジパミド、及びポリエステル例えばポリ(エチレングリ
コールテレフタレート)及びポリ(ヘキサメチレングリ
コールサクシネート)。
本発明による光硬化性組成物は、例えば木、紙、セラ
ミックス、ポリエステルやセルロースアセテートフィル
ムのようなプラスチックス、並びに銅やアルミニウムの
ような金属といったいろいろな種類の物質のためにコー
ティング剤として使用するのに適しており、そこで保護
層もしくは像が光重合により施用される。本発明は更に
被覆基材(coated substrates)及びその基材上に写真
画像を適用させるための方法に関する。被覆基材はまた
ホログラム(holograms:体積/相図形)のための記録材
料としても用いることができ、その場合この目的のため
に湿式現像剤が不要であることは有利である。
その基材は液状組成物、溶液又は懸濁液を基材に施用
することにより被覆できる。溶媒の無い液状組成物が好
ましい。この場合、本発明のチタノセンを、他の光開始
剤例えばベンジルケタール、4−アロイル−1,3−ジオ
キソラン、ジアルキシアセトフェノン、α−ヒドロキシ
−もしくはα−アミノアセトフェノン、α−ヒドロキシ
シクロアルキルフェニルケトン又はそれらの混合物を含
む液状光開始剤混合物の形態で用いるのが好都合であ
る。液体ないし固体光開始剤と液体チタノセンの液状混
合物、或は液体光開始剤とシロップ状ないし固体チタノ
センの液状混合物が特に好ましい。これら混合物は施用
有利性を提供し、また暗所中での長い貯蔵寿命において
顕著である。
ベンジルケタールの例として次式で表わされるものが
挙げられる: R13=R14=−CH3 −CH2CH3 −(CH22CH3 −(CH23CH3 −CH2CH2CH(CH3 −(CH29CH3 −C10H21−イソ −C12H25−n −C9H19−ビス−C11H23(混合物) −C12H25−ビス−C15H31(混合物) −CH2CH=CH2 −CH(CH3)CH=CH2 −CH2CH2OC3H7−イソ −CH2CH2OC4H9 −CH2CH2OCH2CH=CH2 −CH(CH3)−CH2OC4H9 −CH2COOCH3 −CH2COOC4H9 −CH(CH3)COOCH3 −CH2CH2COOC2H5 −CH(CH3)CH2COOCH3 −CH2CH2CH(CH3)OCH3 −(CH2CH2O)2CH3 −(CH2CH2O)2C2H5 −(CH2CH2O)2C4H9 −(CH2CH2O)3CH3 −(CH2CH2O)3C2H5 −(CH2CH2O)3C12H25 −(CH2CH2O)5C10H21 −(CH2CH2O)8C9H19−ビス−C11H23(混
合物) −CH2CH2N(C2H5 R14=CH3,R13=C6H13 R14=CH3,R13=C10H21 R14=CH3,R13=CH2CH2O)−C12H25−ビス−C15H
31(混合物) R14=CH3,R13=CH2CH2O)−C9H19−ビス−C11H23
(混合物) 4−アロイル−1,3−ジオキソランの例は: 4−ベンゾイル−2,2,4−トリメチル−1,3−ジオキソ
ラン、 4−ベンゾイル−4−メチル−2,2−テトラメチレン
−1,3−ジオキソラン、 4−ベンゾイル−4−メチル−2,2−ペンタメチレン
−1,3−ジオキソラン、 シス−トランス4−ベンゾイル−2,4−ジメチル−2
−メトキシメチル−1,3−ジオキソラン、 シス−トランス4−ベンゾイル−4−メチル−2−フ
ェニル−1,3−ジオキソラン、 4−(4−メトキシベンゾイル)−2,2,4−トリメチ
ル−1,3−ジオキソラン、 4−(4−メトキシベンゾイル)−4−メチル−2,2
−ペンタメチレン−1,3−ジオキソラン、 4−(4−メチルベンゾイル)−2,2,4−トリメチル
−1,3−ジオキソラン、 シス−トランス4−ベンゾイル−2−メチル−4−フ
ェニル−1,3−ジオキソラン、 4−ベンゾイル−2,2,4,5,5−ペンタメチル−1,3−ジ
オキソラン、 シス−トランス4−ベゾイル−2,2,4,5−テトラメチ
ル−1,3−ジオキソラン、 シス−トランス4−ベンゾイル−4−メチル−2−ペ
ンチル−1,3−ジオキソラン、 シス−トランス4−ベンゾイル−2−ベンジル−2,4
−ジメチル−1,3−ジオキソラン、 シス−トランス4−ベンゾイル−2−(2−フリル)
−4−メチル−1,3−ジオキソラン、 シス−トランス4−ベンゾイル−5−フェニル−2,2,
4−トリメチル−1,3−ジオキソラン、 4−(4−メトキシベンゾイル)−2,2,4,5,5−ペン
タメチル−1,3−ジオキソランである。
ジアルコキシアセトフェノンの例は: α,α−ジメトキシアセトフェノン、 α,α−ジエトキシアセトフェノン、 α,α−ジ−イソプロポキシアセトフェノン、 α,α−ジ−(2−メトキシエトキシ)アセトフェノ
ン、 α,α−ブトキシ−α−エトキシアセトフェノン、 α,α−ジブトキシ−4−クロロアセトフェノン、 α,α−ジエトキシ−4−フルオロアセトフェノン、 α,α−ジメトキシ−4−メチルアセトフェノン、 α,α−ジメトキシ−4−メチルアセトフェノン、 α,α−ジメトキシプロピオフェノン、 α,α−ジエトキシプロピオフェノン、 α,α−ジエトキシブチロフェノン、 α,α−ジメトキシイソバレロフェノン、 α,α−ジエトキシ−α−クロロヘキシルアセトフェ
ノン、 α,α−ジプロポキシ−4−クロロプロピオフェノン
である。
α−ヒドロキシ−及びα−アミノアセトフェノンの例
は: 2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−プ
ロパノン、 2−ヒドロキシ−2−エチル−1−フェニル−1−ヘ
キサノン、 1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−プロパノン、 1−(2,4−ジメチルフェニル)−2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−プロパノン、 2−ヒドロキシ−1−(4−メトキシフェニル)−2
−メチル−1−プロパノン、 2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−ブ
タノン、 2−ジメチルアミノ−2−メチル−1−フェニル−1
−プロパノン、 2−ジブチルアミノ−2−メチル−1−フェニル−1
−プロパノン、 1−(4−フルオロフェニル)−2−メチル−2−モ
ルホリノ−1−ペンタノン、 2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−
モルホリノ−1−プロパノン、 2−ジメチルアミノ−1−(4−メトキシフェニル)
−2−メチル−1−プロパノン、 2−ジエチルアミノ−1−(4−ジエチルアミノフェ
ニル)−2−メチル−1−プロパノン である。
α−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケトンの例
は: α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、 α−ヒドロキシシクロペンチルフェニルケトン である。
光開始剤混合物(b)+(c)は成分(a)に基づい
て0.5〜20重量%、、好ましくは1ないし10重量%の量
で加えることができる。
溶媒及び濃度の選択は主として組成物の性質及び塗布
方法に依存する。前記組成物は、公知の塗布方法、例え
ば遠心回転塗布法、浸漬法、ドクターブレード塗布法、
カーテン塗布法、電気泳動法、刷毛塗法、噴霧法及びリ
バースロール塗布法により均一に基材に付けられる。付
着量(層厚)及び基材(層担体)の性質は所望の応用分
野に依存する。例えば、ポリエステルもしくはセルロー
スアセテートフィルム又はプラスチック被覆ペーパーは
写真情報記録のための層担体として使用される:特に処
置されたアルミニウムはオフセット印刷プレートとして
用いられ、銅被覆ラミネートはプリント回路の製造に使
用される。写真用材料及びオフセット印刷プレートのた
めの被覆厚は一般的に約0.5ないし約10μmであり、プ
リント回路用としては一般的に1ないし100μmであ
る。また溶媒が用いられる場合、それらは塗装後に除か
れる。
種々の目的のために使用される光重合性組成物は通
常、光重合性化合物及び光開始剤の他に、種々の添加剤
を多く含む。従ってしばしば慣用的に熱阻止剤(therma
l inhibitors)が添加され、それは特に各成分の混合に
よる組成物の製造中に早期重合に対して保護することを
意図している。このためにヒドロキノン、ヒドロキノン
誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトール又は
立体障害フェノール例えば2,6−ジ(第三ブチル)−p
−クレゾールが例えば使用される。更に少量のUV吸収
剤、例えばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン又はオ
キサルアニリドタイプのものを加えてもよい。立体障害
アミンタイプ(HALS)の光遮断剤を加えることも可能で
ある。
暗所中の貯蔵期間を延ばすために、銅化合物例えば銅
ナフテネート、銅ステアレート又は銅オクタネート、燐
化合物例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホス
フィン、トリエチルホスフィット、トリフェニルホスフ
ィット又はトリベンジルホスフィット、第四アンモニウ
ム化合物例えばテトラメチルアンモニウムクロライド又
はトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、或はヒ
ドロキシアミン誘導体例えばN−ジエチルヒドロキシル
アミンを加えることができる。
大気中の酸素の阻害作用を排除するために、パラフィ
ン又は類似のワックス様物質がしばしば光硬化性組成物
に加えられる。それらのポリマーへの乏しい溶解性によ
って、これら物質は重合初期に浮揚し、空気の流入を防
ぐ透明表層を形成する。
更に慣用の添加剤は、ある波長を吸収し、吸収された
エネルギーを開始剤に伝達するか、またはそれ自体が付
加的な開始剤として作用する感光剤である。それらの例
は、特にチオキサントン、アントラセン、アントラキノ
ンおよびクマリンの誘導体である。
更に慣用の添加剤は、アミンタイプの促進剤で、それ
らは連鎖移動剤として作用するので特に着色配合物に重
要である。それらの例は、N−メチルジエタノールアミ
ン、トリエチルアミン、p−ジメチルアミノ安息香酸エ
チルまたはミヒラーケトンである。アミンの作用はベン
ゾフェノンタイプの芳香族ケトンを添加することによっ
て強めることができる。他の慣用の促進剤は1,3,4−チ
アジアゾール誘導体例えば2−メルカプト−5−メチル
チオ−1,3,4−チアジアゾールである。
更に慣用の添加剤は例えば充填剤、顔料、染料、接着
剤、湿潤剤及び流れ調整剤である。
結合剤の乾燥時間が、グラフィック生成物の製造速度
に対するきわめて重要なファクターであり、何分の1秒
のオーダーにすべきであるので、光硬化は、印刷インク
のために非常に重要である。UV硬化性印刷インクは、特
にスクリーン印刷のために重要である。
本発明に係る光硬化性混合物は、印刷版、特にフレキ
ソ印刷版を製造するためにも非常に適当である。この場
合、例えば可溶性線状ポリアミド又はスチレンブタジエ
ンゴムと光重合性モノマー、例えばアクリルアミド、お
よび光開始剤との混合物が使用される。これらの系から
構成されるフィルム及びプレートは、オリジナルプリン
トのネガ(またはポジ)上で暴露され、そして未硬化部
分は、続いて溶媒で溶出する。
更に光硬化のための使用分野は、例えばチューブ、カ
ンもしくはボトルトップのための金属板の表面仕上げの
ような金属のコーティング、並びに例えばPVC基材フロ
アーもしくは壁被覆のようなプラスチックコーティング
の光硬化である。
ペーパーコーティングの光硬化の例は、ラベルの無色
ラッカー塗装、レコードスリーブまたは本のカバーであ
る。
光硬化性組成物の用途は、画像技術及び情報キャリヤ
ーの光学製法のためにも重要である。ここでキャリヤー
に施用された層(湿潤又は乾燥)は、フォトマスクを通
して短波長光を照射されて、該層の未暴露域は溶媒(=
現像液)で処理することにより除去される。暴露された
領域は、架橋されたポリマーで、従って不溶であり、キ
ャリヤー上に残っている。目に見えるイメージが適当な
色彩上に形成する。もしキャリヤーが金属層であると
き、光に暴露して現像された後、未暴露域における金属
をエッチングするかまたは金属メッキによって厚くする
ことができる。この様にして、プリント回路及びフォト
レジストを製造することができる。
適当な暴露光源は、高い短波長光含量をもつ光を照射
する。今日、適当な工業的装置及びランプの種々のタイ
プが市販されている。例えば、カーボンアークランプ、
キセノンアークランプ、水銀蒸気ランプ、金属/ハロゲ
ンランプ、螢光ランプ、アルゴン白熱ランプもしくは写
真投光照明ランプである。最近、レーザー光源もまた使
用されている。それらはフォトマスクなしでも使用でき
る:そうしてレーザービームは、光硬化性層上に直接描
く。
本発明のチタノセンは光硬化性組成物の成分と容易に
混合できるか又は組成物中に容易に溶解させることがで
き、それは感光性が高まることを可能にしている。それ
らはまた、出発物質としてのリチウムフルオロアリール
ピロールをリチウム/水素交換により得ることができる
ので、相対的に容易に入手できる。従って、フルオロア
リールピロール中に前もってハロゲン原子を導入するこ
とは不必要である。
<実施例、発明の効果> 以下、実施例により本発明を更に詳しく説明する。
A) 中間体の製造(1−アリールピロール) 実施例1〜7 2,4−ジフルオロアニリン1モル及びジケトン1モル
(第1表参照)をエタノール1中で1時間還流する。
反応が完了した時(薄層クロマトグラフィーを用いて監
視)、その混合物を真空中で充分に排気し、残渣を熱い
エタノールから再結晶する。更に詳細を第1表中に示
す。
実施例8 PCOl3/DMFを用いて実施例1の化合物1モルをホルミ
ル化する〔J.Chem.Soc.第1954巻、第3842頁〕。得られ
た生成物を、溶媒としてのテトラヒドロフラン中の(フ
ェニル)3PCH(CH3 /カリウムブトキシドと
反応させる。更に詳細を第1表中に示す。
実施例9 実施例1の化合物1モルを、Tetrahedron第42巻第5
号、第1299頁(1986年)記載の操作に従い、CF3SC3Si
(CH3と反応させる。更に詳細を第1表中に示す。
実施例10 2,4−ジフルオロアニリン129g及び2,5−ジメトキシテ
トラヒドロフラン136.1gをオートクレーブ中、260℃で
2時間加熱する。冷却後、反応生成物を水蒸気蒸留に付
す。蒸留物を石油エーテルとともに振盪することにより
抽出し、有機相を分離し、Na2SO4で乾燥し、そして真空
中で蒸発させる。短時間放置により結晶化する実質的に
無色の油状物167gが得られる。更に詳細を第1表中に示
す。
実施例11 水中の40%強のジメチルアミン18gからなる溶液(ジ
メチルアミン0.16モル)、35%強のホルマリン溶液13.7
g(ホルムアルデヒド0.16モル)及び氷酢酸15mlを1−
(2,4−ジフルオロフェニル)−2,5−ジメチルピロール
(実施例1の生成物)0.1モルに滴下して加える。得ら
れた懸濁液を、その出発物質(educt)の反応完了がク
ロマトグラフィー分析で確認されるまで室温で撹拌す
る。その混合物を希水酸化ナトリウム溶液で塩基性に
し、その生成物をエーテル中に入れ、水で洗浄する。そ
の溶液を濃縮した後に生じた粗生成物はそれ自体次の工
程に使用できるか或は短路蒸留(short−path distilla
tion)により更に精製して使用できる。更に詳細を第2
表に示す。
実施例12〜21 実施例11に記載の方法により、多数の化合物を製造し
た。使用した出発物質、モル−当量及び反応温度を第2
表中に示す。
実施例22及び23 LiAlH40.05モルを、乾燥ジエチルエーテル400ml中の
第3表に示したピロールアルデヒド(J.Chem.Soc.第195
4巻、第3842頁記載の方法によりPOCl3/DMFを用いて相当
するピロールをホルミル化することにより製造したも
の)0.2モルに加え、その懸濁液を、薄層クロマトグラ
ム中に出発物質がもはや検出されなくなるまで還流す
る。MgSO4水溶液を用いて加水分解した後、エーテル層
を乾燥し、蒸発させると相当するアルコール(ヒドロキ
シメチルピロール)が残る。これを、乾燥ジエチルエー
テル100ml中のNaH0.2モルの懸濁液と、薄層クロマトグ
ラム中にアルコールがもはや検出されなくなるまで撹拌
する。次いでヨウ化メチル0.3モルを加え、その混合物
を夜通し撹拌する。水で洗浄した後、エーテル溶液を乾
燥し蒸発させる。粗メトキシメチルピロールをカラムク
ロマトグラフィー(シリカゲル/ヘキサン/酢酸エチ
ル)で精製する。他の詳細は第3表参照。
実施例24 実施例11から得られるアミノメチルピロール0.1モル
をエタノール20ml中に溶解し、そしてヨウ化メチル0.1
モルを冷却しながら加える。30分後、沈殿塩を濾去し、
エタノールで洗浄し、エタノール中に0.14モルのC2H5ON
aを含む溶液を加える。その懸濁液を4日間還流し、次
いで水中に注ぐ。生成物をジエチルエーテルで抽出し、
シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル
9:1)により精製する。更に詳細を第3表に示す。
B) チタノセンの製造 実施例25〜35 各場合、フルオロ芳香族化合物の第4表中に特定した
量を特定溶媒にアルゴンガス下で溶解し、ブチルリチウ
ム1.6モル/ヘキサン溶液の適当量を−70℃で滴下して
加え、その混合物を−70℃で1時間以上撹拌する。続い
て既述量のチタノセンジクロライドを一度に加え、そし
て反応混合物を室温まで徐々に温め、室温で3時間以上
撹拌する。次いでその混合物を真空中で充分に蒸発さ
せ、残渣をジクロロメタンもしくはクロロホルムで抽出
し、その抽出物を濾過する。この濾液を再蒸発させ、残
った残渣を第5表に記述されているように精製する。
生成物は黄橙色ないし赤橙色である。生成物は結晶性
である。全ての生成物は暗所中で安定であり、空気に感
受性を示さない。
下記表中、Cpはシクロペンタジエニル基であり、Meは
メチル基である。クロマトグラフィー精製は、酸化アル
ミニウム(Woelm社製:neutral=Al2O3)又はシリカゲル
60(Merck社製:silicagel60=SiO2)を用いたカラムで
行なわれる。
実施例36 N−2,4−ジフルオロフェニルピロール44.7gを無水ジ
エチルエーテル750ml中に溶解し、その溶液−75℃に冷
却する。15%強のブチルリチウムのヘキサン溶液170ml
をN2下で滴下して加える。−75℃で1時間撹拌した後、
チタノセンジクロライド31.1gを加える。冷却を止め、
室温になった時、その橙色懸濁液を酢酸エチル2に入
れ、その溶液を水で3回洗浄し、Na2SO4を用いて乾燥
し、そして回転蒸発機上で蒸発させる橙色樹脂73.5gが
得られる。
その橙色樹脂をエタノール250mlと夜通し撹拌する
と、その時間中に結晶化が始まる。濾過し、小量のエタ
ノールで洗浄した後、融点165〜166℃の淡橙色結晶53.7
gが80.4%の収率で得られる。分析のために、その生成
物をエタノールから再結晶させることができる。
実施例37〜42 実施例25〜35のような操作を続けて行なう。更に詳細
を第4表と第5表に示す。
C) 使用実施例 実施例43:アクリレート混合物の光硬化 下記成分を混合することにより光硬化性組成物を製造
する。
この組成物の部分を下記表中の光開始剤もしくは開始
剤混合物の指示量と混合する。開始剤混合物は、α−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとベンゾフェノ
ンの1:1混合物からなる液体開始剤中にチタノセンを入
れた溶液である。全ての操作は赤色光又は黄色光の下で
行なう。
開始剤と混合されたサンプルを、200μmアルミニウ
ム箔(10×15cm)に150μmの厚さに塗布する。循環炉
中、60℃に15分間温めて溶媒を除去する。その液層上
に、厚さ76μmのポリエステルフィルムを置き、そして
その上に、21段階の種々の光学密度を有する標準試験ネ
ガ(Stauffer wedge)を置く。その上に第2のポリエス
テルフィルムを置き、このようにして得られたラミネー
トを金属プレートに付ける。その後サンプルを5kWメタ
ル−ハライドランプを用い30cmの距離にて、第1の試験
系列は20秒間、そして第2の試験系列では40秒間暴露す
る。暴露後、フィルムとマスクを除去し、暴露層を現像
剤Aを用い、120秒間超音波浴中で現像し、続いて循環
炉中、60℃で15分間乾燥する。使用した開始剤系の感受
性は、粘着なしに像が造られた最後のくさびを記すこと
により特徴づける。段階の数が高くなるほど系の感受性
がよい。ここで2段階の増加が2倍の硬化速度を意味す
る。
結果を第6表に示す。現像剤Aはメタケイ酸ナトリウ
ム9水和物15g、水酸化カリウム0.16g、ポリエチレング
リコール6000:3g、レブリン酸0.5g及び脱イオン水1000g
を含む。
実施例44:アクリレート混合物の光硬化 下記成分を混合することにより光硬化性組成物を製造
する。
この組成物の部分を下記表中のチタノセンの指示量と
混合する。全ての操作は赤色光又は黄色光の下で行な
う。
開始剤と混合されたサンプルを、200μmアルミニウ
ム箔(10×15cm)に200μmの厚さに塗布する。循環炉
中、60℃に15分間温めて溶媒を除去する。その液層上
に、厚さ76μmのポリエステルフィルムを置き、そのフ
ィルム上に、21段階の種々の光学密度を含んだ標準試験
ネガ(Stauffer wedge)を置く。その上に第2のポリエ
ステルフィルムを置き、このようにして得られたラミネ
ートを金属プレートに付ける。その後サンプルを5kWメ
タル−ハライドランプを用い30cmの距離にて、第1の試
験系列は20秒間、そして第2試験系列では40秒間暴露す
る。暴露後、フィルムとマスクを除去し、暴露層を現像
剤Aを用い、240秒間超音波浴中で現像し、続いて循環
炉中、60℃で15分間乾燥する。使用した開始剤系の感受
性は、粘着なしに像が造られた最後のくさびを記すこと
により特徴づける。段階の数が高くなるほど系の感受性
がよい。ここで2段階の増加が2倍の硬化速度を意味す
る。
結果を第7表に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エギンハルト スタイナー スイス国,4414 ヒュリンスドルフ,オ ーベレ ホーファッケルストラーセ 3 (56)参考文献 特開 昭59−172641(JP,A) 特開 昭59−152396(JP,A) 特開 昭61−151197(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/28

Claims (19)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次式I 〔式中、 両R1基は互に独立してシクロペンタジエニル 、インデ
    ニル 又は4,5,6,7−テトラヒドロインデニル (それ
    らおのおのは置換されていないか又は炭素原子数1ない
    し18のアルキルもしくはアルコキシ基、炭素原子数2な
    いし18のアルケニル基、炭素原子数5ないし8のシクロ
    アルキル基、炭素原子数6ないし16のアリール基、炭素
    原子数7ないし16のアルアルキル基、▲SiR4 3▼、▲GeR
    4 3▼、シアノ基又はハロゲン原子でモノーもしくはポリ
    置換されている)を表わすか、或は 両R1は一緒になって、非置換の又は上記の如く置換され
    た次式II {式II中、XはCH2 (nは1,2又は3を表わす)、
    非置換のもしくはフェニル基で置換された炭素原子数2
    ないし12のアルキリデン基、環炭素原子数5ないし7の
    シクロアルキリデン基、▲SiR4 2▼ ▲SiR4 2▼−O−▲
    SiR4 2▼、▲GeR4 2▼又は▲SnR4 2▼を表わす}で表わさ
    れる基を表わし、 R4は炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数5
    ないし12のシクロアルキル基、炭素原子数6ないし16の
    アリール基又は炭素原子数7ないし16のアルアルキル基
    を表わし、 R2は6員炭素環式又は5−もしくは6−員複素環式芳香
    族環(チタン−炭素結合に対する二つのオルト位の少く
    とも一方がフッ素原子で置換されており、また芳香族環
    は更に置換基を含んでいてもよい)を表わし、 R3は独立してR2で定義された意味を表わすか或は R2とR3は一緒になって次式III −Q−Y−Q− (III) {式III中、Qは炭素環式芳香族環を表わし、二つの結
    合の各々はY基に対してオルト位にあり、チタン−炭素
    結合に対する第二オルト位は各場合のフッソ原子で置換
    されており、またQは更に置換基を含んでいてもよく、 YはCH2、炭素原子数2ないし12のアルキリデン基、環
    炭素原子数5ないし7のシクロアルキリデン基、NR4
    O、S、SO、SO2CO、▲SiR4 2▼、▲Ge4 2▼又は▲SnR4 2
    ▼を表わし、そして R4は上記で定義した意味を表わす}で表わされる基を表
    わす。〕で表わされるチタノセンであって、該チタノセ
    ン中、 R2及びR3は次式IV {式IV中、 R5,R6,R7及びR8は互に独立して水素原子、線状もしくは
    枝分れ状炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子
    数2ないし5のアルケニル基、炭素原子数7ないし9の
    アルアルキルもしくはアルカリール基、炭素原子数8な
    いし10のアルカラルキル基、炭素原子数6ないし10のア
    リール基、2−フリル基、炭素原子数5ないし8のシク
    ロアルキル基、炭素原子数5ないし8のシクロアルケニ
    ル基、炭素原子数2ないし12のアルカノイル基又は炭素
    原子数2ないし12のアルコキシカルボニル基(それらの
    おのおのは置換されていないか又は炭素原子数2ないし
    8のジアルキルアミノもしくは−アミノメチル基、ビス
    −〔2−(炭素原子数1ないし4のアルコキシ)エチ
    ル〕−アミノもしくは−アミノメチル基、モルホリノ
    基、モルホリニルメチル基、ピペリジノ基、ピペリジニ
    ルメチル基、N−メチルピペラジノ基、N−メチルピペ
    ラジニルメチル基、ピロリジノ基、ピロリジニルメチル
    基、第四炭素原子数3ないし10のトリアルキルアンモニ
    ウムもしくは−アンモニウムメチル基、炭素原子数1な
    いし12のアルコキシ基、OCH2CH2 lO−炭素原子数1
    ないし16のアルキル基<lは1ないし20の数を表わす
    >、1,3−ジオキソラン−2−イル基、4−メチル−1,3
    −ジオキソラン−2−イル基、−OCH2CH2O−、炭素原子
    数1ないし12のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2
    ないし12のアルカノイルオキシ基、炭素原子数2ないし
    12のアルカノイル基、炭素原子数1ないし12のアルキル
    チオ基、ハロゲン原子、シアノ基又は▲SiR4 3▼<R4
    上記で定義した意味を表わす>で置換されている)を表
    わすか;或は−CHO、▲SiR4 3▼又は−▲GeR4 3▼(R4
    上記で定義した意味を表わす)を表わすか、或は R5とR6及び/又はR7とR8又はR6とR7は各場合において一
    緒になって−(CH2−、−(CH24 -、−CH=CH=CH
    =CH−、−CH=CH−C(R11)=CR−、−CH2−O−CH2
    −又は−CH2N(炭素原子数1ないし4のアルキル基)CH
    2−(ここでR11はヒドロキシル基、炭素原子数1ないし
    4のアルコキシ基又は炭素原子数2ないし4のアルカノ
    イルオキシ基を表わす)を表わす}で表わされる基で置
    換されているチタノセン。
  2. 【請求項2】R1がシクロペンタジエニル 又はメチルシ
    クロペンタジエニル である請求項1記載のチタノセ
    ン。
  3. 【請求項3】R2及びR3が同一である請求項1記載のチタ
    ノセン。
  4. 【請求項4】R2基がチタン−炭素結合に対する両オルト
    位においてフッ素原子で置換されている請求項1記載の
    チタノセン。
  5. 【請求項5】R2及びR3が式IVで表わされる基と結合して
    いる2,6−ジフルオロフェン−1−イル基を表わし、そ
    れが更に1ないし2個の同一又は異なる置換基を含んで
    いてもよい請求項1記載のチタノセン。
  6. 【請求項6】式I中、両R1がシクロペンタジエニル
    は炭素原子数1ないし4のアルキル置換基シクロペンタ
    ジエニル を表わし、そしてR2及びR3が次式V (式中、R5,R6,R7及びR8は請求項1で定義した意味を表
    わし、R9及びR10は互いに独立して水素原子又はフッ素
    原子を表わす) で表わされる基を表わす請求項5記載のチタノセン。
  7. 【請求項7】式V中、ピロール基がフッ素原子に対する
    オルト位に結合している請求項6記載のチタノセン。
  8. 【請求項8】R9及びR10が水素原子である請求項6記載
    のチタノセン。
  9. 【請求項9】R5,R6,R7及びR8が互に独立して水素原子又
    は非置換もしくは置換された炭素原子数1ないし12のア
    ルキル基、炭素原子数2ないし5のアルケニル基、炭素
    原子数7もしくは8のアルアルキルもしくはアルカリー
    ル基、フェニル基、2−フリル基、炭素原子数5もしく
    は6のシクロアルキル基、炭素原子数5もしくは6のシ
    クロアルケニル基、炭素原子数2ないし8のアルカノイ
    ル基又は炭素原子数2ないし5のアルコキシカルボニル
    基を表わすか、或はCHO又は▲SiR4 3▼(R4は炭素原子数
    1ないし8のアルキル基を表わす)を表わす請求項1記
    載のチタノセン。
  10. 【請求項10】R5,R6,R7及びR8が互に独立して水素原子
    又は非置換のもしくは置換された炭素原子数1ないし8
    のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、
    ベンジル基、フェニル基、2−フリル基、炭素原子数5
    もしくは6のシクロアルキル基、炭素原子数2ないし6
    のアルカノイル基又は炭素原子数2ないし5のアルコキ
    シカルボニル基を表わすか、或は−CHO又は▲SiR4 3
    (R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす)を
    表わす請求項9記載のチタノセン。
  11. 【請求項11】R5,R6,R7及びR8が互に独立して水素原子
    又は非置換のもしくは置換された炭素原子数1ないし8
    のアルキル基、炭素原子数2ないし4のアルケニル基、
    フェニル基又は2−フリル基を表わすか、或は▲SiR4 3
    ▼(R4は炭素原子数1ないし4のアルキル基を表わす)
    を表わす請求項9記載のチタノセン。
  12. 【請求項12】式IV中、R6又はR6とR7が水素原子を表わ
    す請求項1記載のチタノセン。
  13. 【請求項13】次式VI (式中、R1は請求項1で定義した意味を表わし、Zはハ
    ロゲン原子、特に塩素原子を表わす) で表わされる化合物1モルをLiR21モル及びLiR31モル
    と、又はLi2QYQ1モルと反応させ(ここでR2,R3及びQYQ
    は請求項1で定義した意味を表わす)、次いで式Iで表
    わされる化合物を単離することからなる請求項1記載の
    式Iで表わされるチタノセンの製造方法。
  14. 【請求項14】(a) 少なくとも1つの重合性エチレ
    ン性不飽和二重結合を含む少なくとも1種の非揮発性モ
    ノマー、オリゴマー又はポリマー化合物、及び (b) 光開始剤としての請求項1記載の式Iで表わさ
    れる少なくとも1種のチタノセン を含んでいる光重合性組成物。
  15. 【請求項15】更に(b)の他に少なくとも1種の光開
    始剤(c)が存在する請求項14記載の組成物。
  16. 【請求項16】光開始剤(c)として、ベンゾインアル
    キルエーテル、ベンゾフェノン、ベンジルケタール、4
    −アロイル−1,3−ジオキソラン、ジアルコキシアセト
    フェノン、α−ヒドロキシ−もしくはα−アミノアセト
    フェノン又はα−ヒドロキシシクロアルキルフェニルケ
    トン、或はそれらの混合物を追加の光開始剤として含む
    請求項15記載の組成物。
  17. 【請求項17】表面塗料、印刷インキ、版面、レジスト
    材料を製造するための又は画像記録材料としての請求項
    14記載の組成物の使用方法。
  18. 【請求項18】少なくとも一つの重合性エチレン性不飽
    和二重結合を含む非揮発性のモノマー、オリゴマー又は
    ポリマー化合物の光重合用光開始剤として請求項1記載
    の式Iで表わされるチタノセンを単独で又は他の開始剤
    とともに使用する方法。
  19. 【請求項19】ベンゾインアルキルエーテル、ベンゾフ
    ェノン、ベンジルケタール、4−アロイル−1,3−ジオ
    キソラン、ジアルコキシアセトフェノン、α−ヒドロキ
    シアセトフェノン、α−ヒドロキシシクロアルキルフェ
    ニルケトン、α−アミノアセトフェノン類又はそれらの
    混合物の光開始剤と、請求項1記載の式Iで表わされる
    チタノセンを含む光開始剤混合物。
JP63305137A 1987-12-01 1988-12-01 チタノセン、それらの使用方法及びn−置換ピロール Expired - Lifetime JP2764288B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH4683/87-7 1987-12-01
CH468387 1987-12-01

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02291A JPH02291A (ja) 1990-01-05
JP2764288B2 true JP2764288B2 (ja) 1998-06-11

Family

ID=4280676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63305137A Expired - Lifetime JP2764288B2 (ja) 1987-12-01 1988-12-01 チタノセン、それらの使用方法及びn−置換ピロール

Country Status (14)

Country Link
US (2) US5008302A (ja)
EP (1) EP0318894B1 (ja)
JP (1) JP2764288B2 (ja)
KR (1) KR0120391B1 (ja)
AT (1) ATE101613T1 (ja)
AU (1) AU610953B2 (ja)
BR (1) BR8806307A (ja)
CA (1) CA1337765C (ja)
DE (1) DE3887837D1 (ja)
HK (1) HK103296A (ja)
MX (1) MX173654B (ja)
RU (2) RU1792538C (ja)
SU (1) SU1713438A3 (ja)
ZA (1) ZA888961B (ja)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4857654A (en) * 1986-08-01 1989-08-15 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes and their use
US4954885A (en) * 1987-02-25 1990-09-04 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Filter for separating luminance and chrominance signals from composite color television signal
EP0401166B1 (de) * 1989-06-01 1995-02-22 Ciba-Geigy Ag Neue, stickstoffhaltige Titanocene und deren Verwendung
US5192642A (en) * 1989-06-01 1993-03-09 Ciba-Geigy Corporation Oxygen-containing titanocenes, and the use thereof
US5075467A (en) * 1989-06-01 1991-12-24 Ciba-Geigy Corporation Process for the preparation of titanocenes containing o,o'-difluoroaryl ligands
IT1237084B (it) * 1989-10-03 1993-05-18 Chimia Prodotti E Processi Srl Sensibilizzazione di composti metallorganici per la polimerizzazione radicalica fotocatalizzata e stabilizzazione dei preparati.
DE4007428A1 (de) * 1990-03-09 1991-09-12 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
ES2088536T3 (es) * 1991-01-29 1996-08-16 Nat Starch Chem Invest Composiciones fotopolimerizables.
US5087790A (en) * 1991-06-12 1992-02-11 University Of Southern California Method for olefination of carbonyl compounds using titanocene derivatives
TW237456B (ja) * 1992-04-09 1995-01-01 Ciba Geigy
US5499127A (en) * 1992-05-25 1996-03-12 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device having a larger gap between the substrates in the display area than in the sealant area
AT401520B (de) * 1994-03-22 1996-09-25 Danubia Petrochem Polymere Metallocene und deren einsatz für die olefinpolymerisation
DE4418645C1 (de) * 1994-05-27 1995-12-14 Sun Chemical Corp Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
JP3478630B2 (ja) * 1995-02-09 2003-12-15 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5731363A (en) * 1995-03-20 1998-03-24 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition containing sensitizing dye and titanocene compound
EP0780731B1 (en) 1995-12-22 2002-04-17 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition for a color filter, color filter and liquid crystal display device
US5939148A (en) * 1996-09-13 1999-08-17 Kansai Paint Co., Ltd. Visible laser-curable composition
CN1052485C (zh) * 1997-09-03 2000-05-17 中国石油化工总公司 茂金属钛化合物
EP1117698B1 (en) * 1998-09-28 2006-04-19 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Chelates comprising chinoid groups as photoinitiators
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および1,3−ジヒドロ−1−オキソ−2h−インデン誘導体化合物
DE19961355A1 (de) 1999-12-17 2001-06-21 S & C Polymer Silicon & Compos Photoinitiatorsystem mit Titanocen-Initiatoren
US6936384B2 (en) 2002-08-01 2005-08-30 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive composition containing a metallocene derivative
DE10255663B4 (de) * 2002-11-28 2006-05-04 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente
DE10255667B4 (de) * 2002-11-28 2006-05-11 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Strahlungsempfindliche Elemente mit ausgezeichneter Lagerbeständigkeit
JP2005300908A (ja) 2004-04-12 2005-10-27 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料
CN100541327C (zh) * 2004-05-21 2009-09-16 明德国际仓储贸易(上海)有限公司 液晶显示元件散乱层光阻组成物
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
JP5102454B2 (ja) 2006-03-03 2012-12-19 富士フイルム株式会社 チタノセン系化合物、感光性組成物、及び感光性転写シート
EP2154162B1 (en) 2007-05-23 2019-07-17 Showa Denko K.K. Reactive urethane compound having ether bond, curable composition and cured material
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
WO2010060702A1 (en) 2008-11-03 2010-06-03 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP5374403B2 (ja) 2009-02-13 2013-12-25 三菱製紙株式会社 感光性平版印刷版材料
US20100227269A1 (en) 2009-03-04 2010-09-09 Simpson Christopher D Imageable elements with colorants
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
CN102584904A (zh) * 2011-08-03 2012-07-18 湖北固润科技股份有限公司 光引发剂gr-fmt的生产方法
CN107340688B (zh) * 2016-04-29 2022-05-06 东友精细化工有限公司 硬掩模用组合物
TWI766073B (zh) 2017-07-21 2022-06-01 台橡股份有限公司 用於製備發泡體的組合物、發泡體以及包含該發泡體的鞋體
US10465029B2 (en) * 2018-02-02 2019-11-05 Pacific Light & Hologram, Inc. Photosensitive resin and manufacturing method thereof

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4548891A (en) * 1983-02-11 1985-10-22 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing prepolymers with olefin double bonds and titanium metallocene photoinitiators
US4590287A (en) * 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
US4713401A (en) * 1984-12-20 1987-12-15 Martin Riediker Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes
GB8515475D0 (en) * 1985-06-19 1985-07-24 Ciba Geigy Ag Forming images
KR910000199B1 (ko) * 1986-04-15 1991-01-23 시바-가이기 코오포레이숀 액체 광개시제 혼합물
CH678897A5 (ja) * 1986-05-10 1991-11-15 Ciba Geigy Ag
DE3768919D1 (en) * 1986-11-26 1991-05-02 Ciba Geigy Ag Fluessige photoinitiatorgemische.

Also Published As

Publication number Publication date
AU2646288A (en) 1989-06-01
JPH02291A (ja) 1990-01-05
CA1337765C (en) 1995-12-19
BR8806307A (pt) 1989-08-15
MX13996A (es) 1993-10-01
ATE101613T1 (de) 1994-03-15
RU1792538C (ru) 1993-01-30
KR0120391B1 (ko) 1997-10-22
EP0318894A2 (de) 1989-06-07
MX173654B (es) 1994-03-22
DE3887837D1 (de) 1994-03-24
US5008302A (en) 1991-04-16
US5106722A (en) 1992-04-21
EP0318894B1 (de) 1994-02-16
SU1713438A3 (ru) 1992-02-15
ZA888961B (en) 1989-07-26
HK103296A (en) 1996-06-21
AU610953B2 (en) 1991-05-30
KR890009954A (ko) 1989-08-05
EP0318894A3 (en) 1990-05-16
RU2086555C1 (ru) 1997-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2764288B2 (ja) チタノセン、それらの使用方法及びn−置換ピロール
US4857654A (en) Titanocenes and their use
US4963470A (en) Titanocenes and their use
JP2747831B2 (ja) チタノセンおよびそれを含有する光重合性組成物
JP2905985B2 (ja) 新規な酸素含有チタノセン及びその用途
JP2818968B2 (ja) 新規窒素含有チタノセン、及びその使用方法
BE1010765A5 (fr) Photoamorceurs a base de borates a partir de monoboranes.
JP3182720B2 (ja) α−アミノアセトフェノン誘導体
AT406775B (de) Borat-coinitiatoren für die photopolymerisation
US6087062A (en) Polyborate coinitiators for photopolymerization
FR2770525A1 (fr) Systeme photo-initiateur, composes qui le constituent, composition le comprenant et son utilisation

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090403

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090403

Year of fee payment: 11