JPH08114917A - 写真画像形成の可能な液状レジスト - Google Patents
写真画像形成の可能な液状レジストInfo
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- JPH08114917A JPH08114917A JP7252277A JP25227795A JPH08114917A JP H08114917 A JPH08114917 A JP H08114917A JP 7252277 A JP7252277 A JP 7252277A JP 25227795 A JP25227795 A JP 25227795A JP H08114917 A JPH08114917 A JP H08114917A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0079—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the method of application or removal of the mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K2203/0756—Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/11—Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
- H05K2203/1105—Heating or thermal processing not related to soldering, firing, curing or laminating, e.g. for shaping the substrate or during finish plating
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光感受性と総合的な物性との良好なバランス
を示す液状塗工レジストの提供。 【解決手段】 主成分として、バインダー、多官能価モ
ノマー、光重合開始剤及び溶剤を含むフォトレジスト組
成物を使用する。
を示す液状塗工レジストの提供。 【解決手段】 主成分として、バインダー、多官能価モ
ノマー、光重合開始剤及び溶剤を含むフォトレジスト組
成物を使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、写真画像形成の可
能な液状レジスト組成物に関する。特に、本発明は、エ
レクトロニクス産業におけるプリント回路基板の製造に
使用するプリント及び酸エッチングの適用に有用な、写
真画像形成の可能な液状レジスト組成物に関する。
能な液状レジスト組成物に関する。特に、本発明は、エ
レクトロニクス産業におけるプリント回路基板の製造に
使用するプリント及び酸エッチングの適用に有用な、写
真画像形成の可能な液状レジスト組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】光重合性液状組成物は、プリント回路基
板の製造においてフォトレジストとして使用可能であ
る。典型的な使用においては、光重合性液状組成物を、
ロールコーティング、フローコーティング、スクリーン
コーティング又はスピンコーティングを含む当業界で汎
用される任意の手法により、銅クラッド基板に塗工す
る。材料を次に乾燥し、材料を優先的に硬化させる化学
線により乾燥した材料の特定領域を露光する。硬化した
材料を次に現像液で洗浄して、銅表面から未露光材料を
除去する。すると、硬化した光重合性組成物の下の保護
された領域を残しつつ、エッチング溶液中で露出した銅
表面を除去することにより、電気回路を形成することが
可能となる。一般に、フォトレジスト用の光重合性組成
物は、好ましくは露光時間及び現像時間が最小となるよ
うに設計される。
板の製造においてフォトレジストとして使用可能であ
る。典型的な使用においては、光重合性液状組成物を、
ロールコーティング、フローコーティング、スクリーン
コーティング又はスピンコーティングを含む当業界で汎
用される任意の手法により、銅クラッド基板に塗工す
る。材料を次に乾燥し、材料を優先的に硬化させる化学
線により乾燥した材料の特定領域を露光する。硬化した
材料を次に現像液で洗浄して、銅表面から未露光材料を
除去する。すると、硬化した光重合性組成物の下の保護
された領域を残しつつ、エッチング溶液中で露出した銅
表面を除去することにより、電気回路を形成することが
可能となる。一般に、フォトレジスト用の光重合性組成
物は、好ましくは露光時間及び現像時間が最小となるよ
うに設計される。
【０００３】液状レジスト技術は新規なものではない。
しかし、材料コストを下げ、歩留りを上げることによ
り、プリント回路の製造コストを削減する方法の需要が
最近増加してきている。過去においては、ドライフィル
ムフォトレジストの比較的高い歩留り、処理の容易さ及
び生産性の向上から、液状レジスト技術はドライフィル
ムフォトレジストにより置換された。しかしながら、両
面ロールコーティング及びクリーンルーム技術における
最近の発展により、液状レジストの使用について従来経
験された問題は潜在的に除去されつつある。液状塗工レ
ジスト（ドライフィルム塗工との対照で）は、多くの処
理上の問題による困難性を有する。このような問題に
は、ドライフィルムレジストと比較した場合に、大気中
の酸素に曝されることにより光感受性が低いこと、ブロ
ッキング特性が劣ること、及び処理が遅いことが含まれ
る。大気中の酸素に曝されることによる光感受性の低下
を克服する場合に、大量の有効でない光重合開始剤（ベ
ンゾフェノン等）を使用するとすれば、レジストについ
ての他の欠点が生ずる。高レベルの場合、ベンゾフェノ
ンは、レジストの可塑剤として作用することにより、塗
工したレジストの物性に影響を及ぼす可能性がある。レ
ジスト中のベンゾフェノンのレベルが増加した場合の影
響の１つとして、材料のブロッキング傾向の増加があ
る。一般に、レジストを工業的設定で使用する場合に
は、基板をレジストで塗工して乾燥する。このような基
板を、化学線により露光する前に、一定時間積み重ねて
貯蔵することが必要であると考えられる。パネルのレジ
ストを塗工した領域が、隣接するパネルの塗工領域に接
触するような方法で、これらの基板が積み重ねられ、か
つ前記材料がブロッキング傾向を示す場合には、隣接す
るパネルは相互に接着し、材料が一方のパネルから他方
へ転写されることにより、回路の欠陥及び最終製品の歩
留りの損失が発生することが考えられる。不粘着性を得
るために、従来のレジストでは、乾燥したレジストの表
面に移動して材料の粘着を防止するブルーミング剤又は
その他の添加剤の使用が開示されている。更に、ベンゾ
フェノンは比較的揮発性の高い物質であるため、比較的
大量のベンゾフェノンを含有するレジストは、乾燥後
に、感光速度性能の著しい程度のばらつきを示すことが
考えられる。このばらつきにより、レジストの硬化に要
する露光量を予測することが困難となる。
しかし、材料コストを下げ、歩留りを上げることによ
り、プリント回路の製造コストを削減する方法の需要が
最近増加してきている。過去においては、ドライフィル
ムフォトレジストの比較的高い歩留り、処理の容易さ及
び生産性の向上から、液状レジスト技術はドライフィル
ムフォトレジストにより置換された。しかしながら、両
面ロールコーティング及びクリーンルーム技術における
最近の発展により、液状レジストの使用について従来経
験された問題は潜在的に除去されつつある。液状塗工レ
ジスト（ドライフィルム塗工との対照で）は、多くの処
理上の問題による困難性を有する。このような問題に
は、ドライフィルムレジストと比較した場合に、大気中
の酸素に曝されることにより光感受性が低いこと、ブロ
ッキング特性が劣ること、及び処理が遅いことが含まれ
る。大気中の酸素に曝されることによる光感受性の低下
を克服する場合に、大量の有効でない光重合開始剤（ベ
ンゾフェノン等）を使用するとすれば、レジストについ
ての他の欠点が生ずる。高レベルの場合、ベンゾフェノ
ンは、レジストの可塑剤として作用することにより、塗
工したレジストの物性に影響を及ぼす可能性がある。レ
ジスト中のベンゾフェノンのレベルが増加した場合の影
響の１つとして、材料のブロッキング傾向の増加があ
る。一般に、レジストを工業的設定で使用する場合に
は、基板をレジストで塗工して乾燥する。このような基
板を、化学線により露光する前に、一定時間積み重ねて
貯蔵することが必要であると考えられる。パネルのレジ
ストを塗工した領域が、隣接するパネルの塗工領域に接
触するような方法で、これらの基板が積み重ねられ、か
つ前記材料がブロッキング傾向を示す場合には、隣接す
るパネルは相互に接着し、材料が一方のパネルから他方
へ転写されることにより、回路の欠陥及び最終製品の歩
留りの損失が発生することが考えられる。不粘着性を得
るために、従来のレジストでは、乾燥したレジストの表
面に移動して材料の粘着を防止するブルーミング剤又は
その他の添加剤の使用が開示されている。更に、ベンゾ
フェノンは比較的揮発性の高い物質であるため、比較的
大量のベンゾフェノンを含有するレジストは、乾燥後
に、感光速度性能の著しい程度のばらつきを示すことが
考えられる。このばらつきにより、レジストの硬化に要
する露光量を予測することが困難となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的
は、光感受性と総合的な物性との良好なバランスを示す
液状塗工レジストを提供することにある。本発明の他の
目的は、他の液状塗工レジスト塗料に比べて低いブロッ
キング傾向を示す液状塗工レジストを提供することにあ
る。本発明は、写真画像形成の可能な液状レジストに関
するものであって、商業的実用性を有するに十分な感光
速度を有し、ブロッキングに対する耐性の比較的高い材
料を提供するものである。
は、光感受性と総合的な物性との良好なバランスを示す
液状塗工レジストを提供することにある。本発明の他の
目的は、他の液状塗工レジスト塗料に比べて低いブロッ
キング傾向を示す液状塗工レジストを提供することにあ
る。本発明は、写真画像形成の可能な液状レジストに関
するものであって、商業的実用性を有するに十分な感光
速度を有し、ブロッキングに対する耐性の比較的高い材
料を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の写真画像形成の
可能な液状レジストは、バインダー、多官能価モノマ
ー、光重合開始剤及び溶剤を含む。所望により、該写真
画像形成の可能な液状レジストは、レベリング剤、熱安
定剤、染料等を更に含む。
可能な液状レジストは、バインダー、多官能価モノマ
ー、光重合開始剤及び溶剤を含む。所望により、該写真
画像形成の可能な液状レジストは、レベリング剤、熱安
定剤、染料等を更に含む。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明において有用なバインダー
は、１種以上のフィルム形成性のビニル型モノマーと、
バインダーを水性媒質に可溶なものとする１種以上の
α，βエチレン性不飽和カルボキシル基を含有する３〜
１５個の炭素原子を有するモノマーから製造される。有
用なビニル型モノマーの例には、３〜１５個の炭素原子
を有するアルキル及びヒドロキシアルキルアクリレート
及びメタクリレート、スチレン、及びアルキル置換スチ
レンがある。有用なカルボキシル基含有モノマーの例に
は、ケイ皮酸、クロトン酸、ソルビン酸、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、プロピオン酸、マレイン
酸、フマル酸、及びそれらの酸の半エステル及び無水物
がある。バインダーは約８０以上、好ましくは約８０〜
約１６０、更に好ましくは約１２０〜約１５０の酸価を
有する。本発明の１つのバインダーはアクリルポリマ
ー、特にメタクリル酸、メチルメタクリレート及びエチ
ルアクリレートを重量比２2.２／６4.６／１3.２で含有
し、重量平均分子量が45,000であり、酸価が１３０〜１
５０である。他の有用なバインダーは、当業者に自明で
あろう。本発明のバインダーのＴｇは約１１０℃以上で
あり、好ましくはＴｇは約１１０℃〜約１２０℃であ
る。また、バインダーが乾燥濃度で約５０重量％以上、
好ましくは約５０〜約７０重量％、更に好ましくは約５
５〜約６５重量％の量で存在するのが好ましい。本発明
で使用可能な多官能価モノマーは、気体でなく、２個以
上、好ましくは２〜４個、更に好ましくは２〜３個のエ
チレン性二重結合を含有するものである。２個以上のエ
チレン性二重結合を有することにより、モノマーは多官
能価、即ち、架橋重合可能なものとなる。好適なモノマ
ーにはアルキレン又はポリアルキレングリコールジアク
リレートが含まれる。説明のための例としては、エチレ
ンジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、グリセロールトリア
クリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレー
ト、１，２，４−ブタンジオールトリメタクリレート、
１，４−ベンゼンジオールジメタクリレート、１，４−
シクロヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリト
リトールトリ−及びテトラメタクリレート、ペンタエリ
トリトールトリ−及びテトラアクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトー
ルテトラアクリレート、１，３−プロパンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレー
ト、及び、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、及び（数平均）分子量が約１００〜約５００
のそれらのコポリマーの、ビスアクリレート及びビスメ
タクリレートが含まれるが、これらに限定されるもので
はない。多官能価モノマーの一例はエトキシル化ビスフ
ェノールＡジメタクリレートである。他の有用な重合性
モノマーは、当業者に自明であろう。
は、１種以上のフィルム形成性のビニル型モノマーと、
バインダーを水性媒質に可溶なものとする１種以上の
α，βエチレン性不飽和カルボキシル基を含有する３〜
１５個の炭素原子を有するモノマーから製造される。有
用なビニル型モノマーの例には、３〜１５個の炭素原子
を有するアルキル及びヒドロキシアルキルアクリレート
及びメタクリレート、スチレン、及びアルキル置換スチ
レンがある。有用なカルボキシル基含有モノマーの例に
は、ケイ皮酸、クロトン酸、ソルビン酸、アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、プロピオン酸、マレイン
酸、フマル酸、及びそれらの酸の半エステル及び無水物
がある。バインダーは約８０以上、好ましくは約８０〜
約１６０、更に好ましくは約１２０〜約１５０の酸価を
有する。本発明の１つのバインダーはアクリルポリマ
ー、特にメタクリル酸、メチルメタクリレート及びエチ
ルアクリレートを重量比２2.２／６4.６／１3.２で含有
し、重量平均分子量が45,000であり、酸価が１３０〜１
５０である。他の有用なバインダーは、当業者に自明で
あろう。本発明のバインダーのＴｇは約１１０℃以上で
あり、好ましくはＴｇは約１１０℃〜約１２０℃であ
る。また、バインダーが乾燥濃度で約５０重量％以上、
好ましくは約５０〜約７０重量％、更に好ましくは約５
５〜約６５重量％の量で存在するのが好ましい。本発明
で使用可能な多官能価モノマーは、気体でなく、２個以
上、好ましくは２〜４個、更に好ましくは２〜３個のエ
チレン性二重結合を含有するものである。２個以上のエ
チレン性二重結合を有することにより、モノマーは多官
能価、即ち、架橋重合可能なものとなる。好適なモノマ
ーにはアルキレン又はポリアルキレングリコールジアク
リレートが含まれる。説明のための例としては、エチレ
ンジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、グリセロールジアクリレート、グリセロールトリア
クリレート、１，３−プロパンジオールジメタクリレー
ト、１，２，４−ブタンジオールトリメタクリレート、
１，４−ベンゼンジオールジメタクリレート、１，４−
シクロヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリト
リトールトリ−及びテトラメタクリレート、ペンタエリ
トリトールトリ−及びテトラアクリレート、テトラエチ
レングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリトリトールトリアクリレート、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリトリトー
ルテトラアクリレート、１，３−プロパンジオールジア
クリレート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレー
ト、及び、ポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコール、及び（数平均）分子量が約１００〜約５００
のそれらのコポリマーの、ビスアクリレート及びビスメ
タクリレートが含まれるが、これらに限定されるもので
はない。多官能価モノマーの一例はエトキシル化ビスフ
ェノールＡジメタクリレートである。他の有用な重合性
モノマーは、当業者に自明であろう。
【０００７】本発明に関して有用な光重合開始剤には、
液状レジスト系における光重合開始剤としてのベンゾフ
ェノンの効果に比べて比較的有効な光重合開始剤が含ま
れる。更に、本発明に関して有用な光重合開始剤は、液
状レジスト系におけるベンゾフェノンの揮発速度に比べ
て比較的遅い揮発速度を示す。『光重合開始剤』の語
は、光重合開始剤として機能するような化合物の他に光
増感剤として機能するような化合物をも含む。光重合開
始剤は、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフ
ェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルア
ントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェニルア
ントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロ
ロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
フルオレノン、アクリドン等の芳香族ケトン、２−（ｏ
−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
ダイマー、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ
（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾールダイマー、２−
（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾールダイマー、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾールダイマー、及び２−（ｐ−
メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
ダイマー等の２，４，５−トリアリールイミダゾールダ
イマーからなる群から選ばれる物質の任意の組合わせで
あってよく、好ましくはイソプロピルチオキサントン、
エチルジメチルアミノベンゾエート、ジメトキシフェニ
ルアセトフェノン及び２，２’−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾールからなる群から選ばれる物質の任
意の組合わせであってよい。本発明の写真画像形成の可
能な液状レジストにおいて、光重合開始剤は、溶剤を除
いた材料の約１０重量％以上の量で、好ましくは１０重
量％〜約１７重量％の量で、更に好ましくは１０重量％
〜約１１重量％の量で、更に好ましくは約１１重量％の
量で存在する。
液状レジスト系における光重合開始剤としてのベンゾフ
ェノンの効果に比べて比較的有効な光重合開始剤が含ま
れる。更に、本発明に関して有用な光重合開始剤は、液
状レジスト系におけるベンゾフェノンの揮発速度に比べ
て比較的遅い揮発速度を示す。『光重合開始剤』の語
は、光重合開始剤として機能するような化合物の他に光
増感剤として機能するような化合物をも含む。光重合開
始剤は、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェ
ノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノ
ン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチ
ルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフ
ェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルア
ントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェニルア
ントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロ
ロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、
フルオレノン、アクリドン等の芳香族ケトン、２−（ｏ
−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
ダイマー、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ
（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾールダイマー、２−
（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾールダイマー、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾールダイマー、及び２−（ｐ−
メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
ダイマー等の２，４，５−トリアリールイミダゾールダ
イマーからなる群から選ばれる物質の任意の組合わせで
あってよく、好ましくはイソプロピルチオキサントン、
エチルジメチルアミノベンゾエート、ジメトキシフェニ
ルアセトフェノン及び２，２’−ビス（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，
２’−ビイミダゾールからなる群から選ばれる物質の任
意の組合わせであってよい。本発明の写真画像形成の可
能な液状レジストにおいて、光重合開始剤は、溶剤を除
いた材料の約１０重量％以上の量で、好ましくは１０重
量％〜約１７重量％の量で、更に好ましくは１０重量％
〜約１１重量％の量で、更に好ましくは約１１重量％の
量で存在する。
【０００８】本発明に関して有用な溶剤には、約１６℃
〜約９３℃（６０〜２００°Ｆ）、好ましくは約３８℃
〜約４９℃（１００〜１２０°Ｆ）の比較的高い引火
点、２０℃で約6.６７〜約７００ニュートン／ｍ2 （約
0.０５〜約５トール）、好ましくは２０℃で約４７０〜
約５３０ニュートン／ｍ2 （約3.５〜約4.０トール）の
比較的低い蒸気圧を示し、毒性が比較的低く、約５０よ
り大きいＴＬＶを有するような溶剤が含まれる。溶剤
は、２−メトキシブタノール、プロピレングリコールブ
チルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロ
ピレングリコール第三ブチルエーテル、エチレングリコ
ールエチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチ
ルエーテルからなる群から選んでよい。エチレングリコ
ールベースの溶剤よりもプロピレングリコールベースの
溶剤が好ましい。好ましくは、溶剤はプロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテートを含有する。本発明の写
真画像形成の可能な液状レジストは、所望により、塗
工、乾燥及び貯蔵の間の熱重合を回避するのに有用な熱
重合禁止剤を含有してよい。有用な熱重合禁止剤の例に
は、ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、アルキル
及びアリール−置換ヒドロキノン及びキノリン、tert−
ブチルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銅、β−ナフ
トール、２，６−ジ−tert−ブチル−ｐ−クレゾール、
２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、ｐ−トリルキノン、クロラニル、亜リ
ン酸塩アリール、及び亜リン酸塩アリールアルキルがあ
る。他の有用な熱重合禁止剤は、当業者に自明であろ
う。
〜約９３℃（６０〜２００°Ｆ）、好ましくは約３８℃
〜約４９℃（１００〜１２０°Ｆ）の比較的高い引火
点、２０℃で約6.６７〜約７００ニュートン／ｍ2 （約
0.０５〜約５トール）、好ましくは２０℃で約４７０〜
約５３０ニュートン／ｍ2 （約3.５〜約4.０トール）の
比較的低い蒸気圧を示し、毒性が比較的低く、約５０よ
り大きいＴＬＶを有するような溶剤が含まれる。溶剤
は、２−メトキシブタノール、プロピレングリコールブ
チルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロ
ピレングリコール第三ブチルエーテル、エチレングリコ
ールエチルエーテル、及びジプロピレングリコールメチ
ルエーテルからなる群から選んでよい。エチレングリコ
ールベースの溶剤よりもプロピレングリコールベースの
溶剤が好ましい。好ましくは、溶剤はプロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテートを含有する。本発明の写
真画像形成の可能な液状レジストは、所望により、塗
工、乾燥及び貯蔵の間の熱重合を回避するのに有用な熱
重合禁止剤を含有してよい。有用な熱重合禁止剤の例に
は、ｐ−メトキシフェノール、ヒドロキノン、アルキル
及びアリール−置換ヒドロキノン及びキノリン、tert−
ブチルカテコール、ピロガロール、樹脂酸銅、β−ナフ
トール、２，６−ジ−tert−ブチル−ｐ−クレゾール、
２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔ−ブチ
ルフェノール）、ｐ−トリルキノン、クロラニル、亜リ
ン酸塩アリール、及び亜リン酸塩アリールアルキルがあ
る。他の有用な熱重合禁止剤は、当業者に自明であろ
う。
【０００９】本発明の写真画像形成の可能な液状レジス
トは、所望により、流れ調整剤を含有してよい。有用な
流れ調整剤又はレベリング剤には、Modaflow（Modaflo
w、ミズーリ州セントルイス、モンサント社製）として
市販されている、アクリル酸エチルとアクリル酸シクロ
ヘキシルとのコポリマーが含まれる。Fluorad （Fluora
d 、ミネソタ州ミネアポリス、３Ｍ社製）シリーズ等の
その他の流れ調整剤も、実質上欠陥のないコーティング
が得られる点で有用である。本発明の写真画像形成の可
能な液状レジストの配合におけるこれらの添加剤の必要
量の決定は、当業者に自明であろう。流れ調整剤は、乾
燥重量で0.１％〜3.０％、好ましくは0.５％〜1.０％の
レベルで使用可能である。本発明の写真画像形成の可能
な液状レジストは、所望により、ロイコ（即ちプリント
アウト）染料、バックグラウンド染料、接着促進剤、及
び米国特許第4,297,435 号及び第4,268,610 号明細書に
開示されているような酸化防止剤等の、光重合性組成物
の分野で周知の添加剤を含有してよい。他の所望による
添加剤は、当業者に自明であろう。所望による添加剤
は、望ましいものではあるが、本発明に必要なものでは
ない。
トは、所望により、流れ調整剤を含有してよい。有用な
流れ調整剤又はレベリング剤には、Modaflow（Modaflo
w、ミズーリ州セントルイス、モンサント社製）として
市販されている、アクリル酸エチルとアクリル酸シクロ
ヘキシルとのコポリマーが含まれる。Fluorad （Fluora
d 、ミネソタ州ミネアポリス、３Ｍ社製）シリーズ等の
その他の流れ調整剤も、実質上欠陥のないコーティング
が得られる点で有用である。本発明の写真画像形成の可
能な液状レジストの配合におけるこれらの添加剤の必要
量の決定は、当業者に自明であろう。流れ調整剤は、乾
燥重量で0.１％〜3.０％、好ましくは0.５％〜1.０％の
レベルで使用可能である。本発明の写真画像形成の可能
な液状レジストは、所望により、ロイコ（即ちプリント
アウト）染料、バックグラウンド染料、接着促進剤、及
び米国特許第4,297,435 号及び第4,268,610 号明細書に
開示されているような酸化防止剤等の、光重合性組成物
の分野で周知の添加剤を含有してよい。他の所望による
添加剤は、当業者に自明であろう。所望による添加剤
は、望ましいものではあるが、本発明に必要なものでは
ない。
【００１０】一般に、ネガレジスト像を表面上に形成す
る方法においては、ロールコーター、スクリーンコータ
ー、フローコーター又はスピンコーター、その他の当業
界で公知の塗工方法により、写真画像形成の可能な液状
レジストを塗工してよい。一般に、表面は銅クラッド基
板上の銅表面である。次に、基板を加熱して写真画像形
成の可能な液状レジストから溶剤を除去する。本発明の
方法においては、約９３℃（約２００°Ｆ）以上、好ま
しくは約９３℃〜約１０７℃（約２００°Ｆ〜約２２５
°Ｆ）で基板を加熱してレジスト材料から実質上全ての
溶剤を除去し、粘着性のドライフィルムを形成すること
が好ましい。粘着性ドライフィルムの厚さは一般に約7.
６ミクロン（約0.３ミル）以上、好ましくは約7.６〜約
１８ミクロン（約0.３〜約0.７ミル）である。次に、ネ
ガを通して粘着性ドライフィルムを化学線で露光して光
重合性材料の潜像を形成し、公知の現像液中で現像して
未重合組成物を銅表面から除去する。次に、光重合性材
料で覆われている表面をフォトレジストで保護しつつ、
表面の光重合性材料で覆われていない部分を、メッキ又
はエッチング手法等の公知の方法により改質することが
可能である。公知の剥離剤で洗浄することにより、光重
合性材料を表面から完全に除去することが可能である。
一般に、化学線の照射量は約３５〜約１５０mJ/cm2の範
囲であるが、正確な照射量は実際に使用する組成物に基
づいて当業者が決定することが可能である。米国特許第
4,293,635 号明細書及び米国特許第4,268,610 号明細書
は、光源、照射強度及び時間、現像及び剥離溶液及び手
法、及びラミネート板成形材料を含む写真画像形成手法
及び装置の例を開示している。銅クラッド基板は、ガラ
ス繊維強化エポキシ樹脂の銅クラッド基板等の、回路基
板の製造に用いる任意の公知の銅／誘電体ラミネートで
ある。他の有用な誘電体は、当業者に自明であろう。
る方法においては、ロールコーター、スクリーンコータ
ー、フローコーター又はスピンコーター、その他の当業
界で公知の塗工方法により、写真画像形成の可能な液状
レジストを塗工してよい。一般に、表面は銅クラッド基
板上の銅表面である。次に、基板を加熱して写真画像形
成の可能な液状レジストから溶剤を除去する。本発明の
方法においては、約９３℃（約２００°Ｆ）以上、好ま
しくは約９３℃〜約１０７℃（約２００°Ｆ〜約２２５
°Ｆ）で基板を加熱してレジスト材料から実質上全ての
溶剤を除去し、粘着性のドライフィルムを形成すること
が好ましい。粘着性ドライフィルムの厚さは一般に約7.
６ミクロン（約0.３ミル）以上、好ましくは約7.６〜約
１８ミクロン（約0.３〜約0.７ミル）である。次に、ネ
ガを通して粘着性ドライフィルムを化学線で露光して光
重合性材料の潜像を形成し、公知の現像液中で現像して
未重合組成物を銅表面から除去する。次に、光重合性材
料で覆われている表面をフォトレジストで保護しつつ、
表面の光重合性材料で覆われていない部分を、メッキ又
はエッチング手法等の公知の方法により改質することが
可能である。公知の剥離剤で洗浄することにより、光重
合性材料を表面から完全に除去することが可能である。
一般に、化学線の照射量は約３５〜約１５０mJ/cm2の範
囲であるが、正確な照射量は実際に使用する組成物に基
づいて当業者が決定することが可能である。米国特許第
4,293,635 号明細書及び米国特許第4,268,610 号明細書
は、光源、照射強度及び時間、現像及び剥離溶液及び手
法、及びラミネート板成形材料を含む写真画像形成手法
及び装置の例を開示している。銅クラッド基板は、ガラ
ス繊維強化エポキシ樹脂の銅クラッド基板等の、回路基
板の製造に用いる任意の公知の銅／誘電体ラミネートで
ある。他の有用な誘電体は、当業者に自明であろう。
【００１１】本発明において使用する水性現像液は、重
量で、約0.５〜１０％、好ましくは約0.５〜１％のアル
カリ剤を有し、潜像板を該溶液中で十分な時間洗浄し
て、未重合組成物を除去する。有用なアルカリ剤は、例
えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリ
ウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム及び重
曹等の弱酸の塩基反応アルカリ金属塩、及びアルカリ金
属リン酸塩及びピロリン酸塩である。回路基板を現像液
中に浸漬するか、又は該溶液を基板上に高圧スプレーす
ることが可能である。一般に、本発明において、光重合
性材料の除去に有用な剥離液は加熱したアルカリ水性溶
液であって、例えば現像液と同様のアルカリ剤を含む溶
液であるが、より高いアルカリ濃度を有し、例えば一般
には、重量で約１％〜１０％、好ましくは約１％〜３％
である。一般に、剥離液を約４５℃〜６５℃、好ましく
は約５０℃〜５５℃まで加熱する。光重合性材料の除去
のための基板の洗浄は、加熱した剥離液を基板にスプレ
ーするか、又は、好ましくは剥離液の加熱浴中で基板を
攪拌する等の、当業者に周知の方法による。本発明の写
真画像形成の可能な液状レジストの利点のうち、実質上
残さがなく比較的清浄に現像しうることが材料の性能で
ある。これにより、特に塩化第二銅エッチング剤中にお
いて、エッチング速度が比較的速い方法が可能となる。
量で、約0.５〜１０％、好ましくは約0.５〜１％のアル
カリ剤を有し、潜像板を該溶液中で十分な時間洗浄し
て、未重合組成物を除去する。有用なアルカリ剤は、例
えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリ
ウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸ナトリウム及び重
曹等の弱酸の塩基反応アルカリ金属塩、及びアルカリ金
属リン酸塩及びピロリン酸塩である。回路基板を現像液
中に浸漬するか、又は該溶液を基板上に高圧スプレーす
ることが可能である。一般に、本発明において、光重合
性材料の除去に有用な剥離液は加熱したアルカリ水性溶
液であって、例えば現像液と同様のアルカリ剤を含む溶
液であるが、より高いアルカリ濃度を有し、例えば一般
には、重量で約１％〜１０％、好ましくは約１％〜３％
である。一般に、剥離液を約４５℃〜６５℃、好ましく
は約５０℃〜５５℃まで加熱する。光重合性材料の除去
のための基板の洗浄は、加熱した剥離液を基板にスプレ
ーするか、又は、好ましくは剥離液の加熱浴中で基板を
攪拌する等の、当業者に周知の方法による。本発明の写
真画像形成の可能な液状レジストの利点のうち、実質上
残さがなく比較的清浄に現像しうることが材料の性能で
ある。これにより、特に塩化第二銅エッチング剤中にお
いて、エッチング速度が比較的速い方法が可能となる。
【００１２】バインダーのＴｇは示差走査熱量分析（Ｄ
ＳＣ）を用いて決定した。窒素雰囲気下における走査速
度１０℃／分での転移の中間点として、Ｔｇを記録し
た。本発明の液状塗工フォトレジスト組成物の調製、及
び該液状塗工フォトレジスト組成物を用いたネガレジス
ト像の形成方法を更に開示し、教示するために、以下の
実施例を示す。これらの実施例は説明目的のためのみの
ものであって、前記特許請求の範囲に示した本発明の精
神及び範囲に実質上影響することなく僅かな変更を加え
ることが可能であることが理解されなければならない。
ＳＣ）を用いて決定した。窒素雰囲気下における走査速
度１０℃／分での転移の中間点として、Ｔｇを記録し
た。本発明の液状塗工フォトレジスト組成物の調製、及
び該液状塗工フォトレジスト組成物を用いたネガレジス
ト像の形成方法を更に開示し、教示するために、以下の
実施例を示す。これらの実施例は説明目的のためのみの
ものであって、前記特許請求の範囲に示した本発明の精
神及び範囲に実質上影響することなく僅かな変更を加え
ることが可能であることが理解されなければならない。
【００１３】
実施例１〜４ 表１に列挙した量の成分をガラスジャー中で混合し、均
質な液状レジスト組成物が得られるまで２０〜２５℃に
おいて毎分５００回転で機械的に攪拌して、本発明によ
る液状レジストを調製した。ロールコーター（イリノイ
州メンドータ、ブラックブラザーズ社製）又はスピンコ
ーター（テキサス州ガーランド、ヘッドウェイリサーチ
社製）を用いて、銅クラッドラミネート又はパネル上
に、前記組成物を塗工した。最小乾燥厚さが約7.６ミク
ロン（0.３ミル）であって、ディウエッティング、フィ
ッシュアイ、ディッシュダウン等のコーティング欠陥が
観察されない良好な塗工性を示すように、該レジストを
塗工した。コーティング中の残存溶剤が１重量％未満ま
で減少するようにオーブン内での滞留時間を与える速度
において、９３〜１０７℃（２００〜２２５°Ｆ）で、
換気型ブルーＭオーブン中で、コーティングしたパネル
を乾燥させた。コーティングしたパネルを垂直に積み重
ね、周囲大気条件下で７２時間相互に接触したままの状
態として、コーティングしたパネルが相互にブロッキン
グするのに十分な時間を与えた。この間にコーティング
したプレートを観察して、貯蔵の間にプレート間に認識
しうるブロッキングが存在するか否かを決定した。次
に、最低ランプ強度が８mW/cm2であって、最高強度の波
長が３００〜４００ｎｍである通常の露光ユニット（Mi
mir 9224、カリフォルニア州サンタクララ、マイマーイ
ンストゥルメンタル社製）中で、コーティングしたパネ
ルを１００〜１５０mJ/cm2で露光した。Stouffer 41 ス
テップを用いて、レジストの感光速度を決定した。1.０
％の炭酸ナトリウム一水和物中で、３２℃（９０°Ｆ）
において、区切り点を５０％としてパネルを現像した。
次に、現像したパネルを塩化第二銅中でエッチングし、
次いで３％の水酸化カリウム中で、５４℃（１３０°
Ｆ）において剥離させた。エッチングしたパネルに欠陥
がないかを最後に検査した。この試験の結果を表１に示
す。
質な液状レジスト組成物が得られるまで２０〜２５℃に
おいて毎分５００回転で機械的に攪拌して、本発明によ
る液状レジストを調製した。ロールコーター（イリノイ
州メンドータ、ブラックブラザーズ社製）又はスピンコ
ーター（テキサス州ガーランド、ヘッドウェイリサーチ
社製）を用いて、銅クラッドラミネート又はパネル上
に、前記組成物を塗工した。最小乾燥厚さが約7.６ミク
ロン（0.３ミル）であって、ディウエッティング、フィ
ッシュアイ、ディッシュダウン等のコーティング欠陥が
観察されない良好な塗工性を示すように、該レジストを
塗工した。コーティング中の残存溶剤が１重量％未満ま
で減少するようにオーブン内での滞留時間を与える速度
において、９３〜１０７℃（２００〜２２５°Ｆ）で、
換気型ブルーＭオーブン中で、コーティングしたパネル
を乾燥させた。コーティングしたパネルを垂直に積み重
ね、周囲大気条件下で７２時間相互に接触したままの状
態として、コーティングしたパネルが相互にブロッキン
グするのに十分な時間を与えた。この間にコーティング
したプレートを観察して、貯蔵の間にプレート間に認識
しうるブロッキングが存在するか否かを決定した。次
に、最低ランプ強度が８mW/cm2であって、最高強度の波
長が３００〜４００ｎｍである通常の露光ユニット（Mi
mir 9224、カリフォルニア州サンタクララ、マイマーイ
ンストゥルメンタル社製）中で、コーティングしたパネ
ルを１００〜１５０mJ/cm2で露光した。Stouffer 41 ス
テップを用いて、レジストの感光速度を決定した。1.０
％の炭酸ナトリウム一水和物中で、３２℃（９０°Ｆ）
において、区切り点を５０％としてパネルを現像した。
次に、現像したパネルを塩化第二銅中でエッチングし、
次いで３％の水酸化カリウム中で、５４℃（１３０°
Ｆ）において剥離させた。エッチングしたパネルに欠陥
がないかを最後に検査した。この試験の結果を表１に示
す。
【００１４】
【表１】 表 １ 配合（部） 成 分 実施例１ 実施例２ 実施例３ 実施例４ アクリルポリマー1 25.45 24.46 24.42 25.34 ＳＲ４８０ 12.01 12.35 11.71 11.82 ＢＨＴ 0.02 0.02 0.02 0.02 ＩＴＸ 0.56 1.03 1.16 0.89 ＥＤＢ 1.54 2.82 3.17 1.69 ＤＭＰＡＰ 1.54 2.82 3.17 1.69 ＢＣＩＭ 0.10 0.10 0.10 0.30 Ｍｏｄａｆｌｏｗ 0.62 0.33 0.33 0.32 C.I.ソルベントレッド49 0.063 0.066 0.064 0.063 C.I.ベーシックブルー３ 0.082 0.085 0.084 0.082 C.I.ベーシックグリーン 0.022 0.025 0.022 0.022 プロピレングリコール 57.99 55.89 55.75 57.77 メチルエーテルアセテート 評価特性 塗工性 ＋ ＋ ＋ ＋ 耐ブロッキング性 ＋ − − ＋感光速度(150mJ/cm2) SS2 SS6 SS6 SS8
【００１５】成分の説明 （１）：重量比が２2.２／６4.６／１3.２であるメタク
リル酸、メチルメタクリレート及びエチルアクリレー
ト、重量平均分子量45,000、酸価１３０〜１５０ ＢＨＴ：ブチル化ヒドロキシトルエン Ｍｏｄａｆｌｏｗ：ミズーリ州セントルイス、モンサン
ト社製 ＳＲ４８０：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレ
ート、ペンシルベニア州エクストン、サートマー社製 ＩＴＸ：イソプロピルチオキサントン ＥＤＢ：エチルジメチルアミノベンゾエート、ミシシッ
ピ州パスカゴウラ、ファーストケミカル社製 ＤＭＰＡＰ：ジメトキシフェニルアセトフェノン、ミシ
シッピ州パスカゴウラ、ファーストケミカル社製 ＢＣＩＭ：２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、マサチューセッツ州ロックランド、エスプ
リ社製
リル酸、メチルメタクリレート及びエチルアクリレー
ト、重量平均分子量45,000、酸価１３０〜１５０ ＢＨＴ：ブチル化ヒドロキシトルエン Ｍｏｄａｆｌｏｗ：ミズーリ州セントルイス、モンサン
ト社製 ＳＲ４８０：エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレ
ート、ペンシルベニア州エクストン、サートマー社製 ＩＴＸ：イソプロピルチオキサントン ＥＤＢ：エチルジメチルアミノベンゾエート、ミシシッ
ピ州パスカゴウラ、ファーストケミカル社製 ＤＭＰＡＰ：ジメトキシフェニルアセトフェノン、ミシ
シッピ州パスカゴウラ、ファーストケミカル社製 ＢＣＩＭ：２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−
４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイ
ミダゾール、マサチューセッツ州ロックランド、エスプ
リ社製
【００１６】上記の態様の広範な発明の概念を離れるこ
となくそれらに変更を加えることが可能であることは、
当業者に理解されるであろう。従って、本発明は、開示
された特定の態様に制限されるものではなく、特許請求
の範囲に記載の本発明の精神及び範囲内での変更をカバ
ーすることを意味するものであると理解されるべきであ
る。
となくそれらに変更を加えることが可能であることは、
当業者に理解されるであろう。従って、本発明は、開示
された特定の態様に制限されるものではなく、特許請求
の範囲に記載の本発明の精神及び範囲内での変更をカバ
ーすることを意味するものであると理解されるべきであ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リチャード ティー メイズ アメリカ合衆国 デラウェア州 19711 ニューアーク サウス ディルウィン ロ ード 262
Claims (9)
- 【請求項１】 ａ）バインダー、 ｂ）多官能価モノマー、 ｃ）光重合開始剤、及び ｃ）溶剤を含むレジスト材料であって、溶剤を除いた材
料の１０重量％以上の量で光重合開始剤が存在する、前
記レジスト材料。 - 【請求項２】 １０重量％〜１７重量％の量で光重合開
始剤が存在する、請求項１記載のレジスト材料。 - 【請求項３】 １０重量％〜１１重量％の量で光重合開
始剤が存在する、請求項１記載のレジスト材料。 - 【請求項４】 バインダーのＴｇが１１０℃以上であ
る、請求項１記載のレジスト材料。 - 【請求項５】 バインダーのＴｇが１１０℃〜１２０℃
である、請求項４記載のレジスト材料。 - 【請求項６】 溶剤がプロピレングリコールメチルエー
テルアセテートを含む、請求項１記載のレジスト材料。 - 【請求項７】 溶剤を除いた材料の５０重量％以上の量
でバインダーが存在する、請求項６記載のレジスト材
料。 - 【請求項８】 表面上にネガレジスト像を形成する方法
であって、 ａ）ｉ）バインダー、 ii）多官能価モノマー、 iii)光重合開始剤、及び iv）溶剤を含むレジスト材料であって、溶剤を除いた材
料の１０重量％以上の量で光重合開始剤が存在する前記
レジスト材料を、導体クラッドラミネート表面に塗工す
る工程、 ｂ）レジスト材料を加熱して実質上全ての溶剤をレジス
ト材料から除去することにより粘着性ドライフィルムを
形成する工程、 ｃ）粘着性ドライフィルムを化学線で像様露光して画像
を形成する工程、 ｄ）潜像をネガレジスト像に現像する工程を含む、前記
方法。 - 【請求項９】 ロールコーター、スクリーンコーター、
スピンコーター又はフローコーターによりレジスト材料
を塗工する、請求項８記載のネガレジスト像形成方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US31617194A | 1994-09-30 | 1994-09-30 | |
| US08/316171 | 1994-09-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08114917A true JPH08114917A (ja) | 1996-05-07 |
Family
ID=23227819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7252277A Pending JPH08114917A (ja) | 1994-09-30 | 1995-09-29 | 写真画像形成の可能な液状レジスト |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6342332B1 (ja) |
| EP (1) | EP0706091B2 (ja) |
| JP (1) | JPH08114917A (ja) |
| KR (1) | KR960011559A (ja) |
| CA (1) | CA2158915A1 (ja) |
| DE (1) | DE69506982T3 (ja) |
| HK (1) | HK1009987A1 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6136507A (en) * | 1998-03-12 | 2000-10-24 | Goo Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and photoresist ink for manufacturing printed wiring boards |
| JP2002278056A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-27 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
| KR100573354B1 (ko) * | 1998-08-03 | 2006-04-26 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 칼라 필터용 감방사선성 조성물 |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3971565B2 (ja) * | 2000-11-06 | 2007-09-05 | 富士通株式会社 | 半導体装置及び半導体装置初期設定方法 |
| EP1364367A2 (en) * | 2001-02-27 | 2003-11-26 | TDK Corporation | Method for producing photoresist master for optical information medium, and method for producing stamper for optical information medium |
| US6627309B2 (en) | 2001-05-08 | 2003-09-30 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive detackification |
| US7378225B2 (en) * | 2004-04-06 | 2008-05-27 | Kyle Baldwin | Method of forming a metal pattern on a substrate |
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