PT92737A

PT92737A - Processo para a preparacao de fitas de poliester compositos utilizaveis nomeadamente como suportes para material de gravacao magnetico

Info

Publication number: PT92737A
Application number: PT92737A
Authority: PT
Inventors: Etienne Fleury; Louis Vovelle; Dominique Gerwig; Sylvianne Traversier; Jean-Francois Fiard
Original assignee: Rhone Poulenc Films
Priority date: 1988-12-28
Filing date: 1989-12-27
Publication date: 1990-06-29
Also published as: US5476707A; DD291049A5; BR8907864A; ES2082846T3; FR2640983A1; CZ743589A3; AU4827890A; JPH04502479A; CZ282847B6; DE68925648D1; DE68925648T2; AU622261B2; EP0451179B1; HUT58357A; CA2006696C; KR970000944B1; MY104876A; IL92758A0; FR2640983B1; EP0451179A1

Description

RHONE-POULENC FILMS "PROCESSO PARA A PREPARAÇAO DE FITAS DE POLI-EÍSTER COMPÓSITAS UTILIZÁVEIS NOMEADAMENTE COMO SUPORTES PARA MATERIAL DE GRAVA-ÇAO MAGNÉTICO» A presente invenção tem como objecto películas de poliéster compósitas com faces lisas destinadas a receber, nomeadamente, um revestimento magnético, bem como materiais de registo magnético que daí resultam.

Em virtude das suas propriedades mecânicas e químicas, as películas de poliéster constituem um material de primeira es,.: colha como suporte para revestimentos de registo (gravação) mag, néticos (óxidos metálieos ou ligas metálicas). No entanto, as películas de poliéster não possuem propriedades de deslizamento, o que ocasiona dificuldades de preparação e, em particular, de laminagem, em consequência de haver um coeficiente de atrito elevado das películas que deslizam sobre si próprias ou sobre superfícies metálicas lisas fixas ou em movimento, tais como as presentes nos aparelhos de fabricação de películas (bobinas, ei lindros) ou nos aparelhos de reprodução dos sinais registados.

Para resolver o problema posto pela ausência de desliza mento das películas de poliéster, o meio mais utilizado consiste em comunicar-lhes uma rogosidade superficial por incorporação de partículas inertes de sais ou de óxidos metálicos que ori ginam asperezas na superfície das películas. Se, para numerosas aplicações, a presença dessas asperezas não é prejudicial, o mes; mo não acontece no domínio das películas magnéticas.

Com efeito, as irregularidades superficiais da pelíeu la de suporte traduzem-se por irregularidades superficiais do revestimento magnético e até |»ela. descontinuidade deste reve,s timento que provocam uma perda de informação no registo e/ou na leitura de informação.

Além disso, a adesão destas asperezas aquando da utilização repetida das películas magnéticas contribui igualmen-te para a sua deterioração.

Para resolver estes problemas, foi preciso realizar um compromisso entre as propriedades de deslizamento e a rugosida de superficial das películas pela escolha das quantidades de cargas a utilizar e das suas dimensões particulares. numerosas soluções foram propostas, que se revelaram satisfatórias para obtenção de películas de registo magnéticas de sons ou de imagens (películas vídeo), nas quais o revestimento magnético se realiza por deposição de um revestimento ma£ netico. Neste caso, a espessura da camada magnética é, em geral, suficiente para atenuar a topografia da superfície da pelí cuia de suporte.

Pelo contrário, estas soluções encontram rapidamente os seus limites quando se trata de fabricar películas de registo magnético com alta densidade de informações, nas quais o revestimento magnético, formado por evaporação de óxidos ou de ligas metálicas ou por revestimentos catódicos ("sputtering") é extre mamente fino, habitualmente compreendido entre 0,01 e 0,2 mierd metro.

Com efeito, convém, neste caso, utilizar películas cuja face que recebe o revestimento magnético deve ser praticamente lisa. Torna-se então difícil bobinar a película eir. virtude do aumento do seu coeficiente de atrito. Em definitivo no caso das películas magnéticas com elevada densidade de informação, torna-se difícil, se· não impossível, conciliar boas propriedades de maquinabilidade com boas propriedades de registo e de restituição da informação por incorporação de partículas sólidas na película de suporte,faz@nâo-se a melhoria de cada uma destas propriedade® em detrimento das outras.

Para tentar resolver este problema, foi proposta a uti lização de películas de suporte que apresentam uma face lisa e uma face rugosa. Contudo, verificou-se que a camada magnética era então deteriorada pela face rugosa adjacente quando se faz a armazenagem em bobina, sendo as irregularidades desta face impressas na camada magnética. A indústria diligenciou, portanto, sempre no sentido fle tentar descobrir um meio que permita conferir a uma película de poliéster de suporte, nomeadamente para revestimento magnético, simultâneamente pequena rugosidade superficial, boas propriedades de deslizamento e boa resistência â abrasão, que convenha, nomeadamente, para a fabricação de materiais de regis to magnético de alta densidade. A presente invenção propõe-se, precisamente, responder a esta necessidade.

Mais precisamente, a presente invenção tem como primeiro objecto películas de poliéster compósitas utilizáveis nomeadamente como suporte de. um revestimento magnético, constituídas por uma película de poliéster orientado, da qual pelo menos uma das faces possui um revestimento destinado a conferir-lhe boas propriedades de deslizamento e uma boa resistência à abrasão,

caracterizadas pelo facto de a película de poliester orientado, isenta de partículas minerais, ser de faces lisas e de o, referido revestimento ser constituído por um polímero modificado obtido por polimerização por radicais em fase aquosa de pelo menos um monómero de natureza acrílica na presença de uma quantidade eficaz de um poliester disseminável em água, derivado de pelo menos um ácido aromático diearboxílico e de pelo menos um diol alifático e que possui uma pluralidade de grupos sulfoniloxi de fórmula geral, (-S0 -)nM (I) na qual; - o símbolo n representa o número inteiro 1 ou 2 e - o símbolo M representa ura átomo de hidrogénio, de um metal alcalino ou alcalino-terrosoc&tiSo amónio ou um catiao amónio quaternário.

Por "poliésteres dissipáveis em água1', designam-se, Pã ra as finalidades da presente memória descritiva, poliésteres solúveis em água ou poliésteres que formam na água dispersões estáveis.

Por ''películas de poliester isentas de partículas mine rais" designam-se películas às quais não se adicionou nenhuma carga e que não contem outros componentes minerais, além dos resíduos dos catalisadores utilizados aquando das fases de transesterificação e de policondensação durante a preparação do poliester. A Requerente verificou, de maneira inesperada, que os polímeros modificados obtidos por polimerização de pelo menos um monómero de natureza acrílica na presença de um poliéster sulfonado conferem ãs películas de poliéster lisas, isentas de cargas, boas propriedades de deslizamento e, por consequência, uma boa maquinabilidade e, de maneira particular, uma boa bo-binabilidade. A Requerente verificou ainda que o revestimento de acordo com a presente invenção possui boa resistência à abrasão.

Estas películas compósitas são, portanto, especialmente convenientes como suporte de um revestimento magnético e, em particular, de um revestimento magnético com elevada densidade de informações, tais como as que se obtêm por evaporação ou revestimento catódico de metal.

Um segundo objecto da presente invenção consiste, por consequência, num- material de registo magnético que compreende uma película de poliéster orientada, um revestimento magnético e, em pelo menos uma das suas faces, um revestimento destinado a conferir ao conjunto boas propriedades de deslizamento e boa resistência ã abrasão, caracterizado pelo facto de o mencionado revestimento ser constituído por um polímero modificado obtido por polimerização por radicais livres em fase aquosa de pelo menos um monómero de natureza acrílica, na presença de uma quantidade eficaz de um poliéster dissipável em água, de rivado de pelo menos um ácido aromático áicarboxílico e de pelo menos um diol alifático e que possui uma pluralidade de grupos sulfoniloxi de fórmula geral: (-S°3~)nM (I) na qual: - o símbolo n representa o ndmero 1 ou 2 e - c símbolo M representa umcátomo de hidrogénio ou de 6 6 ,ν

um'metal alcalino ou alcalino-terroso, um catião amónio ou um catião amónio quaternário.

As películas de poliáster orientadas utilizadas como ‘ suporte de revestimento de polímero modificado nas películas compósitas de acordo com a presente invenção são as utilizadas habitualmente como suportes para a fabricação de materiais maj* náticos. São constituídas por poliásteres que resultam da po- licondensação de um ou vários ácidos aromáticos dicarboxílicos (ou dos seus derivados), tais como ácido tereftálifco,ácido isof tálico,, ácido naftaleno-2,ó-dicarboxílico com um ou vários al quilenoglicóis (etilenoglicolj 1,3-propilenoglicol; l^-butano-diol).

Quantidades menores de ácidos dicarboxílicos alifáticos (ácido adípico, por exemplo) ou de ácidos ciclohexano-dlcarboxí licos ou de dióis, tais como os dioxi-alquilenoglicóis ou tri-oxi-alquilenoglicóis, os dióis alifáticos ramificados (neopen-tilglicol), o ciclohexano-l^-dimetanol, podem ser associados aos diácidos e dióis de base. Sm geral, estes compostos não constituém mals do que 20 % em moles destes tíltimos. Utilizam-se, de preferência, poliásteres que possuem pelo menos 80 fa em moles de motivos derivados de pelo menos um ácido dicarboxílieo aromático e de etilenoglicol e, mais preferivelmente, pelo menos 80 $ em moles de motivos de tereftalato ou de naftaleno-dl- carboxilatos de etilenoglicol.

Gomo exemplos de poliásteres que são utilizados preferencialmente como suportes, pode citar-se o politereftalato de etilenoglicol, o politereftalato de l,WbutanodÍol, o polinaf-taleno-2,6-dicarboxilato de etilenoglicol.

As películas de poliáster orientadas utilizadas como su portes são obtidas de acordo com uma maneira clássica por ex-trusão de uma folha de poliéster amorfo, arrefecimento desta fo lha, estiramentos em uma ou duas direcções perpendiculares, ter mofixação e, caso assim se pretenda, tratamentos destinados è obtenção de películas equilibradas ou '•sobre-estiradas'.’.

Para realizar as películas compósitas de acordo com a presente invenção, utilizam-se, de preferência, películas de po liéster orientadas que possuem uma rugosidade Ra inferior ou igual a 0,01 mierómetro (a rugosidade Ra é medida de acordo com a Nona DIH k 768, nas condições que serão precisadas mais abaixo) e uma espessura menor ou igual a *K) micrdmetros e, de preferência, compreendidas entre 5 e 35 micrometros.

Os polímeros modificados utilizados para realizar o revestimento das películas compósitas de acordo com a presente invenção são produtos conhecidos, obtidos por polimerização radica lar em meio aquoso de pelo menos um mónómero acrílico na presença de um poliéster com grupos sulfoniloxi, dissipável em água Esses polímeros modificados e o seu processo de obtenção foram descritos, nomeadamente, no pedido de patente de invenção europeia N2 O.26O.203.

Os poliésteres com grupos sulfoniloxi dissipáveis em água são produtos conhecidos, descritos, nomeadamente, nas patentes de invenção francesas números ΙΛΟΙ.58Ι e 1.602.002 e no pedido de patente de invenção europeia número 0129.67^5 para as finalidades da presente invenção, pode recorrer-se aos poliésteres com grupos sulfoniloxi descritos nestas patentes de invenção.

Mais espeeificamente, os poliésteres dissipáveis em água são obtidos por polieondensação de um ou vários ácidos aromáti- cos dicarboxílicos com pelo menos mn ou vários didis alifáticos e pelo menos um composto bifuncional que possui pelo menos um grupo sulfoniloxi; seguidamente, por ma questão de comodidade de exposição, a expressão "grupo sulfoniloxi" designa tanto os grupos hidroxi-sulfonilo como os seus sais de metais al calinos, alcalino-terrosos ou de aaidnio deles derivados.

Entre os áeidos aromáticos dicarboxílicos utilizáveis para preparar os poliésteres dissipáveis em água, podem citar-se, a tí tulo de exemplos não limitativos, os ácidos tereftálico, isofta-lico, ftálieo, naftaleno-l^-dicarboxílico, i+,i+r-oxi-dibenzóico, bis-(if-hidroxicarbonil-fenil)-sulfona, di-(*+,b1 -hidroxicarbonil)--benzofenona. Estes ácidos podem ser utilizados sozinhos ou em mistura.

Entre os ácidos citados antes, utilizam-se, de preferência, os ácidos tereftálico e isoftálico sozinhos ou em combinação com os outros ácidos citados. As misturas de ácido tereftá lico com um ou vários dos outros ácidos dicarboxílicos aromáticos e, em particular, com ácido isoftálico, são partieularmente convenientes para obtenção dos poliésteres sulfonados dissipáveis em água. Neste caso, a quantidade de ácido tereftálico, expressa em moles, pode variar entre 20 e 99 % do mírnero total de moles de diáeidos não sulfonados e, de preferência, ent^e 30 e 95 %.

Para a preparação dos copoliésteres dissipáveis, ácidos dicarboxílicos alifáticos que possuem três a quinze átomos de carbono podem ser associados aos diáeidos aromáticos. Mais particularmente, todo ou parte do ácido aromático utilizado conjun tamente com o ácido tereftálico (por exemplo, ácido isoftálico) pode ser substituído por ácidos alifáticos, tais como ácido adi £ pico, suberico, sebácieo, succlnico, dodecanodióico.

Para a preparação dos poliésteres sulfonados dissipáveis em água, os ácidos dicarboxílicos podem ser substituídos, quando se realiza a policondensação, pelos seus derivados utilizados habitualmente neste tipo de reacção, nomeadamente ani-dridos, ésteres ou cloretos de ácidos. Utilizam-se, de preferência, ésteres e, de maneira particular, ésteres de metilo.

Como exemplos de diois utilizáveis para a preparação dos poliésteres sulfonados dissipáveis em agua, podem citar-se etilenoglicol, 1,2-butanodiol, 2,2-dinetil-l,3-propanodiol,' 1,5-pentanodiol, 1,6-hexanodiol, dietilenoglicol, trietileno-glicol, neopentilglicol, ciclohexano-dimetanol, tetraetileno-glicol, pentametilenoglicol, hexametilenoglieol ou decametile-noglicol. 0 etilenoglicol e os seus oligómeros são, de maneira muito particularmente apropriada, convenientes para a prepara-ção dos poliésteres sulfonados. E possível utilizá-los sozinhos ou em mistura entre si e/ou com outros dióis. As misturas de etilenoglicol e dos seus oligómeros de fórmula geral

H0-(CH2-CH2-0-)nH na qual o símbolo n representa um niímero inteiro compreendido entre 2 e 10, são as preferidas.

Os grupos sulfoniloxi de fórmula geral -S0.M são in-troduzidos no poliéêtêr por intermédio de um composto bifuncio nal, comportando um grupo sulfoniloxi, susceptível de reagir com os diácidos e/ou com os dióis durante a realização da policondensação.

São citados exemplos desses mondmeros na patente de in venção francesa número 1.602.002. Utiliza-se, de preferência, sais de metais alcalinos de ácidos aromáticos dicarboxílicos com grupos sulfonilóxi, tais como os dos ácidos sulfoisoftáli-co, sulfoftálico, *+-hidroxi-sulfonilo, naftaleno-2,7-dicarboxí lico ou os respectivos derivados e, em particular, os seus és-teres. A quantidade de composto bifuncional com grupos sulfo-nildxi presente no poliéster sulfonado, expresso em moles para um total de 100 moles de composto bifuncional da mesma natureza, está compreendida, de preferência, entre k & $0 % moles. "Sm geral, são convenientes quantidades de composto bifuncional sulfonado compreendidas entre 5 moles e 20 moles para um total de 100 moles de composto bifuncional da mesma natureza. Assim, quando se utiliza um sal alcalino do ácido 5-hidroxi-sulfonil-isoftálico, este composto pode constituir k a a 30 moles em re lação a um total de 100 moles de motivos de ácidos dicarboxílicos presentes no poliéster.

Os poliésteres dissipáveis em água descritos anterior- mente, são obtidos pelos processos correntes, por exemplo por meio da reacção do diol ou dos didis com uma mistura dos éste- res de metilo dos diferentes ácidos necessários, na presenja dos catalisadores usuais de transesterificação e depois policonden- sação dos ésteres de diúis assim obtidos. As quantidades de ca da um dos reagentes são calculadas para que a relajão entre o nú mero total de grupos hidroxilo alcodlicos para o número total de grupos carboxílicos esteja compreendida, de preferência, entre 2 e 2,5.

Os mondmeros acrílicos que se utilizam para a prepara- 11 ção dos polímeros modificados podem ser representados pela fór mula geral,

R

I CH2=C-Y (II) na qual - o símbolo R representa um átomo de hidrogénio ou um grupo alquilo inferior, eventualmente substituído por um grupo hidroxilo, - o símbolo Y representa um grupo funcional hidroxiear-bonilo, alcoxicarbonilo de fórmula geral -COOR^, na qual o símbolo R.^ representa um radical alquilo com um a vinte átomos de carbono, de cadeia linear ou ramifica da (eventualmente substituído por um radical hidroxilo); nitrilo; amida de formula geral -CQN(R2R^), na qual os símbolos R2 e R^, iguais ou diferentes, representam, ca da um, um átomo de hidrogénio ou um radical alquilo de cadeia linear ou ramificada, com um a vinte átomos de carbono.

Por "radical alquilo inferior'1, designam-se radicais alquilo que contêm um a quatro átomos de carbono.

Como exemplos específicos de radicais R^ e R2> podem ci tar-se os radicais metilo, etilo, n-propilo, isopropilo, n-buti lojisobutilo, butil tere., n-pentilo, n-hexilo, 2-etil-hexilo, decilo, dodecilo, octadecilo. Como exemplos de radicais hidro-xi-alquilo R^, podem citar-se os radicais hidroximetilo, 2-hi-droxietilo, 3-hidroxipropilo, ^-hidroxibutilo.

Na fórmula geral (II), o símbolo R representa, de pre- 12

ί ferência , um átomo de hidrogánio ou os radicais metilo ou hi-droximetilo.

Entre os derivados acrílicos de fórmula geral (I) que se podem utilizar para a preparaçãotdos poliásteres modificados podem citar-se, a título não limitativo, ácido acrílico,áci do metacrílico, aerilonitrilo, metacrilonitrilo, acrilamida, metacrilamida, N-metilacrilamida, acrilatos e metacrilatos de metilo, de etilo, de ϋ-propilo, de isopropilo, de n-butilo,de isobutilo, de 2-etil-hexilo, de estearilo.

Estes monómeros podem ser utilizados sozinhos ou sob a forma de misturas entre dois ou mais de dois derivados acrílicos, Como exemplo da associação de derivados acrílicos, podem citar-se as misturas constituídas por metacrilato de metilo/áci do acrílico e/ou ácido metacrílico, metacrilato de metilo/ácido acrílico ou ácido metaerílico/acrilato de etilo; metacrilato de metilo/acrilato de etilo/acrilamida/ou-metácrilámida; acril-amida/metacrilamida; acrilato de but11o/ácido acrílico; metacri lato de butilo/acrilato de etilo.

Cs compostos acrílicos podem ainda ser associados a uma quantidade menor de um ou de vários monómeros de etileno, tais como acetato de vinilo, cloreto de vinilideno, estireno, met11-estireno, os ácidos crotónico, itacónico, fumárico ou maleico, os sais de metais alcalinos ou alcalino-terrosos de ácidos sul-fónicos etilánicos, tais como os ácidos vinil-sulfónicos, alil-sulfónico , metalilsulfónico, estireno-sulfónico.

Calcula-se a quantidade de monómero etilánico não acrílico de maneira que, no copolímero obtido, o námero de motivos recorrentes deste monómero não acrílico, expresso em moles por 1 100 moles de monómero acrílico, seja, de preferencia, menor ou igual a 20 $ e, mais preferivelmente ainda, igual a 10 %. Quan tidades de motivos etilénicos que constituem 0,1 a 5 ^ si moles são muito convenientes.

Sem se sair do âmbito da presente invenção, pode-se associar a estes monómeros um ou mais monómeros susceptíveis de provocar uma reticulação da parte acrílica. Para este efeito, podem utilizar-se monómeros polietilénicos susceptíveis de re-ticularem sob a acção de geradores de radicais livres no deeur so da polimerização, ou então monómeros que provocam uma reticulação da parte acrílica por aquecimento, por exemplo durante o processo de obtenção da película revestida ou durante o tratamento térmico ulterior de película revestida.

Como exemplos de monómeros polietilénicos, pode citar--se ftalato de dialilo, divinilbenzeno, diaerilatos ou dimeta-crilatos de dióis, tais como dimetacrilato de etilenoglieol. Como agentes reticulantes sob a acção do calor, são convenientes hidroxi-alquil-(met)acrilamidas, tais como a N-metilolaeril amida e a N-metilolmetacrilamida. A quantidade de monómero reticulante expressa como se referiu antes, é de preferência inferior a 5 moles por 100 moles de monómero acrílico não reticulante. Em geral, está compreendida entre 0,1 e 3 % em moles.

Para a preparação dos polímeros modificados, opera-se em fase aquosa de acordo com as técnicas habituais de polimeri zação por radicais dos monómeros sem saturação etilénica. Em geral, a polimerização realiza-se por dispersão do monómero ou dos monómeros acrílicos em um volume conveniente de água, na

qual se introduz a quantidade necessária de um poliéster sul-fonado dissipável e, caso assim se pretenda, de um ou vários' agentes emulsionantes clássicos.

Com efeito, se bem que o poliáster sulfonado possa desempenhar ele próprio o papel de agente emulsionante que permi te efectuar a dispersão do mondmero ou dos monómeros em água, isso não exclui o recurso a agentes tensioactivos usuais,tais como, por exemplo, os sais de metais alcalinos de sulfatos de álcoois de cadeia comprida (lauril-sulfato de sódio, lauril--sulfato de etanolamina); os sais de metais alcalinos de ácidos sulfónicos com cadeias compridas $ os agentes emulsionantes não iónicos, tais como os polioxietilenoglieóis e os seus deri vados; os alquilfenóis alcoxilados, eventualmente sulfatados.. A polimerização inicia-se com o auxílio dos geradores de radicais livres habituais, tais como os compostos peroxida-dos : persulfatos, água oxigenada, peróxidos orgânicos (peróxi dos de lauroílo, de benzollo, hidroperóxido de t-butilo)$ os compostos azóicos (azo-di-isobutironitrilo); os sistemas redox, que associam um composto de peróxido, de preferência solúvel em água, e um agente redutor ; sais ferrosos (sulfato), sulfitos ou bissulfitos de metais alcalinos.

No meio reaccional podem estar presentes outros agentes auxiliares de polimerização usuais. Assim, pode trabalhar-se na presença de um agente limitador de cadeia usual, tal como os mercaptanos (dodecil-mercaptano, tetradeeil-mercapta.no) de maneira a regular o peso molecular do copolímero obtido em função das propriedades desejadas para o revestimento. A temperatura à qual se realiza a polimerização pode va 1 riar entre limites afastados. Em geral, é conveniente empregar uma temperatura compreendida entre 10 e 100°C e, de preferência, entre 20 e 80°C. 0 estudo do produto que resulta da polimerização de pelo menos um monómero acrílico, tal como se definiu anteriormen-te, na presença, de um poliéster dissipavel, permitiu verificar que o poliéster está ligado quimicamente ao polímero acrílico. Sem que a invenção em si esteja limitada de qualquer modo a um mecanismo reaccional particular, parece que o poliéster e o mo- . nómero acrílico ou os monómeros acrílicos reagem durante a poli merização com formação de um copolímero enxertado.

Para a obtenção das películas compósitas de acordo com a presente invenção, é preferível que, no produto que resulta da polimerização, o poliéster dissipével represente, pelo menos, 5 % em peso e, de preferência, pelo menos 10 % em peso do poliéster dissipavel/(co)polímero acrílico total. A presença de poliéster dissipavel não ligado quimicamente e/ou de (co)polímero acrílico livre não é prejudicial à realização prática do processo; portanto, não é necessário eliminá-los da emulsão obtida. A quantidade de poliéster dissipa'vel pode variar entre limites afastados. Em geral, tal quantidade pode representar até 60 % em peso do polímero dissipável/(co)polímero acrilico to tal. Uma quantidade de poliéster dissipavel compreendida, entre 10 e *+5 % em peso é muito conveniente. A concentração do poliéster dissipavel e do monómero ou dos monómeros polimerizáveis na fase aquosa de polimerização não é crítica e pode variar entre limites afastados. Esta concentra ção é escolhida em função da taxa de matéria sólida pretendida

pera a emulsão final e da taxa de pollmerização do monomero .ou dos monómeros nas condições de pollmerização. 0 produto aquoso obtido apos pollmerização pode ser uti lizado directamente para a realização pra'tica do processo de acordo com a presente invenção. Pode igualmente ser objecto de tratamentos diversos. Assim, no fim da pollmerização, pode pro ceder-se à eliminação dos monómeros não transformados pelos meios usuais.

Quando um ou vários dos componentes da mistura reaccio-nal possui funções ácido livres, estas últimas podem ser neutra lizadas por adição de uma base mineral ou orgânica; utiliza-sé, de preferência, uma base alcalina (soda cáustica, potassa cáustica), um hidróxido de amónio quaternário ou amoníaco. Pode tratar-se das funções de ácido sulfónico do poliéster dissipá-vel e/ou das funções de ácido carboxílico do (co)polímero acrílico. Podem ainda adicionar-se à emulsão assim obtida agentes auxiliares, tais como agentes estabilizantes ou agentes antiestá ticos. De acordo com uma variante, podem ainda introduzir-se na emulsão assim obtida agentes de retieulação externos conheci dos dos (co)polímeros acrílicos. A natureza dos agentes retieulantes depende da natureza do monómero acrílico ou dos monómeros acrílicos. Entre os agentes retieulantes preferidos, podem citar-se as resinas formofe-nólicas, as resinas de amina-formol, tais como os produtos de condensação de melamina/formol, ureia/formol, triazina/formol. A quantidade de agente reticulante está então, em geral, compreendida. entre 0,1 e 15 % em peso e, de preferência, entre 0,5 e 12 % em peso em relação ao peso total do poliéster dissipável e do (co)polímero acrílico presentes na emulsão. 0 produto resultante da polimerização e.presenta diversas formas, consoante a proporção e a natureza dos reagentes utilizados e/ou as condições de polimerização e/ou o tratamento final aplicado ao produto obtido.

Assim, os produtos que resultam da polimerização de um mondmero acrílico não ácido com uma quantidade apreciável de um ácido polimerizável /*ácido (aet)acrílicos, ácido crotónico _7, por exemplo pelo menos 5 % em moles do total dos monomeros poli merizáveis pode apresentar-se sob a forma de uma emulsão verdadeira quando os grupos ácidos carboxílicos são livres ou estão sob a forma de soluções aquosas mais ou menos viscosas quando os grupos carboxílicos são neutralizados por meio de uma das bases citadas antes e, em particular, por meio de unia base alcalina. A viscosidade das dispersões ou das soluções de polímeros modificados não e crítica e pode ser regulada à vontade, em função das necessidades, mediante modificação do seu teor em extrac to seco.

Sntre os copolímeros modificados utilizados para a obtenção das películas eomfídsitas de acordo com a presente Invenção utilizam-se, de preferencia, aqueles em que a parte acrílica tem uma composição tal que a : referiiâ parte originária um (co)-po-límero acrílico livre, tendo uma temperatura de transição vítrea compreendida entre cerca de 0°C a cerca de 100° C e, de prjj ferência, entre 0 e 80°C.

Verificou-se, com efeito, que os coeficientes de atrito estático e dinâmico película/película e pellcula/metal diminuem com o aumento de temperatura de transição vítrea (Tg) da parte

2â acrílico até um valor limite.

Verificou-se igualmente que a resistência h abrasão au menta com a diminuição da Tg da parte acrílica do copolímero modificado. Este dltimo é portanto escolhido de maneira a realizar-se o melhor compromisso entre coeficiente de atrito/re-sistência k·abrasão. Em geral, utilizam-se copolímeros modifl cados cuja Tg da parte acrílica é préxima da temperatura de utilizarão da película de suporte obtida. Im função desta tem peratura de utilização e da propriedade que se pretende favorecer, a Tg pode afastar-se mais ou menos desta temperatura de utilização, podendo por exemplo estar compreendida entre mais 40°C e menos 20°G de um lado e do outro da temperatura de utili zação e, de preferência, de mais ou menos 10°C.

No entanto, é possível obter coeficientes de atrito relativamente pequenos sem recorrer a Tg muito elevadas da parte acrílica, por modificação das propriedades visco-elásticas do polímero modificado. Esse resultado pode obter-se, nomeadamente, por reticulação da parte acrílica mediante utilização dos agentes reticulantes internos ou externos descritos anteriormen-te. À taxa de reticulação adequada é determinada facilmente pelos entendidos na matéria, em cada caso particular, em função da composição da parte polimerizável.

Muito embora seja preferível que o revestimento seja isento de cargas, verificou-se que é ainda possível compensar a influência do aumento dos coeficientes de atrito com a diminuição do valor da Tg ou a influência da diminuição da resistência k abrasão com o aumento da Tg incorporando no copolímero modificado cargas de polímero sob a forma de partículas sensi- velmente esféricas, sem aumentar desfavoravelmente a rugosidade da película obtida. A incorporação de cargas de polímeros tem ainda a vantagem de aumentar o intervalo de utilização de um copolímero modificado cuja parte acrílica tem um valor de Tg determinado.

Como carga, utilizam-se partículas sensivelmente esféri cas de polímeros de hidrocarbonetos, tais como poliolefinas (po lietileno,polipropileno), poliestireno, eopolímeros reticulados de estireno com um monémero de polietileno (divinilbenzeno por exemplo) ou polímeros acrílicos, tais como poliacrilatos e metacrilatos de alquilo, de preferencia reticulados (por exemplo o polimetacrilato de metilo reticulado por dimetaerilato de eti-lenoglicol).

As partículas esféricas de polímero tem um diâmetro médio inferior a 0,| micrémetro e, de preferência, compreendido entre 0,05 e 0,15 micrémetro.

Por "diâmetro médio das partículas", designa-se o diâme tro médio da distribuição de tamanho das partículas, determinado por micros copia com microscópio electrénieo de varrimento an tes da sua utilização. Estas partículas são isentas de esferas com diâmetro superior a 1 mierémetro. A quantidade de esferas de polímero introduzidas no polímero modificado depende da temperatura de transição vítrea deste último. Calcula-se de maneira a conferir à camada dorsal simultaneamente um coeficiente de atrito e uma rugosidade total sufientemente pequenas. Em geral, a quantidade de partículas esféricas representa, no máximo, 8 % em peso do polímero modifi / cado ra, de preferência, entre 0,5 e 5 % 9® peso. A formação da camada de revestimento sobre a película der poliéster pode realizar-se por meio das diferentes técnicas 1 conhecidas dos entendidos na matéria. Assim, a emulsão ou a soldção aquosa de polímero pode ser depositada por gravidade a partir de uma máquina de vazamento com fenda ou por passagem de película através da emulsão ou através da solução ou ainda por meio de rolos de transferência. A espessura da camada é controlada por qualquer meio apropriado. Â aplicação da camada faz-se quer antes do estiramento da película (revestimento em linha) quer apds estiramento antes ou depois da termofixação (aplicação em reprise). Prefere-se, no entanto, proceder à solicitação do revestimento da película de poliéster antes do estiramento ou entre duas operações de estiramento.

Antes dq aplicação do revestimento, a película de poliéster pode ser submetida a um tratamento superficial, escolhido entre os habitualmente utilizados e, mais particularmente, entre os tratamentos físicos. Assim, a face destinada a receber o'revestimento pode ser submetida à acção de descargas eléctri-cas (tratamento de coroa) ou de radiações ionizantes. No entan to, esses tratamento não são indispensáveis. A quantidade de composição aquosa de revestimento depositada sobre a película depende, por um lado, do seu teor em ex tracto seco e, por outro lado, da espessura pretendida para o re veatimento da película acabada, isto é, auõs estiramento e termg fixação quando a aplicação do revestimento se realiza em linha. Ssta quantidade depende igualmente do momento da aplicação do revestimento; evidentemente, deve ter-se em linha de conta a va rieçao da espessura do revestimento antes e depois do estiramento, quando.a aplicação do revestimento se realiza antes do estiramento. A espessura do revestimento acabado pode vâfíar entre limites afastados. No entanto, verificou-se que o coeficiente de atrito aumenta ate certo limite com a espessura do reves timento e que, por consequência, não é indicado que o revestimento dorsal possua uma espessura superior a 1 micrtímetro. Por outro lado, se a espessura do revestimento for demasiadamente pequena, a película de poliester composita torna-se difícil de bobinar como consequência de irregularidade do revestimento. Festas condições, é preferível que a espessura do revestimento de polímero modificado se,ja igual ou maior do que 0,05 micrtfme-tro e inferior a 0,7 micrdmetro. De preferência, está compreendida dentro do intervalo de 0,1 a 0,5 micrometro.

Depois da aplicação do revestimento, a película de poli éster é tratada a quente para eliminar a água contida no revestimento e, caso assim se pretenda, para provocar a reticulação do polímero.

Fo caso de a aplicação do revestimento ser feita em linha, não é necessário, em geral, proceder a um tratamento térmi co; a secagem e, eventualmente, a reticulação realizam-se dursn te o estiramento e a termofixação. Não há, no entanto, afastamento do âmbito da presente invenção procedendo, neste caso, an tes de se efectuar o estiramento e a termofixação, a um tratamento térmico suficiente para provocar a coalescência do látex e a sua secagem. 0 revestimento de polímero modificado pode aplicar-se

só numa das faces ou nas duas faces da película de poliéster de suporte lisa. Neste: último caso, o revestimento situado na face destinada a receber o revestimento final e, em particu lar, o revestimento de material magnético, contribui para melhorar a aderência ao suporte. A obtenção das películas de registo magnético de acordo com a presente invenção realiza-se por aplicação de uma subs tlncia magnética sobre uma das faces das películas de poliés-ter compésitas, procedendo de acordo com processos conhecidos.

Muito embora se possa realizar a aplicação de revestimento utilizando um revestimento magnético constituído por uma substancia ferromagnética, tal como óxidos de ferro, de níquel, de cobalto, de crómio e suas misturas, dispersos num ligante polimérico, as películas de poliéster de acordo com a presente invenção são particularmente convenientes para a obtenção de películas com elevada densidade de informações, por deposição de um revestimento magnético fino por técnicas de evaporação de metal ou de metalização iónica.

Previamente à aplicação do depósito de revestimento ma£ nético, a película de poliéster compósita pode ser submetida a diversos tratamentos para melhorar as suas propriedades. Assim, pode sofrer um tratamento de coroa para aumentar as suas proprie dades de adesão ao revestimento magnético. Com esta mesma finalidade, é ainda possível aplicar-se-lhe uma camada de um primário de aderência.

Para este efeito, podem utilizar-se numerosas composições descritas na literatura e bem conhecidas dos entendidos na matéria. Todavia, verificou-se ser particularmente simples em-

pregar soluções ou dispersões aquosas de poliésteres sulfona-dos modificados por monómeros acrílicos, descritos antes, de acordo com as indicações do pedido de patentb de invenção europeia Ns 0 26o 203.

Para este efeito, pode utilizar-se uma película compósita de acordo com a presente invenção que possui sobre cada urna das faces urna camada de copolímero modificado; a camada presente na face destinada a receber 0 revestimento magnético (face inferior) desempenha o papel de primário de aderência e a camada presente na face oposta (face superior) garante a ma-quinabilidade da fita magnética. A composição do revestimento das faces inferior e superior pode ser idêntica ou diferente. Assim, 0 revestimento da casada inferior pode ser isento de cangas ou a parte acrílica e/ou a parte de eopoliéster -sulfona-do pode ser diferente numa e na outra das faces devido à sua composição.

Quando uma dnica face da película compósita possui 0 rg. vestimento de copolímero modificado, 0 revestimento magnético é depositado, de preferencia, na. sua face oposta, que se torna a face inferior da fita magnética. Todavia, não se verifica o afastamento do âmbito da presente invenção se se depositar 0 re vestimento magnético sobre o revestimento.de copolímero modificado.

Se bem que ae películas compósitas sejais muito particu-larnsnte convenientes para a obtenção de fitas magnéticas, elas podem ser utilizadas como suporte de outros revestimentos finais que exigem a utilização de suportes de pequena rugosidade.

As películas magnéticas assim obtidas podem seguidamen

te ser transformadas em materiais de registo magnético, tais como fitas ou discos, por meio de técnicas usuais.

Os exemplos seguintes ilustram a invenção e mostram co mo ela pode ser realizada na prática. Nestes Exemplos, proce-deu-se h. determinação das propriedades das películas eompési* tas, propriedades que se indicam seguidamente. 1) Rugosidades a) Desvio médio aritmético: Rugosidade Ra Çou (CIA)

Ista característica, definida na Ncrma DIN ^.768,foi determinada utilizando um aparelho PERTHEN S6P e procedendo de acordo com o método descrito nesta norma e nas seguintes condições j - valor de comprimento de onda de corte (“cut-off»») s 0,08 mi-crdmetro 5 - comprimento de apalpaçao; 1,7? mm - raio de curvatura do apalpador 5 5 micrómetros - força de apoio do apalpador ; !?0 mg.f. 0 resultado apresentado é a média de trinta medições diferentes efectuadas em perfis que distam 20 micrómetros

b) Altura máxima dos^picos superficiais HM A altura máxima dos picos da superfície foi determinada mediante interferometria de acordo com NOMARSKI, utilizando luz branca. Para esse efeito, utilizou-se um microscópio MACHST NS M>0, equipado com um interferometro NOMARSKI, e com uma objectiva com ampliação de 80 c) Rugosidade tridimensional éptiea SRa e SRz A rugosidade SRa representa o desvio médio aritmético da rugosidade superficial em relação ao plano médio, expressa em micrometros (trata-se da extensão da rugosidade Ra em relação a uma superfície!. A rugosidade SRz é o desvio entre dois planos médios paralelos; - um plano médio superior definido pela média dos cin co picos mais altos; - um plano médio inferior definido pela média das cin co depressões mais profundas.

As rugosidades SRa e SRz foram determinadas por meio de um aparelho da marca SbRFCORDER ET-30 HK, retirado da unidade de tratamento SPA 11 da Soeiedade KOSAKA Laboratories Ltd. e de um captador de tipo éptico de marca HIPOSS, nas seguintes condições: - comprimento de onda de corte ("cut-off") ; 0,08 micrometro; - ampliação : x 20 000; - velocidade de apalpação ; 20 micrémetros/segundo; - comprimento de apalpação : 0,2$ mm com um passo de amostra gem de 0,5 micrémetro; - mftnero de perfis: 150 com um passo entre perfis igual a 0,5 mierémetro; - superfície ensaiada : 0,25 mm x 0,075 mm - ganho : 1; 26

- histerese ; 1. 2) Coeficiente de Atrito a) Película sobre película : gps e j|id

Mede-se o coeficiente de atrito estático (ps) no início de funcionamento e o coeficiente de atrito dinâmico ( jiâ) em regime de uma película que se desloca sobre uma outra pelí cuia, procedendo de acordo com a Norma ASTM D 189^.78» utilizando um aparelho DAVENPORT, nas condições seguintes: 0,3 x 6,3 cm 200 g .5 g/cm2 15 cm/minuto 13 cm - superfície de contacto ____ - tensão da fita ........... - pressão .................. - velocidade ............... - comprimento solicitado .... b) Película sobre metal : A determinação de ^ik realizou-se de acordo com o método descrito na página 11, parágrafo 3> do pedido de patente de invenção europeia N2 0 66 997> nas seguintes condições: - diâmetro de bobina fixa ... 10 mm - largura da fita ........... 2,5 cm - velocidade de passagem .... 5 m/minuto - tensão da fita ............ 200 g - duração ................... 20 minutos

- temperatura ............... 25°C humidade relativa 35 % - 2 - área de contacto .............. 5 cm2 - ângulo de inserção sobre a bobina 205°. A frequência da solicitação em corte é da ordem de 5 Hz. c) Coeficiente de atrito estático ( p.s) e dinâmico ( jid) película/metal São determinados de acordo com o método designado por "SHQE-SHINE*', descrito no pedido de patente de invenção japonesa J 63 28627, utilizando um aparelho análogo ao descrito no mencionado pedido de patente de invenção, nas seguintes condições í - diâmetro de bobina ....... 6 mm - largura da fita .'......... 1,27 cm - velocidade de passagem —— 0,9 m/minuto - tensão .................... 50 5 - duração .................. 15 minutos

- temperatura .............. 25°C - humidade relativa ·........ 35 % - área de contacto ......... 1,27 x 0,7 cm2. A frequência da solicitação em corte é da ordem de 1 Hz. Na parte seguinte da presente memória descritiva, Tg designa a temperatura de transição vítrea do copolímero aeríli co livre.

Exem- 28

EXEMPLOS

Exemplo 1 1) Preparação de um Gopoliester Sulfonado Modificado

Utilizando o processo descrito no Exemplo 1 do pedido de patente de invenção europeia Νβ 0 26o 203, préparou-se um copoliéster sulfonado modificado por polimerização em meio aquo so de uma mistura de metacrilato de metilo (MAM), de acrilato de etilo (AE), de ácido metacrílico (AMA), de vinil-sulfonato . de sodio (VS) e de acetato de vinilo (AVM), na presença de um copoliáster sulfonado obtido a partir de: - 0,52^ mole de ácido isoftálico, - 0,3M3 mole de tereftlato de dimetilo, - 0,128 mole de sal de sádio do ester dimetílico do ácido 5-sulfo-isoftálico e - 2,3 moles de etilenoglicol, e com um índice de viscosidade igual a 556, medido a 25°C numa solução contendo 1 grama de polímero em 100 ml de uma mistura de fenol/o-clorofenol, numa proporção ponderai de 50/50. Este poliáster sulfonado de peso molecular mádio em número igual a 17 000 tem um teor de dietilenoglicol igual a 13 % em peso. 0 látex assim obtido tem uma taxa ponderai de extracto seco igual a ^2,9 % cuja composição ponderai 4 a seguinte: MAM 3*+ % AE 25,5 % AMA 7,5 % ? - AVM 3 >5 % - vs 0,5 fo - copoliester sulfonado 29 %. O polímero modificado assim obtido tinha uma tempera tura de transição vítrea igual a 55°C e o látex tinha uma viscosidade absoluta igual a 0,^+5 poise. 2) Preparação de.uma Película de Poliester Compósita

Dilui-se o látex obtido antes mediante adição de água destilada para se obter uma concentração de extracto seco igual a 10 % em peso. Em seguida, sobre uma película de poliáster bi-estirada, com 30 mierdmetros de espessura, deposita-se uma camada de látex com k mierdmetros de espessura, por meio de um aparelho HAND-COATER, equipado com uma barra roscada mkero 0. A película revestida e seguidamente seca sob tensão a 120°C du rante trinta segundos. A espessura do revestimento depois da secagem e igual a 0,5 mierdmetro. A película de poliáster submetida à aplicação de reves timento foi obtida por extrusio, estiramento longitudinal e depois transversal e, seguidamente, termofixação de um polite reftalato de etilenoglicol isento de carga e que possui um ín dice de viscosidade igual a 650. A rugosidade Ra da pelícu la de suporte assim obtida e, antes da aplicação do revestimento, inferior a 0,01 mierdmetro. A respectiva rugosidade SRa, medida como se indicou antes, é igual a 0,016 micrometro. 30

& 3) Determinação das Propriedades Superficiais da Película Compósita . Coeficientes de atrito

Os coeficientes de atrito estático e dinâmico pelícu-la/metal, determinados pelo método de "SHOS-SHINS" referido antes, têm os seguintes valores: - yus : 0,^5 - /ug : 0,^2 * HM : 0,C5 micrémetro . Resistência k abrasão : excelente* 0 exame das partes abrasionadas por mieroscopia eléc-trénica de varrimento mostrou a existência de uma excelente resistência k abrasão do revestimento da face superior : observa-ram-se apenas algumas raras partículas soltas resultantes do desgaste.

Exemplos 2 a k 1) Preparação de foliésteres Sulfonados Modificados

Operando de acordo com a maneira de proceder que se des creveu no Exemplo 1, prepararam-se três copoliésteres sulfonados modificados que diferem na sua composição e na respectiva temperatura de transição vítrea. A polimerização dos mondmeros etilénicos realizou-se eventualmente na presença de dodecil terc.-mercaptano (tDDM) como agente limitador de cadeia. Obtiveram-se deste modo três lá-tices designados seguidamente por Li, L2 e L3 que possuem, res- 31 / » ί pectivamente, Μ),1, 39,9 e ί+1 <f0 era peso de extracto seco constituídos por copoliásteres modificados Pl, P2 e P3 que têra a „ composição e a temperatura de transição vítrea indicadas no quadro 1.

Quadro 1 ESP ATM AcC AMA AS ABu MAM PS NKMA tDDM] SS Tg . <*)! <°«; Çl) (2) (3) w (6). 05) . Pl 0 G 2 0 22 56 20 0 0 >0,1 1+2 : P2 0 0 2 0 k2 36 20 0 0 ‘39,9 8 ’ P3 * 0,6 8,8 32 Λ 0 39,6 20 2> 0,32>1 35 ‘ (1) - ácido crotónico 5 (2) - acrilato de butilo ¢3) - copoliéster sulfonado (*+) - N-metilol-metacrilamida utilizada como asrente de reticulação; (5) - da parte acrílica (6) - percentagem em peso em relação ao total dos monó- meros. 2) Preparação de uma Película de Polláster Compósita

Procedendo de acordo com a técnica que se descreveu no Sxemplo 1, prepararam-se películas compósitas por depósito dos látices Pl, P2 e P3, previamente diluídos para diminuir a sua concentração em extracto para 10 $ em peso, sobre a película

de poliester do Exemplo 1. A espessura do revestimento após secagem e, em todos, os casos, igual a 0,5 micrómetro.

As películas compósitas assim obtidas são designadas, respectivamente, por CPI, GP2 e CP3. 3) Determinação das Propriedades Superficiais . Coeficiente de atrito

Os valores de με e de jid determinados pelo mótodo de "SHOE-SHINE" estão resumidos no Quadro 2 seguinte:

Quadro 2 * EX Película Compósita Fs jid HM : 2 CPI 0Λ5 0,lf2 <0,0*+ pn : : 3 : CP2 0,9 o n* Oo <0,0** jam : : k : CP3 0,37 0,35 < 0,0*+ pm :

Verificou-se que os coeficientes de atrito aumentam com o abaixamento da temperatura de transição vítrea da parte acrílica.

Resistência à abrasão a atrito mostra que o compó são superior a dos compósi- 0 exame das partes sujeitas ito CP2 tem uma resistência à abra

tas CPI e CP3·

Exemplo 5 X) Preparação de uma Película Compósita

Prepara-se uma película compósita de referência C2P^ por revestimento em linha de uma película de P1T sem adição de cargas com o auxílio do látex Ll aplicado sobre a película entre a operação de estiramento longitudinal e de estiramento transversal. As condições de formação de película são as seguintes: - estiramento longitudinal . taxa 3»*+

. temperatura: 75 °C

estiramento transversal . temperatura: 110 - 120°C

termofixação : 210°C (as películas virgens obtidas nas condições atrás referidas possuem uma rugosidade SRa igual a 0,016 micrómetro). A aplicação do revestimento realiza-se por passagem da película de PST monoestirada entre um rolo de aperto de borracha e um rolo de compressão de borracha, estando o rolo de tracção em contacto com um cilindro gravado que roda no látex Ll (sistema HELIO-RSPORT). A película monoestirada revestida passa em seguida através de uma zona de pré-aquecimento a 95°C, na qual se efectua a secagem do revestimento, e depois é estirada no sentido transversal, submetida a termofixação e bobinada. Obteve-se desta forma uma pe líeula revestida bobinada sem dificuldade, com a espessura total igual a 9 mierdmetros e cuja espessura de revestimento superior era igual a 0,25 mierómetro. 2) Propriedades da Película CompcSsita C2P1 * Coeficiente de atrito

Película/Metsl Pelíeula/felícula 0,63 0,5 μα 0 ,k5 μ d 0,½ - jik 0Λ3 . Rugosidade : HM ^0,0½ mierdmetro; . Resistência à abrasão ; boaj . Bobinabilidade : excelente.

Exemplo 6

Repetiu-se o Exemplo 5, depois de se ter diluído de metade o látex LI para fazer com que a respectiva concentração em extracto seco fosse igual a 20 % em peso. Obteve-se uma pelíeu la compósita C3P1, cujo revestimento superior tem uma espessura de 0,12 micrdmetro e que possui as seguintes propriedades: • Coeficiente de atrito Película/Metal Pelíeula/Pelíeula 0,77 0,5½ ^as 0yk2 μά 0,½ júl 0,½ . . Rugosidade : HM í^.0,01*- micrémetro . Resistência à abrasão : boa . Bobinabilidade j excelente.

Exemplos 7 e 8

Prepararam-se duas películas compósitas C2P3 e C3P3 por revestimento em linha da película de PET do Exemplo 5, de acordo com o processo descrito neste exemplo, a partir do látex L3 com kO % e depois com 20 % de extracto seco. As pelí cuias compdsitas possuem as seguintes propriedades :

Atrito película/metal : Bobinabilidade5 Resistência5 JXS yâ à abrasão : : C2P3 5 οΛ3 0,35 o,5 5 boa boa 5 : C3P3 ; 0,k 0,35 οΛ : boa boa í

Exemplos'9 a 13

Preparou-se uma série de películas de polidster compósitas utilizando a maneira de proceder que se descreveu no Exem pio 5j a partir dos látices LI (teor de extracto seco igual a 20 %), £3 (teor de extracto seco igual a 20 %) e L2 (teor de extracto seco igual a 20 %), depois de lhes ter adicionado quantidades variéveis de esferas de poliestireno de diâmetro médio igual a 0,15 micrdmetro.

As películas compósitas assim obtidas possuem as ca racteristícas que se indicam no seguinte Quadro :

Qua- I Μ β «β CC β {β (β (Η ο ο ο ο ο PQ 63 < Ο ρ β β β β 53 *4 ο ο ο ο ο Μ β -Ρ -Ρ β β β W ♦Η ♦Η •Η •Η •Η Ο pi pi pi Ρ! Μ a a a a a γΗ t—1 (Η I I ?—1 ΗΜ *χ *Χ «V «V •χ ο Ο ο Ο ο <5 ri ι_!3 ο H ιχ 03 IX \0 03 κ β· β- β· β- β- % •X Ο #χ ο •χ ο •X Ο «X Ο ο !Ξ§ FH Μ ο β ΙΓ\ \ο Ον β Η Ο- νθ Ό ΙΓΝ ΙΓ\ Η β 03 ο «V •X <Χ «X *4 Μ PU α ο ο ο Ο íXt 63 >· ·· Ο CM β* X 03 m 03 OJ β" 03 #Ν #χ «·» #χ •X Η β PU Ο ο Ο ο Ο ΕΗ <4 s Η 63 β UN ΐτ\ Μ rΟ m CVII 04 β- Ο Ό *χ «X r* •X Η «4 3. Ο ο ο ο ο β ri m Ρ ο ο ο Μ β C\J β to 03 03 03 CM β s> #ν #χ »χ #χ β Ο Ο ο ο ο 63 03 /-Ν β <4 κ 3 β & a w Ο 63 λ φ ® a. ιΗ β- Η β· β· β ο. ο β 03 Ο β ^ Ο X <4 63 β a ο Ο Ο ο ο R β 03 β β <Λ1 CM *4 X φ β β w β 03 β Η 1—1 03 03 β β β β β β • r\ « SI β Ο X β β β Ο ο ι—1 CM 03 Η I—1 γΗ Η

Η

Claims

38 7 REI V I N D I C A g δ E S 1.- Processo para a preparação de fitas de poliéster compósitas, utilizáveis nomeadamente como suporte de um revestimento magnético, constituídas por uma película de poliéster orientada de que pelo menos uma das faces compreende um revestimento destinado a conferir-lhe um bom deslizamento e uma boa resistência à abrasão, caracterizado pelo facto de se proporcionar faces lisas à película de poliéster orientada, isenta de partículas minerais, de se obter o referido revestimento a partir de um polímero modificado preparado por polimerização por radicais em fase aquosa de pelo menos um monómero de natureza acrílica na presença de uma quantidade eficaz de um poliéster dissipável na água, derivado de pelo menos um ácido aromático dicarboxí1ico e de pelo menos um diol alifático e que comporta uma pluralidade de grupos sulfonilo- 3> xi de fórmula geral (-S03-)nM (I) na qual o símbolo n representa o número 1 ou 2 e o símbolo M representa um átomo de hidrogénio, um átomo de metal alcalino ou alcalino-terroso, um catião amónio quaternário.
2.- Processo de acordo com a reivindicação 1, caraterizado pelo facto de a película de poliéster orientada de suporte ter uma rugosidade Ra inferior ou igual a 0,01 micrómetro.
3.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 e 2, caracterizado pelo facto de a película de poliéster orient_a da de suporte ser constituída por um polímero que compreende pelo menos 80 por cento em moles de motivos derivados de pelo menos um ácido aromático dicarbocílico e de etilenoglicol.
4.- Processo de acordo com a reivindicação 3, caracterizado pelo facto de a película de poliéster orientada de suporte ser constituída por um polímero que possui pelo menos 80¾ em moles de motivos de tereftalato de etilenoglicol ou de naftaleno-dicarboxi- lato de etilenoglicol. 3.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo facto de a película de poliéster orientada de suporte ter uma espessura inferior ou igual a 40 micró-metros.
6.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo facto de o poliéster dissipável utilizado ser um copaliéster que possui uma pluralidade de motivos derivados de pelo menos dois ácidos dicarboxílicos, um dos quais comporta pelo menos um grupo sulfoniloxi na molécula e uma pluralidade de motivos derivados de pelo menos um diol alifático.
7.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações la 6, caracterizado pelo facto de o número de motivos derivados de um ácido dicarboxílico com grupos sulfoniloxi estar compreendido entre 4 e 30 por um total de 100 motivos derivados de ácidos dicarboxílicos. Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo facto de o poliéster dissipável ser um copoliéster que compreende uma pluralidade de motivos deriva-· dos de pelo menos um ádico dicarboxílico não sulfonado escolhido do grupo dos ácidos tereftálico, isoftálico e ftálico.
9.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo facto de o poliéster dissipável ser um copoliéster que compreende uma pluralidade de motivos derivados dos ácidos tereftálico e isoftálico.
10. - Processo de acordo com a reivindicação 9, caracteriza-do pelo facto de o poliéster dissipável ser um copoliéster em que 0 número dos motivos de tereftalato representa 20 a 99% do número total dos motivos de tereftalato e de isoftalato.
11. - Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo facto de o poliéster dissipável na água comportar uma pluralidade de motivos derivados do ácido 5-sulfo-isoftálico.
12. - Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo facto de o poliéster dissipável compreender uma pluralidade de motivos derivados de pelo menos um diol alifático escolhido do grupo constituído pelo eti1enoglico1 e os seus oligómeros de fórmula geral HQ-(CH2-CH2-0-)nH na qual o símbolo n representa um número inteiro de 2 até 10.
13.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 12, caracterizado pelo facto de o monómero de natureza acrí-

lica possuir a fórmula geral R I CH2 = C-Y (ΙΠ na qual o símbolo R representa um átomo de hidrogénio ou um grupo alquilo inferior eventualmente substituído por um grupo hidroxilo; e 0 símbolo Y representa um grupo funcional hidroxicarbonilo; alco-xicarbonilo de fórmula geral -COOR^ na qual o símbolo R^ representa um radical alquilo contendo la20 átomos de carbono, de cadeia linear ou ramificada (eventualmente substituído por um radical hidroxilo) nitrilo; amida de fórmula geral -C0N(R2> R3) na qual os símbolos R2 e R3, iguais ou diferentes, representam, cada um, um átomo de hidrogénio ou um radical alquilo de cadeia linear ou ramificada com 1 a 20 átomos de carbono. '14.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 13, caracterizado pelo facto de 0 monómero acrílico ser escolhido no grupo formado pelo acrilato de metilo e 0 metacrilato de metilo, 0 acrilato de etilo e 0 metacrilato de etilo, os ácidos acrílico e 0 metacrlico, as acrilamida e metacrilamida.
15.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 14, caracterizado pelo facto de se associar uma quantidade menor de um ou vários monómeros etilénicos não acrílicos ao monómero 43 acrílico.
16.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 15, caracterizado pelo facto de se associar pelo menos um monó mero reticulante aos monómeros acrílicos de fórmula geral (II).
17.- Processo de acordo com a reivindicação 16, caracteriza-do pelo facto de a quantidade de monómero reticulante constituir até 5 por cento em moles de monómero ecrílico de fórmula geral (II).
18.- Processo de acordo com a reivindicação 16, caracteriza-do pelo facto de o monómero reticulante ser um monómero polietilé-nico.
19.- Processo de acordo com a reivindicação 16, caracteriza-do pelo facto de o monómero reticulante ser uma hidroxialquil (met_) acrilamida.
20.- Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 19, caracterizado pelo facto de o polímero modificado conter 0,1 a 15 por cento em peso de pelo menos um agente reticulante externo escolhido do grupo formado pelas resinas formofenólicas e as resinas de aminas-formo1. 21 . -
21. - Peocesso de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 20, caracterizado pelo facto de a parte acrílica do polímero modificado possuir uma temperatura de transição vítrea compreendida entre 0 e 100°C.
22. - Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 21, caracterizado pelo facto de o polímero modificado conter até 8/ó em peso de cargas de polímeros sensivelmente esféricas de diâmetro médio inferior a 0,2 micrómetro.
23. - Processo de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 22, caracterizado pelo facto de a camada de revestimento de polímero modificado ter uma espessura compreendida entre 0,03 e 1 micrómetro.
24.- Processo para a obtenção de.películas de poliéster compósitas de acordo com uma qualquer das reivindicações 1 a 23, caracterizado pelo facto de se proceder ao revestimento de pelo menos uma face de uma película de poliéster orientada de suporte com uma composição aquosa de polímero modificado.
23.- Processo para a obtenção de películas compósitas de acordo com a reivindicação 24, caracterizado pelo facto de o polímero ser empregado sob a forma de uma dispersão aquosa. 26 .- 45
26. - Processo para a obtenção de películas compósitas de acordo com a reivindicação 24, caracterizado pelo facto de o polímero modificado ser empregado sob a forma de uma solução aquosa obtida mediante neutralização por intermédio de uma base alcalina dos grupos de ácidos carboxílicos livres presentes no polímero modificado da dispersão aquosa.
27. - Processo para a obtenção de películas compósitas de acordo com a reivindicação 24, caracterizado pelo facto de o reves timento da película de poliéster orientada de suporte se realizar antes de qualquer estiramento ou entre duas operações de estiramento da película de suporte.
28.- Processo para a preparação de material para gravação magnética, compreendendo uma película de poliéster orientada, um revestimento magnético e, pelo menos numa das faces, um revestimen_ to destinado a conferir ao conjunto boas propriedades de deslizamento e uma boa resistência à abrasão, caracterizado pelo facto de o referido revestimento ser constituído por um polímero modificado obtido por polimerização por radicais em fase aquosa de pelo menos um monómero de natureza acrílica na presença de uma quantidade eficaz de um poliéster dissipável na água, derivado de pelo menos um ácido dicarboxí1ico aromático e de pelo menos um diol alifático e que compreende uma pluralidade de grupos sulfoniloxi de fórmula C] o 1' a ]

(I) (-S03-)nM na qual o símbolo nrepresenta o número inteiro 1 ou 2 e o símbolo M representa um átomo de hidrogénio, de um metal alcalino ou alcalino-terroso, um catiao amónio ou um catião amónio quaternário.
29.- Processo de acordo com a reivindicação 28, caracteriza-clo pelo facto de a camada magnética depositada por evaporação ou metalização iónica possuir uma espessura inferior a 0,2 micróme-t ro , Lisboa, 27 de Dezembro de 1989 O Agsite Oficial da Prcpr saade Industrial