KR100316985B1 - 대전방지성폴리에스테르필름및대전방지성필름적층체 - Google Patents

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Abstract

폴리에스테르 필름의 적어도 단면에 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체를 주성분으로 하는 대전방지제(A) 로 형성된 대전방지층이 형성되어 있는 대전방지성 폴리에스테르 필름으로서, 그 화학식 I 중, R1및 R2는 각각 H 또는 CH3, R3는 탄소수가 2 ∼ 10 인 알킬렌기, R4및 R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기, R6는 탄소수가 2 ∼ 5 인 알킬렌기, n 은 0 ∼ 40 의 수, m은 1 ∼ 40의 수, Y-는 할라이드 이온, 모노 또는 폴리할로겐화 알킬 이온, 니트레이트 이온, 술페이트 이온, 알킬술페이트 이온, 술포네이트 이온 또는 알킬술포네이트 이온을 나타낸다. 이 필름은 대전방지성, 배면전사성, 회수성, 내마모성 및 내블로킹성이 우수하기 때문에, 그 표면에 자성층 및 자외선 경화 잉크층을 적층하여 자기 카드 용도에 사용하는 데에 적합하다.
[화학식 I]

Description

대전방지성 폴리에스테르 필름 및 대전방지성 필름 적층체
폴리에틸렌테레프탈레인트나 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 등의 폴리에스테르로 이루어진 폴리에스테르 필름은, 자기 카드용 필름으로 포장 재료, 사진 재료 또는 그래픽 재료 등의 일반 공업 재료용 또는 자기 테이프 등의 자기 기록 재료용으로 널리 사용되고 있다. 그러나 이런 폴리에스테르 필름은 표면 고유 저항이 크고 또 마찰 등으로 잘 대전된다는 결점을 갖고 있다. 폴리에스테르 필름이 대전되면 필름 표면에 쓰레기나 먼지가 부착되고, 이들이 원인이 되어 제품 불량이 생기는 문제가 있다. 또 필름의 제조 공정이나 필름을 가공하는 공정에서 방전이 일어나기 때문에 이들 공정에서 유기 용제를 사용하는 경우 인화 위험이 생기는 문제가 있다.
이들 필름 대전에 의한 문제를 방지하는 방법의 하나로 필름 표면에 대전방지성층을 형성하는 방법이 여러 가지 제안되며 또 실용화되고 있다. 필름 표면에 대전방지층을 형성하는 방법으로는, 필름 표면에 대전방지제를 함유한 도포액을 도포하여 대전방지성 도막을 형성시키는 방법이 일반적이다.
이 대전방지성 도막에 함유시키는 대전방지제로는, 저분자형이나 고분자형이 알려져 있는데, 각각 그 특성에 장단점을 갖고 있다. 그래서 저분자형 대전방지제와 고분자형 대전방지제는 제품 용도에 맞춰 나눠 사용할 수 있다.
종래부터 알려진 대전방지제 및 이들 특성에 대해 이하에 설명한다.
저분자형 대전방지제로는, 술폰산 염기를 가지는 장쇄 알킬화합물 (일본 공개특허공보 평4-28728호) 등과 같은 계면활성제형 음 이온계 대전방지제가 알려져 있고, 또 고분자형 대전방지제로는, 주쇄에 이온화된 질소원자를 가지는 폴리머(일본 공개특허공보 평3-255139호, 일본 공개특허공보 평4-288217호, 일본 공개특허공보 평6-172562호) 또는 술폰산염 변성 폴리스틸렌 (일본 공개특허공보 평 5-320390호) 등이 알려져 있다.
그러나 저분자형 대전방지제를 사용한 경우, 대전방지성 필름내의 대전방지제 일부가 도막내를 이동하여 계면에 집적하고, 예컨대 필름을 롤형으로 취한 경우 대전방지성 필름의 반대면 등으로 이동하는 문제 (배면전사) 나 대전방지효과가 시간에 흐름에 따라 저하된다는 문제가 있다. 한편, 고분자형 대전방지제를 사용한 경우 충분한 대전방지성을 얻기 위해서 두께가 두꺼운 대전방지층을 형성시키는 것이 필요해지기 때문에 다량의 대전방지제가 필요해지고 비용이 비싸진다는 문제가있다.
또 층 필름 (예컨대 대전방지성 필름을 제조할 때에 절단 제거된 필름 단부등) 을 회수하여 필름 제조용 재생 재료로 사용하는 경우 필름 제막시 재생 재료내에 함유된 도막 성분이 열화화되고 수득된 필름이 현저히 착색되어 실용성이 결여되는 등 문제가 있다.
그리고 블로킹 (필름끼리 장시간 겹치면 필름끼리 접착되어 잘 박리되지 않는 현상) 이 잘 일어나거나 대전방지층이 잘 깎이는 문제 등이 있어 이들 해결이 요구되고 있다.
본 발명은 대전방지성 폴리에스테르 필름에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 자기 카드 (예컨대 텔레폰 카드 또는 프리페이드 카드 등), 전자 재료, 그래픽 재료, 제판 필름, OHP 필름 또는 자기 기록 재료 (예컨대 오디오 테이프 또는 비디오 테이프 등의 자기 테이프, 또는 플로피 디스크 등의 자기 디스크) 등의 용도에 적합한 특히 자기 카드용도에 적합한 대전방지성, 배면전사성, 내마모성, 내블로킹성 및 회수성 이 우수한 대전방지성 폴리에스테르 필름에 관한 것이다.
발명이 해결하고자 하는 과제
본 발명의 제 1 목적은 이런 종래기술의 문제점을 해소하여 대전방지성, 배면전사성, 회수성, 내마모성 및 내블로킹성이 우수한 대전방지성 폴리에스테르 필름을 제공하는 데에 있다.
본 발명의 제 2 목적은 필름 또는 필름 적층체의 제조공정 또는 가공공정에서 필름 대전에 의해 쓰레기나 먼지가 잘 부착되지 않고 자기 카드에 유용한 상기 대전방지성 폴리에스테르 필름 단면에 자성층을 적층한 대전방지성 필름 적층체 A를 제공하는 데에 있다.
본 발명의 제 3 목적은 대전방지성 필름 적층체 A 의 자성층면과 반대인 면에 자외선 경화 잉크층을 형성한 잉크 접착성이 우수한 대전방지성 필름 적층체 B를 제공하는 데에 있다.
과제를 해결하기 위한 수단
본 발명자들의 연구에 따르면 본 발명의 목적은 폴리에스테르 필름의 적어도 단면에 하기 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체를 주성분으로 하는 대전방지제(A) 로 형성된 대전방지층이 형성되어 있는 대전방지성 폴리에스테르 필름에 의해 달성된다.
[화학식 I]
또 화학식 I 중, R1, R2는 각각 H 또는 CH3, R3는 탄소수가 2 ∼ 10 인 알킬렌기, R4, R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기, R6는 탄소수가 2 ∼ 5 인 알킬렌기, n 은 0 ∼ 40 의 수, m 은 1 ∼ 40 의 수, Y- 는 할로겐 이온, 모노 또는 폴리할로겐화 알킬 이온, 니트레이트 이온, 술페이트 이온, 알킬술페이트 이온, 술포네이트 이온 또는 알킬술포네이트 이온을 나타낸다.
<폴리에스테르>
본 발명의 대전방지성 폴리에스테르 필름의 기재 필름을 구성하는 폴리에스테르는 디카르복실산 성분과 글리콜 성분으로 이루어진 선형 폴리에스테르이다. 이 디카르복실산 성분으로는 예컨대 테레프탈산, 이소프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 헥사히드로테레프탈산, 4,4'-디페닐디카르복실산, 아디핀산, 세바신산 또는 도데칸디카르복실산 등을 들 수 있으며, 특히 테레프탈산 또는 2.6-나프탈렌디카르복실산이 바람직하다.
또한 글리콜 성분으로는 예컨대 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,4-시클로헥산디메탄올, 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리테트라메틸렌글리콜 등을 들 수 있으며, 특히 에틸렌글리콜이 바람직하다.
이런 폴리에스테르 중 폴리에틸렌테레프탈레이트 또는 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트가, 기계적 특성 (예컨대 영 (young) 률) 이 우수하며 또 열적 특성 (예컨대 내열 치수 안정성) 이 우수한 필름을 수득할 수 있기 때문에 바람직하다.
상기 폴리에스테르는, 제 3 성분으로 상기 디카르복실산 성분 및/또는 글리콜 성분을 공중합한 폴리에스테르 공중합체여도 되고, 3 관능 이상의 다가 카르복실산 성분 및/또는 폴리올 성분을, 수득된 폴리에스테르가 실질적으로 선형이 되는 범위 (예컨대 5 몰% 이하) 에서 소량 공중합한 폴리에스테르 공중합체여도 된다.
본 발명의 폴리에스테르는 종래부터 알려진 방법으로 제조할 수 있으며 이 제조방법으로 한정되는 것은 아니다.
예컨대 폴리에스테르가 폴리에틸렌테레프탈레이트인 경우, 테레프탈산, 에틸렌글리콜 및 원하면 공중합 성분을 에스테르 반응시키고 이어서 수득되는 반응생성물을 중축합 반응시켜 폴리에스테르로 하는 방법, 또는 디메틸테레프탈레이트, 에틸렌글리콜 및 원하면 공중합 성분을 에스테르 교환반응시키고 이어서 수득되는 반응성 생성물을 중축합 반응시켜 폴리에스테르로 하는 방법이 바람직하게 사용된다.
이런 폴리에스테르의 고유점도가 0.45 이상이면, 수득되는 기재 필름의 기계적 특성 (특히 강성) 이 양호해지기 때문에 바람직하다.
여기에서 폴리에스테르의 고유점도는 오르소클로로페놀 내, 35℃ 온도에서 측정하였다.
상기 폴리에스테르에는, 수득되는 대전방지성 필름의 미끄럼성을 양호한 것으로 하기 위해 활제로서 평균입자경이 0.01 ∼ 2.0㎛ 정도의 유기나 무기의 미립자를 예컨대 0.001 ∼ 5 중량% 의 배합비율로 함유시킬 수 있다. 이런 미립자의 구체예로 실리카, 알루미나, 카오린, 탄산칼슘, 산화칼슘, 산화티탄, 흑연, 카아본블랙, 산화아연, 탄화규소, 산화주석, 가교 아크릴 수지 입자, 가교 폴리스틸렌 입자, 멜라민 수지 입자 또는 가교 실리콘 수지 입자 등을 바람직하게 들 수 있다.
상기 미립자 이외에도 착색제, 공지된 대전방지제, 산화방지제, 유기활제(미끄럼제), 촉매, 형광증백제, 가소제, 가교제, 자외선흡수제 또는 그 밖의 수지등을 필요에 따라 첨가할 수 있다.
<기재 필름>
본 발명에서 대전방지성 필름의 기재 필름에는, 대전방지성 필름 용도에 따라 투명 폴리에스테르 필름이나 백색 폴리에스테르 필름을 사용할 수 있다. 이 투명 폴리에스테르 필름이란, 연신후 광선투과율이 60% 이상인 것으로, 특히 80% 이상인 것이 바람직하다. 또 백색 폴리에스테르 필름이란, 상술한 폴리에스테르에 예컨대 산화티탄, 활산바륨 또는 이산화규소 등을 5 ∼ 30 중량% 배합한 것으로, 연신후 광선투과율이 60% 미만인 것, 특히 30% 이하인 것이 바람직하다. 백색 폴리에스테르 필름을 기재 필름에 사용한 백색 대전방지성 필름은 자기 카드용으로 특히 바람직하게 사용된다.
<대전방지제(A)>
본 발명에서는 폴리에스테르 필름의 적어도 단면에, 하기 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체를 주성분으로 하는 대전방지제(A) 로 형성된 대전방지층을 형성한다.
[화학식 I]
또 화학식 I 중, R1, R2는 각각 H 또는 CH3, R3는 탄소수가 2 ∼ 10 인 알킬렌기, R4, R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기, R6는 탄소수가 2 ∼ 5 인 알킬렌기, n 은 0 ∼ 40 의 수, m은 1 ∼ 40 의 수, Y- 는 할로겐 이온, 모노 또는 폴리할로겐화 알킬 이온, 니트레이트 이온, 술페이트 이온, 알킬술페이트 이온, 술포네이트 이온 또는 알킬술포네이트 이온을 나타낸다.
상기 대전방지제(A) 중, 화학식 I 중 Y-가 R9SO3 -로 표시되는 알킬술포네이트 이온 (단, R9는 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기이다.) 이고 R6는 에틸렌기인 것은, 대전방지층과 폴리에스테르 필름의 접착성 및 대전방지층의 내열성이양호하고 또 대전방지성이 우수하기 때문에 바람직하다.
또 화학식 I 중 Y-가 CH3SO3 -, C2H5SO3 -또는 C3H7SO3 -이며 R6가 에틸렌기이고 또 m 이 1 ∼ 10 인 것이 바람직하다.
그리고 상기 대전방지제(A) 중, 화학식 I 중 n 이 1 ∼ 40 인 경우 R3가 에틸렌기인 것이 바람직하다.
상기 대전방지제(A) 는 예컨대 하기 방법으로 바람직하게 제조할 수 있다.
즉 아크릴산 에스테르모노머를, 유화중합으로 중량평균분자량 2,000 ∼ 100,000 인 폴리아크릴산 에스테르로 하고, 이어서 N,N-디알킬아미노알킬아민 (예컨대 N,N-디메틸아미노프로필아민 또는 N,N-디에틸아미노프로필아민 등) 과 반응시켜 아미드화시키고, 마지막에 4급 히드록시알킬화 반응을 실시하고 4급 양 이온쌍을 도입함으로써 제조할 수 있다.
대전방지제(A) 의 평균분자량 (수평균분자량) 은 임의적이지만, 3,000 ∼ 300,000, 또한 5,000 ∼ 100,000 인 것이 바람직하다. 이 평균분자량이 3,000 미만이면 대전방지성 필름의 배면전사성이 악화되는 경향이 있으며, 평균분자량이 300,000 를 초과하면 수성 도포액의 점도가 너무 높아져 필름에 균일하게 도포하기 어려워지는 경향이 있다.
<바인더 수지(B)>
본 발명에서의 대전방지층에는, 대전방지층과 폴리에스테르 필름의 접착을 보다 강고한 것으로 하기 위해서 바인더 수지(B) 가 함유되는 것이 바람직하다. 이바인더 수지(B) 로는 폴리에스테르 수지(B-1), 아크릴 수지(B-2) 또는 아크릴 변성 폴리에스테르 수지(B-3) 를 예시할 수 있으며, 이들 수지에서 선택된 1 종 이상의 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 폴리에스테르 수지(B-1) 또는 아크릴 수지(B-2) 를 사용하면, 대전방지층과 폴리에스테르 필름의 접착성이 양호해지기 때문에 더욱 바람직하고, 폴리에스테르 수지(B-1) 와 아크릴 수지(B-2) 를 병용하면 접착성이 양호하며 또 대전방지성 필름을 회수하여 재사용할 때에 재생 필름의 착색을 억제할 수 있기 때문에 특히 바람직하다. 또한 폴리에스테르 수지(B-1)와 아크릴 수지(B-2) 를 병용하는 경우에는 폴리에스테르 수지(B-1) 를 아크릴 수지(B-2) 보다도 다량 사용하는 것이 바람직하다.
<폴리에스테르 수지 (B-1)>
상기 폴리에스테르 수지(B-1) 는 디카르복실산 성분과 글리콜 성분을 구성성분으로 하는 선형 폴리에스테르이다.
이 디카르복실산 성분으로는 테레프탈산, 이소프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 4,4'-디페닐디카르복실산, 아디핀산, 세바신산, 도데칸디카르복실산 또는 헥사히드로테레프탈산 등을 바람직하게 예시할 수 있다.
또 글리콜 성분으로는 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 네오펜틸글리콜, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 비스페놀A-알킬렌옥시드 부가체, 물이 첨가된 비스페놀A-알킬렌옥시드 부가체, 1,4-시클로헥산디메탄올, 폴리에틸렌글리콜 또는 폴리테트라메틸렌글리콜 등을 바람직하게 예시할 수 있다.
폴리에스테르 수지(B-1) 에는 상기 성분 이외에 친수성을 부여하기 위해 술폰산염기를 갖는 성분을 공중합할 수 있다. 폴리에스테르 수지(B-1) 에 친수성을 부여하면 수성 도포액 내에서의 분산성이 양호해진다. 이런 성분으로는 예컨대 5-Na 술포이소프탈산, 5-K 술포이소프탈산 등을 들 수 있다.
폴리에스테르 수지 (B-1) 는, 3 관능 이상의 다가화합물을 실질적으로 선형 폴리에스테르 수지가 수득되는 범위에서 소량 (예컨대 5 몰% 이하) 공중합한 것이어도 된다. 이런 3 관능 이상의 다가화합물로는 트리멜리트산, 피로멜리트산, 디메티롤프로피온산, 글리세린, 트리메티롤프로판 등을 예시할 수 있다.
<아크릴 수지 (B-2)>
상기 아크릴 수지(B-2) 는 아크릴산 에틸, 아크릴산 메틸, 아크릴산, 아크릴산 부틸, 아크릴산 나트륨, 아크릴산 암모늄, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산, 메타크릴산 부틸, 메타크릴산 글리시딜, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드 또는 N-메티롤아크릴아미드 등으로 예시되는 아크릴계 단량체를 주성분으로 하는 중합체 또는 공중합체로, 상술한 단량체 이외에 예컨대 스틸렌, α -메틸스틸렌, 스틸렌술폰산 나트륨, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아세트산 비닐, 비닐에테르, 비닐술폰산 나트륨, 메타크릴산 나트륨, 부타디엔 또는 이소플렌 등의 공중합 성분을 공중합한 공중합체여도 된다.
또 상기 대전방지층을 형성하는 아크릴 수지(B-2) 는 2차 전이점이 20 ∼ 100℃ 인 것이 바람직하다. 아크릴 수지(B-2) 의 2차 전 이온도가, 20℃ 미만이면내블로킹성이 떨어지고 100℃ 를 초과하면 내마모성이 저하된다.
여기에서 내블로킹성이란, 긴 필름을 롤형으로 말아 보관할 때에 필름끼리의 점착 (블로킹) 이 잘 생기지 않는 특성이고, 내마모성이란, 대전방지성 필름이 가공공정에서 롤 종류에 의해 마찰을 받거나 가압을 받거나 할 때 대전방지층이 폴리에스테르 필름에서 잘 이탈되지 (깎이지) 않는 특성이다.
<아크릴 변성 폴리에스테르 수지(B-3)>
상기 아크릴 변성 폴리에스테르 수지(B-3) 는 상기 폴리에스테르 수지(B-1)의 단량체에 아크릴산 에틸, 아크릴산 메틸, 아크릴산, 아크릴산 부틸, 아크릴산 나트륨, 아크릴산 암모늄, 메타크릴산 에틸, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산, 메타크릴산 부틸, 메타크릴산 글리시딜, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, N-메톡시메틸아크릴아미드 또는 N-메티롤아크릴아미드 등으로 예시되는 아크릴계 단량체를 공중합시킨 그라프트 공중합체로, 상기 이외에 스틸렌, α-메틸스틸렌, 스틸렌술폰산 나트륨, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아세트산 비닐, 비닐에테르, 비닐술폰산 나트륨 또는 메타크릴산 나트륨 등의 단량체를 공중합 성분으로 함유한 것이어도 된다.
본 발명의 대전방지층에는, 도막과 폴리에스테르 필름의 접착성을 조절하기 위해 상기 이외의 바인더 수지를 함유시킬 수 있다. 이런 바인더 수지로는 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 비닐 수지, 폴리에테르 수지 또는 수용성 수지 등을 들 수 있다.
<가교제(C)>
본 발명의 대전방지층에는, 도막의 내용제성 또는 대전방지 필름의 내블로킹성을 양호한 것으로 하기 위해 하기 화학식II 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체를 주성분으로 하는 가교제(C) 가 함유되어 있는 것이 바람직하다.
[화학식 II]
이때, 화학식II 중 R7, R8은 각각 H 또는 CH3를 나타낸다.
상기 화학식II 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체 분자량은 500 ∼ 5000 범위인 것이 바람직하다. 분자량이 500 미만이면 대전방지층의 내용제성이나 필름의 내블로킹성이 저하되고, 한편 분자량이 5000 을 초과하면 균일한 대전방지층을 얻을 수 없을 경우가 있다.
상기 화학식II 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체중, 상기 화학식II 중 R7이 H, R8이 CH3이며 분자량이 약 2000 인 것이 특히 바람직하다.
<계면활성제(D)>
본 발명의 대전방지층은 상술한 대전방지제(A) 및 원하면 바인더 수지(B) 또는 가교제(C) 를 함유한 도포액, 특히 수성 도포액을 기재 필름에 도포하여 형성시키는 것이 바람직하다.
이런 도포액, 특히 수성 도포액의 안정성을 향상시키고, 또 도포액을 기재필름에 도포할 때의 습윤성을 향상시키기 위해, 계면활성제(D) 를 배합하는 것이 바람직하다.
이런 계면활성제(D) 로는 예컨대 알킬렌옥사이드 단독중합체, 알킬렌옥사이드 공중합체, 지방족 알콜· 알킬렌옥사이드 부가물, 장쇄 지방족 치환페놀· 알킬렌옥사이드 부가중합물, 다가알콜 지방산 에스테르, 장쇄 지방족 아미드알콜 등의 비이온계 계면활성제, 4급암모늄염을 가지는 화합물, 알킬피리디늄염을 가지는 화합물, 술폰산염을 가지는 화합물 등의 양 이온계 또는 음 이온계 계면활성제 등을 들수 있다. 이들중 비 이온계 계면활성제, 특히 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르가 바람직하다.
<도포액의 조성>
본 발명의 대전방지층은, 상술한 대전방지제(A) 및 원하면 바인더 수지(B), 가교제(C) 및/또는 계면활성제(D) 를 함유한 도포액, 특히 수성 도포액을 기재 필름에 도포하여 형성시키는 것이 바람직하다.
이런 도포액의 고형분 조성은 대전방지제(A) 가 5 ∼ 100 중량% 및 바인더수지(B) 가 0 ∼ 95 중량% 인 것이 바람직하다. 대전방지제(A) 의 비율이 5 중량% 미만이면 대전방지성 폴리에스테르 필름의 대전방지성이 부족한 경향이 있다.
또 도포액의 고형분 조성의 바람직한 예로 이하의 조성 (α), (β) 및 (γ)를 들 수 있다.
(α ) 1. 대전방지제(A) 5 ∼ 99 중량%
(상기 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체)
2. 바인더 수지(B) 0 ∼ 94 중량%
3. 가교제(C) 1 ∼ 15 중량%
(상기 화학식II 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체)
(β) 1. 대전방지제(A) 10 ∼ 80 중량%
(상기 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지며 중랑평균분자량이 3000 ∼ 300000 인 고분자체 (단, 상기 화학식 I 중, R1, R2는 각각 수소원자 또는 메틸기, R3는 탄소수가 2 ∼ 10 인 알킬렌기, R4, R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기, R6는 에틸렌기, Y-는 R9SO3- 로 표시되는 알킬술포네이트 이온 (단, R9은 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기이다.))
2. 바인더 수지(B) 20 ∼ 80 중량%
(2차 전이점 20 ∼ 100℃ 인 아크릴 수지)
3. 계면활성제(D) 0 ∼ 25 중량%
(γ) 1. 대전방지제(A) 10 ∼ 80 중량%
(상기 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지며 중량평균분자량이 3000 ∼ 300000 인 고분자체 (단, 상기 화학식 I 중, R1, R2는 각각 수소원자 또는 메틸기, R3, R6는 각각 에틸렌기, R4, R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화탄화수소기, Y- 는 R9SO3- 로 표시되는 알킬술포네이트 이온 (단, R9은 탄소수가 1 ∼ 5 인포화 탄화수소기이다.))
2. 바인더 수지(B) 19 ∼ 80 중량%
(2차 전이점 20 ∼ 100℃ 인 아크릴 수지)
3. 가교제(C) 1 ∼ 10 중량%
(상기 화학식II 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체)
4. 계면활성제(D) 0 ∼ 25 중량%
상기 도포액의 고형분 조성의 바람직한 예 중, (β) 또는 (γ) 로 대전방지충의 표면 에너지가 37 ∼ 73 dyne/cm 이며 물 접촉각이 40 ∼ 110 도인 것이, 예컨대 이 대전방지성 폴리에스테르 필름을 자기 카드용에 사용할 때 대전방지층과 기재 필름의 접착성이나 대전방지성 필름의 내블로킹성, 내열성, 저온도에서의 대전방지성이 우수하기 때문에 특히 바람직하다.
이때, 대전방지층의 표면 에너지 측정은 JIS K6768 에 준거하여 습윤지수액을 사용하여 습윤지수를 측정하고 이 습윤지수를 표면 에너지로 하였다.
그리고 물 접촉각은, 시료 필름을, 측정면을 위로 해서 접촉각 측정장치 (엘마샤 제조) 에 세트하고 온도 23℃ 조건에서 물방울을 낙하시키고서 1분후 접촉각을 판독함으로써 측정하였다.
대전방지층의 표면 에너지가 37 ∼ 73 dyne/cm 이며 물 접촉각이 40 ∼ 110도이면, 대전방지성이나 대전방지성 필름과 자외선 경화성 잉크의 접착성이 우수해지기 때문에 특히 바람직하다. 대전방지층의 표면 에너지 및 물 접촉각이 상기 범위가 되는 대전방지성 도막은, 대전방지제(A), 바인더 수지(B), 가교제(C) 및 계면활성제(D) 를 첨가한 고형분 조성을 상술한 조성범위 「(α ), (β ) 또는 (γ )」로 함으로써 수득할 수 있다.
예컨대 대전방지제(A) 는 대전방지층의 표면 에너지를 높이는 방향으로 작용하기 때문에, 바인더 수지(B) 를 배합하고 추가로 필요에 따라 계면활성제(D) 를 첨가시켜 상기 범위내로 조정할 수 있다. 또 대전방지제(A) 는 대전방지층의 물 접촉각을 작게하는 방향으로 작용하기 때문에, 바인더 수지(B) 를 배합하고 추가로 필요에 따라 계면활성제(D) 를 첨가시켜 상기 범위내로 조정할 수 있다.
그리고 본 발명에서는 대전방지층 표면의 미끄럼성을 양호한 것으로 하고, 대전방지성 필름의 내블로킹성을 양호한 것으로 하기 위해 도포액에 활제를 첨가할 수 있다.
활제로는 예컨대 폴리스틸렌 수지, 아크릴 수지, 멜라민 수지, 실리콘 수지, 불소 수지, 요소 수지, 벤조구아나딘 수지, 폴리아미드 수지 또는 폴리에스테르 수지 등의 미립자를 들 수 있다. 이들 수지의 미립자는 대전방지성 도막에 미립자로 함유된 것이라면 열가소성 수지이어도 열경화성 수지이어도 된다.
또 도포액에는 또다른 배합성분으로 상술한 대전방지제(A) 이외의 대전방지제, 상술한 가교제(C) 이외의 가교제, 상술한 계면활성제(D) 이외의 계면활성제, 산화방지제, 착색제, 안료, 형광증백제, 가소제, 왁스, 자외선 흡수제 등을 배합할 수 있다.
도포액의 고형분 농도는 1 ∼ 30 중량% 가 바람직하고, 특히 2 ∼ 20 중량% 가 바람직하다. 고형분 농도가 이 범위에 있으면 도포액 점도가 적합한 것이 된다.본 발명에 사용되는 도포액은 수성 도포액인 것이 바람직하고, 수성 도포액은 수용액, 물 분산액 또는 유화액 등 임의의 형태로 사용할 수 있다. 또 수성 도포액에는 소량의 유기용제가 함유되어 있어도 된다.
<대전방지성 필름의 제조방법>
본 발명의 대전방지성 폴리에스테르 필름은 종래부터 알려진 방법으로 제조할 수 있다. 예컨대 상술한 폴리에스테르를 용융시켜 냉각 드럼위에 시트형으로 압출하여 미연신 필름으로 하고, 이 미연신 필름을 세로방향, 이어서 가로방향으로 연이어 2축 연신하는 방법 또는 세로방향과 가로방향으로 동시에 2축 연신하는 방법으로 제조할 수 있다. 또 세로방향 및/또는 가로방향으로 재차 연신할 수도 있다. 연신처리는 폴리에스테르의 2차 전이점(Tg) 보다 높은 온도에서 각각의 방향으로 2.5 배 이상, 추가로 3배 이상 연신함으로써 행하는 것이 바람직하다. 이 때 면적연신배율은 8배 이상, 추가로 9배 이상으로 하는 것이 바람직하다. 면적연신배율의 상한은 필름용도에 의하지만, 35배, 추가로 30배로 하는 것이 바람직하다. 이런 연신 필름은 연신후 열처리하여 배향결정화를 완결시키는 것이 바람직하다.
본 발명에서는 폴리에스테르 필름의 적어도 단면에, 상술한 도포액을 도포하고 가열건조, 연신함으로써 대전방지층을 형성하는 것이 바람직하지만, 도포액의 도포방법으로는 공지된 임의의 도포방법을 적용할 수 있다.
예컨대 그라비어 (gravure) 코트법, 리버스롤 (reverse-roll) 코트법, 다이(die) 코트법, 키스 (kiss) 코트법, 리버스키스코트법, 오프세트그라비어코트법, 마이어버코트법, 롤블래쉬법, 스프레이코트법, 에어나이프코트법, 함침법 또는커텐코트법 등을 단독 또는 조합하여 적용할 수 있다.
도포액의 도포량은 주행하고 있는 필름 1㎡ 당 1 ∼ 20g, 특히 2 ∼ 12g 이 바람직하다. 도포량이 이 범위면, 건조간 용이해지고 또 도포 얼룩이 잘 생기지 않는다.
이때, 본 발명에서 도포액을 도포하는 폴리에스테르 필름이란, 연신 가능한 폴리에테르 필름으로는 예컨대,
(a) 폴리에스테르를 용융시켜 그대로 필름형으로 한 미연신 필름,
(b) 미연신 필름을 세로방향 (길이방향) 또는 가로방향 (폭방향) 중 어느 한쪽으로 연신시킨 일축연신 필름,
(c) 세로방향 또는 가로방향의 일축연신 필름을 가로방향 또는 세로방향으로 연이어 연신시킨 (추가로 연신 가능한) 이축연신 필름, 또는
(d) 미연신 필름을 세로방향 및 가로방향 두방향으로 동시에 연신시킨 (추가로 연신 가능한) 이축연신 필름을 들 수 있다.
도포액은 상기 연신 가능한 폴리에스테르 필름 중 일축연신 필름 (b), 특히 세로방향의 일축연신 필름에 도포하는 것이 대전방지성 도막의 접착성이 강고해지고, 또 효율적으로 대전방지성 폴리에스테르 필름을 제조할 수 있기 때문에 바람직하다.
본 발명에서 도포액을 도포한 후 건조시키는 온도는 80 ∼ 160℃ 로 하는 것이 도포액을 신속하게 건조시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 이 건조를 위한 가열은 폴리에스테르 필름을 연신하는 과정의 가열을 겸할 수 있다. 또 폴리에스테르필름을 열처리하는 온도는 180 ∼ 250℃ 로 할 수 있다.
상술한 방법으로 도포 형성된 대전방지층의 두께는 0.005 ∼ 3㎛, 특히 0.015 ∼ 1㎛ 가 바람직하다. 도막 두께가 0.005㎛ 보다 얇으면 대전방지성이 부족해지고 3㎛ 를 초과하면 도막이 깎이기 쉽기 때문에 바람직하지 않다.
<필름 적충체>
본 발명의 대전방지성 폴리에스테르 필름은 자기 카드용으로 유용하고, 백색 폴리에스테르 필름을 베이스 필름으로 한 백색 대전방지성 폴리에스테르 필름은 특히 자기 카드용으로 바람직하게 사용된다.
또 여기에서 말하는 자기 카드란, 예컨대 대전방지성 필름 단면에 자기 기록층 (자성층) 을 형성하고 또 다른 일면에 UV 잉크 등으로 인쇄층을 형성한 카드다.
이런 자기 카드의 구성 개략을 이하에 설명한다.
먼저 본 발명의 대전방지성 폴리에스테르 필름 단면에 예컨대 자성 산화철, 변성 염화비닐 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리이소시아네이트, 분산제 등으로 이루어진 자기 재료를 도포하고 건조함으로써 자기 기록층을 도포 형성하고, 대전방지성 필름 적층체 A 를 제조한다. 이 대전방지성 필름 적층체 A 의 자기 기록층 위에 추가로 보호층을 형성하는 것이 바람직하다.
이어서 이 대전방지성 필름 적층체 A 의 자기 기록층을 적층한 반대면에, 예컨대 말단에 아크릴기를 가지는 폴리우레탄올리고머나 말단에 아크릴기를 가지는 비닐폴리머 등에 광증감제, 착색제 등을 배합한 자외선 경화 잉크를 베이스 필름의 대전방지성 도막 도설면에 인쇄하고 자외선을 조사하여 경화시킴으로써 대전방지성필름 적층체 B, 즉 자기 카드를 제조한다.
이때, 자기 카드에 사용되는 대전방지성 폴리에스테르 필름의 두께는, 예컨대 50 ∼ 300㎛, 특히 150 ∼250㎛ 인 것이 자기 카드의 강성이 양호해지기 때문에 바람직하다.
그리고 투명 폴리에스테르 필름을 베이스로 한 투명 대전방지성 필름은 자기테이프, 자기 디스크 등 자기 기록 재료나 전자 재료, 그래픽 필름, 제판 필름, OHP 필름용에 바람직하게 사용된다. 대전방지성 폴리에스테르 필름의 두께는 용도에 따라 다르지만, 예컨대 5 ∼ 160㎛, 특히 5 ∼ 100㎛ 인 것이 바람직하다.
이하 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 각 특성값은 하기 방법으로 측정 및 평가하였다. 또 실시예 및 비교예 중 평균분자량은 수평균분자량을 의미한다.
1. 표면고유저항
(1) 측정법 1 ( 표면고유저항 1)
샘플 필름을 21℃x 52%RH 에서 19 시간 유지한 후 대전방지성 폴리에스테르 필름의 대전방지성층의 표면고유저항을, 진동용량형 전위차 측정기 (다께다리겡샤 제조, TR-84M형) 를 이용하여 측정하였다. 또 인가전압은 100V 로 하였다.
(2) 측정법 2 ( 표면고유저항 2)
샘플 필름을 23℃x 60%RH 에서 19 시간 유지한 후 대전방지성 폴리에스테르 필름의 대전방지성층의 표면고유저항을, 진동용량형 전위차 측정기 (다께다리겡샤제조, TR-84M형) 를 이용하여 측정하였다. 또 인가전압은 500V 로 하였다.
2. 물 접촉각
시료 필름을, 측정면을 위로 해서 접촉각 측정장치 (엘마샤 제조) 에 세트하고 온도 23℃ 조건에서 물방울을 낙하시키고서 1분후 접촉각을 판독함으로써 측정하였다.
3. 배면전사성
대전방지성 폴리에스테르 필름의 대전방지성층과 비대전방지성층면을 겹쳐 6㎏/㎠ 하중을 가하고 50℃x 70%RH 조건에서 8시간 이상 유지한 후 비대전방지성층면의 물 접촉각 (θ :배면전사성의 대용특성) 을 전항 2 의 방법에 따라 측정하고 하기 기준에 따라 평가하였다.
A : θ ≥ 55 ° … 배면전사성 양호
B : 55 °>θ ≥ 48 ° … 배면전사 약간 양호
C : 48 °>θ … 배면전사 불량
또 배면전사가 전혀 없는 필름의 물 접촉각은 60 ∼ 75 ° 이고, 배면전사성이 양호한 필름의 물 접촉각은 55 ° 이상이며 배면전사가 현저한 (배면전사성 불량) 필름의 물 접촉각은 48 ° 미만이다.
4. 필름 착색성 (회수성)
대전방지층을 형성하지 않은 필름을 분쇄하고 압출기로 약 300℃ 에서 용융시켜 칩화시켰다. 이어서 수득된 칩을 사용하여 용융제막하고 블랭크 필름을 제조하였다. 이 필름의 착색도를 블랭크로 하였다. 한편, 대전방지층을 형성한 시료 필름을 분쇄하고 압출기로 약 300℃ 에서 용융시켜 칩화시켰다. 이어서 수득된 칩을 사용하여 용융제막하고 재생 필름을 제조하였다. 이 필름의 착색도와 블랭크 필름의 착색도를 비교하여 이하 기준에 따라 평가하였다.
랭크A : 착색도가 블랭크 필름과 동등
랭크B : 필름이 약간 착색되어 있음
랭크C : 필름의 착색도가 커서 실용성이 결여됨
5. 포화대전압
22℃x 44 %RH 에서 10 시간 유지한 시료 필름의 대전방지층면에 인가전압 10KV를 첨가시킨 후 대전방지층면의 대전압을 시간의 흐름에 따라 측정하고 대전압의 변화를 인식할 수 없게 된 시점의 대전압을 포화대전압으로 하였다. 또 포화대전압의 값에서 하기 기준에 따라 평가하였다.
랭크A : 1KV≥ 포화대전압 (실용상 문제가 되지않음)
랭크B : 2KV≥ 포화대전압>1KV (실용상 약간 문제가 됨)
랭크C : 포화대전압>2KV (실용상 문제가 됨)
6. 잉크 접착성
시료 필름의 대전방지층면에 자외선 경화 잉크 (비스아크릴폴리우레탄올리고머, 광중합개시제, 광증감제 및 홍색착색제의 혼합물) 를 8㎛ 두께로 도포하고 자외선을 조사하여 경화시킨 후 자외선 경화 잉크층 표면에 셀로테이프를 붙이고, 셀로테이프를 박리할 때 각층간의 박리상태를 관찰하여 하기 기준으로 평가하였다.
랭크A : 셀로테이프와 잉크층간이 박리되었음 (잉크접착성 양호)
랭크B : 대전방지층과 잉크층간이 부분적으로 응집파괴형으로 박리되었음(잉크접착성 약간 양호)
랭크C : 대전방지층과 잉크층간이 층형으로 박리되었음 (잉크접착성 불량)
7. 내열성
대전방지층을 형성한 시료 필름 12g 을 질소분위기하에서 300℃ 로 가열시키고 용융시켜 15분간 유지한 후 급냉시켜 원판형 샘플을 제조하여 착색도를 관찰하였다. 별도로 대전방지층을 형성하지 않은 필름을 사용하여 동일한 조건에서 원판형 샘플을 제조하고 블랭크로 하였다. 블랭크와의 착색도 비교에 따라 하기 기준으로 평가하였다.
랭크A : 착색도가 블랭크와 거의 동등한 극담황색 (내열성 양호)
랭크B : 착색도가 블랭크보다 약간 담황색으로 착색 (내열성 약간 불량)
랭크C : 착색도가 블랭크보다 현저하게 황색으로 착색 (내열성 불량)
8. 내블로킹성
(1) 측정법 1 (내블로킹성 1)
10㎜ 폭으로 절단한 시료 필름을 사용하고 필름의 대전방지층면과 비대전방지층면을 겹쳐 50㎏/㎠ 하중을 가하고 50℃ 에서 10 시간 유지한 후 대전방지층면과 비대전방지층면의 박리력을 측정하여 내블로킹성을 하기 기준으로 평가하였다.
랭크A : 박리력≤ 7g (내블로킹성 양호)
랭크B : 7g<박리력≤ 10g (내블로킹성 약간 불량)
랭크C : 10g<박리력 (내블로킹성 불량)
(2) 측정법 2 (내블로킹성 2)
50㎜ 폭으로 절단한 시료 필름을 사용하고 필름의 대전방지층면과 비대전방지층면을 겹쳐 50㎏/㎠ 하중을 가하고 60℃x 80%RH 에서 17 시간 유지한 후 대전방지층면과 비대전방지층면의 박리력을 측정하여 내블로킹성을 하기 기준으로 평가하였다.
랭크A : 박리력≤ 10g (내블로킹성 양호)
랭크B : 10g<박리력≤ 30g (내블로킹성 약간 불량)
랭크C : 30g≤ 박리력 (내블로킹성 불량)
9. 내마모성
20㎜ 폭으로 절단한 시료 필름을 사용하고 시료 필름의 대전방지층면을 직경 10㎜ 인 원주형 스테인리스제 고정 바에 맞춰 200g 하중을 가한 상태에서 80m 주행시킨 후, 바에 부착된 대전방지층에서 발생한 백분을 관찰하여 내마모성을 하기와 같이 평가하였다.
랭크A : 바에 백분의 부착이 없음 (내마모성 양호)
랭크B : 바에 백분이 약각 부착 (내마모성 약간 불량)
랭크C : 바에 백분이 다량 부착 (내마모성 불량)
10. 표면에너지
JIS K6768 에 준거하여 습윤지수액을 사용하여 습윤지수를 측정하고 이 습윤지수를 표면에너지로 하였다.
실시예 1
고유점도 0.63 (오르소클로로페놀 내, 35℃) 인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 용융시켜 냉각 드럼위에 시트형으로 압출하고 이어서 92℃ 에서 세로방향으로 3.6배 연신하여 일축연신 필름으로 하였다.
이 일축연신 필름 단면에 하기 고형분 조성의 5 중량% 수성 도포액을 그라비어코터로 도포하였다. 이어서 도포 필름을 98℃ 에서 건조시킨 후 105℃ 에서 가로방향으로 3.8 배 연신하고 열처리하여 대전방지층을 도포 형성한 두께 75㎛ 필름을 제조하였다. 필름의 대전방지층의 두께는 0.34㎛, 필름의 광투과율은 84% 였다. 이 필름 특성을 표 1 에 나타낸다.
<수성 도포액의 고형분 조성>
(1) 대전방지제(A) 30 중량% : 후술한 화학식 I-1 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체 (a-1, 평균분자량 : 7,000)
(2) 바인더 수지(B) 60 중랑% : 디카르복실산 성분이 테레프탈산 (54 몰%) 및 이소프탈산 (46 몰%), 글리콜 성분이 에틸렌글리콜 (42 몰%), 디에틸렌글리콜 (12 몰%), 네오펜틸글리콜 (41 몰%) 및 폴리에틸렌글리콜 (5 몰%) 의 폴리에스테르 공중합체 (b-1, 평균분자량 : 19,700)
(3) 계면활성제(D) 10 중량% : 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 (폴리옥시에틸렌의 반복단위수 : 9)
비교예 1
수성 도포액을 도포하지 않은 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 수득한 필름 특성을 표 1 에 나타낸다.
실시예 2 ∼ 8 및 비교에 2 ∼ 4
도포액의 조성, 도포두께를 표 1 에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 수득한 필름 특성을 표 1 에 나타낸다.
실시예 9
산화티탄을 12 중량% 함유한 고유점도 0.65 인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 사용하고 필름두께를 150㎛ 로 하여 도포액의 조성, 도포두께를 표 1 에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 광선투과율이 2% 인 필름을 수득하였다. 이 필름 특성을 표 1 에 나타낸다.
실시예 10 ∼ 11
도포액의 조성, 도포두께를 표 1 에 기재한 바와 같이 변경한 것 이외에는 실시예 1 과 동일한 방법으로 수득한 필름 특성을 표 1 에 나타낸다.
[표 1]
실시예 12 ∼ 19 및 비교예 5 ∼ 7
고유점도 0.65 (오르소클로로페놀 내, 35℃) 인 폴리에틸렌테레프탈레이트(산화티탄 10 중량% 를 함유함) 를 용융시켜 냉각 드럼위에 시트형으로 압출하고 이어서 92℃ 에서 세로방향으로 3.6 배 연신하여 일축연신 필름으로 하였다.
이 일축연신 필름 단면에 표 2 에 나타낸 고형분 조성의 10 중량% 수성 도포액을 마이크로그라비어코트법으로 4g/㎡ 양으로 도포하였다. 이어서 도포 필름을 98℃ 에서 건조시킨 후 105℃ 에서 가로방향으로 3.6 배 연신하고 230℃ 에서 열처리하여 대전방지층을 도포 형성한 두께 100㎛ 인 필름을 제조하였다. 이들 필름 특성을 표 2 에 나타낸다.
또 실시예 18 에서는 폴리에틸렌테레프탈레이트를 대신하여 폴리에틸렌나프탈레이트를 사용하는 것 이외에는 실시예 14 와 동일한 방법으로 필름을 제조하였다.
그리고 비교예 7 에서는 수성 도포액을 도포하지 않은 것 이외에는 실시예 12 와 동일한 방법으로 필름을 제조하였다.
[표 2]
또한, 표 1 및 표 2 의 도포액의 고형분 조성에 있어서, 대전방지제의 (a-1), (a-2), (a-3), (a-4), (a-5), (a-6), (a-7) 및 (a-8), 바인더 수지의 (b-1), (b-2), (b-3), (b-4), (b-5) 및 (b-6), 가교제 (c-1) 및 계면활성제의 (d-1) 는 각각 하기 공중합체, 화합물 또는 혼합물이다.
(a-1) : 하기 화학식 I-1 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체로 이루어진 대전방지제 (평균분자량 : 7,000)
[화학식 I-1]
(a-2) : 하기 화학식 I-2 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체로 이루어진 대전방지제 (평균분자량 : 6,500)
[화학식 I-2]
(a-3) : 하기 화학식 I-3 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체로 이루어진 대전방지제 (평균분자량 : 9,000)
[화학식 I-3]
(a-4) : 하기 화학식 I-1 로 표시되는 단위성분 60 몰%, 아크릴산에틸 10 몰%, 메타크릴산메틸 30 몰% 인 공중합체 (평균분자량 : 7,500)
(a-5) : 폴리스틸렌술폰산 나트륨 (술폰화율 98%) (평균분자량 : 20,000)
(a-6) : 도데실벤젠술폰산 나트륨 40 중량%, 옥틸황산 나트륨 60 중량% 인 혼합물
(a-7) : 하기 화학식 I-4 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체로 이루어진 대전방지제 (평균분자량 : 15,000)
[화학식 I-4]
(a-8) : 하기 화학식 I-5 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체로 이루어진 대전방지제 (평균분자량 : 25,000)
[화학식 I-5]
(b-1) : 디카르복실산 성분이 테레프탈산 (54 몰%) 및 이소프탈산 (46 몰%), 글리콜 성분이 에틸렌글리콜 (42 몰%), 디에틸렌글리콜 (12 몰%), 네오펜틸글리콜 (41 몰%) 및 폴리메틸렌글리콜 (5 몰%) 인 공중합체 (평균분자량 : 19,700)
(b-2) : 메타크릴산메틸 (51 몰%), 아크릴산에틸 (39 몰%), 아크릴산히드록시에틸 (4 몰%) 및 N-메티롤아크릴아미드 (6 몰%) 인 아크릴공중합체 (평균분자량 : 45,500)
(b-3) : 폴리에스테르 공중합체 (b-1) 61 중량% 와 아크릴산에틸 성분 16 몰%, 아크릴산칼륨 성분 4 몰%, 메타크릴산메틸 성분 53 몰%, 메타크릴산글리시딜 성분 12 몰%, 2-히드록시에틸아크릴레이트 성분 7 몰% 및 V-메톡시메틸아크릴아미드 성분 8 몰% 의 아크릴 공중합체 39 중량% 인 혼합물
(b-4) : 폴리에스테르 공중합체 (b-1) 58 중량% 에 대해 아크릴산메틸 (19 몰%), 아크릴산 암모늄 (8 몰%), 메타크릴산에틸 (62 몰%) 및 메타크릴산글리시딜 (11 몰%) 42 중량% 를 그라프트 중합한 아크릴 변성 폴리에스테르 공중합체(평균분자량 : 41,500)
(b-5) : 디카르복실산 성분이 테레프탈산 (22 몰%), 이소프탈산 (1 몰%), 2,6-나프탈렌디카르복실산 (65 몰%) 및 4,4'-디페닐디카르복실산 (12 몰%), 글리콜 성분이 에틸렌글리콜 (75 몰%), 1,4-시클로헥산디메탄올 (10 몰%) 및 비스페놀A 의 프로필렌옥사이드 부가물 (15 몰%) 인 공중합체 (유리전이점 : 80℃, 평균분자량 : 21,500)
(b-6) : 메타크릴산메틸 (30 몰%), 아크릴산에틸 (55 몰%), 아크릴로니트릴 (10 몰%) 및 N-메티롤메타크릴아미드 (5 몰%) 인 아크릴공중합체 (평균분자량 : 258,000)
(c-1) : 하기 화학식 II-1 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체로 이루어진 가교제
[화학식 II-1]
(d-1) : 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 (폴리옥시에틸렌의 반복단위수 : 9)
표 1 및 2 의 결과에 의해 실시예의 대전방지성 필름은 대전방지성, 배면전사성, 희수성, 내마모성 및 내블로킹성 모두에 대해 우수하다.

Claims (16)

  1. 폴리에스테르 필름의 적어도 단면에 하기 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체를 주성분으로 하는 대전방지제(A) 로 형성된 대전방지층이 형성되어 있는 대전방지성 폴리에스테르 필름.
    [화학식 I]
    이때, 화학식 I 중, R1, R2는 각각 H 또는 CH3; R3는 탄소수가 2 ∼ 10 인 알킬렌기; R4, R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기, R6는 탄소수가 2 ∼ 5인 알킬렌기; n 은 0 ∼ 40 의 수; m 은 1 ∼ 40 의 수; 및, Y-는 할로겐이온, 모노 또는 폴리할로겐화 알킬 이온, 니트레이트 이온, 술페이트 이온, 알킬술페이트 이온, 술포네이트 이온 또는 알킬술포네이트 이온을 나타낸다.
  2. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름이 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  3. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름이 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트 필름인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  4. 제 1 항에 있어서, 화학식 I 중 n 이 0 인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  5. 제 1 항에 있어서, 화학식 I 중 n 이 1 ∼ 40 인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  6. 제 1 항에 있어서, 화학식 I 중 Y-가 R9SO3- 로 표시되는 알킬술포네이트 이온 (단, R9은 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기이다.) 인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  7. 제 5 항에 있어서, 화학식 I 중 R3가 에틸렌기인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  8. 제 1 항에 있어서, 화학식 I 중 R6가 에틸렌기인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  9. 제 1 항에 있어서, 대전방지제(A) 5 ∼ 100 중량% 와, 폴리에스테르 수지(B-1), 아크릴 수지(B-2) 및 아크릴 변성 폴리에스테르 수지 (B-3) 로 이루어진 군에서 선택된 1 종 이상의 바인더 수지(B) 0 ∼ 95 중량% 의 고형분 조성을 함유한 도포액을 도포하여 형성된 대전방지층이 형성되어 있는 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  10. 제 1 항에 있어서, 대전방지제(A) 5 ∼ 99 중량%, 바인더 수지(B) 0 ∼ 94 중량% 및 하기 화학식II 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지는 고분자체를 주성분으로 하는 가교제(C) 1 ∼ 15 중량% 의 고형분 조성을 함유한 도포액을 도포하여 형성된 대전방지층이 형성되어 있는 대전방지성 폴리에스테르 필름.
    [화학식 II]
    이때, 화학식II 중 R7, R8은 각각 H 또는 CH3를 나타낸다.
  11. 제 9 항에 있어서, 대전방지제(A) 가 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지며 중량평균분자량이 3000 ∼ 300000 인 고분자체 (단, 상기 화학식 I 중, R1, R2는 각각 수소원자 또는 메틸기, R3는 탄소수가 2 ∼ 10 인 알킬렌기, R4, R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기, R6는 에틸렌기, Y-는 R9SO3 -로 표시되는 알킬술포네이트 이온 (단, R9은 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기이다.) 를 나타낸다.) 이고, 또 바인더 수지(B) 가 2차 전이점 20 ∼ 100℃ 인 아크릴 수지(B-2) 로, 대전방지제(A) 10 ∼ 80 중량% 바인더 수지(B) 20 ∼ 80 중량% 및 계면활성제(D) 0 ∼ 25 중량% 로 이루어진 고형분 조성을 함유한 수성 도포액을 도포하고 건조, 연신시켜 형성된, 표면 에너지가 37 ∼ 73 dyne/cm 이며 물 접촉각이 40 ∼ 110 도인 대전방지층을 가지는 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  12. 제 10 항에 있어서, 대전방지제(A) 가 화학식 I 로 표시되는 구조의 반복단위를 가지며 중량평균분자량이 3000 ∼ 300000 인 고분자체 (단, 상기 화학식 I 중, R1, R2는 각각 수소원자 또는 메틸기, R3, R6는 각각 에틸렌기, R4, R5는 각각 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기, Y-는 R9SO3 -로 표시되는 알킬술포네이트 이온 (단, R9은 탄소수가 1 ∼ 5 인 포화 탄화수소기이다.) 를 나타낸다.) 이고 또 바인더 수지(B) 가 2차 전이점 20 ∼ 100℃ 인 아크릴 수지(b-2) 로, 대전방지제(A) 10 ∼ 80 중량%, 바인더 수지(B) 19 ∼ 80 중량%, 가교제(C) 1 ∼ 10 중량% 및 계면활성제(D) 0 ∼ 25 중량% 로 이루어진 고형물 조성을 함유한 수성 도포액을 도포하고 건조, 연신시켜 형성된, 표면 에너지가 37 ∼ 73 dyne/cm 이며 물 접촉각이 40 ∼110 도인 대전방지층을 가지는 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  13. 제 1 항, 제 9 항, 제 10 항, 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 폴리에스테르 필름이 두께가 50 ∼ 300㎛ 이며 광선투과율이 60% 미만인 백색 폴리에스테르 필름인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  14. 제 1 항에 있어서, 폴리에스테르 필름이, 광선투과율이 60% 이상인 투명 폴리에스테르 필름인 대전방지성 폴리에스테르 필름.
  15. 제 13 항에 기재된 대전방지성 폴리에스테르 필름 단면에 자성층을 적층한 대전방지성 필름 적층체 A.
  16. 제 15 항에 기재된 대전방지성 필름 적층체 A 의 자성층을 적층한 면과 반대면에 자외선 경화 잉크층을 형성시킨 대전방지성 필름 적층체 B.
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