PL181615B1 - Mieszanka do obróbki podlozy zawierajacych krzem PL PL - Google Patents
Mieszanka do obróbki podlozy zawierajacych krzem PL PLInfo
- Publication number
- PL181615B1 PL181615B1 PL95319386A PL31938695A PL181615B1 PL 181615 B1 PL181615 B1 PL 181615B1 PL 95319386 A PL95319386 A PL 95319386A PL 31938695 A PL31938695 A PL 31938695A PL 181615 B1 PL181615 B1 PL 181615B1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- weight
- mixture according
- residue
- mixture
- carbon atoms
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 73
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 21
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 25
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 16
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 6
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical group CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- CNOSLBKTVBFPBB-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(diphenyl)silyl] acetate Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC(C)=O)(OC(=O)C)C1=CC=CC=C1 CNOSLBKTVBFPBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000008194 pharmaceutical composition Substances 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 abstract description 5
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 3
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC NMEPHPOFYLLFTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 2
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 AHUXYBVKTIBBJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 2
- 239000004970 Chain extender Substances 0.000 description 1
- XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N Decamethylcyclopentasiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 XMSXQFUHVRWGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006136 alcoholysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960003493 octyltriethoxysilane Drugs 0.000 description 1
- XHTWKNPMPDIELI-UHFFFAOYSA-N phenylmethoxysilane Chemical compound [SiH3]OCC1=CC=CC=C1 XHTWKNPMPDIELI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002028 premature Effects 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000008400 supply water Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical class O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/46—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with organic materials
- C04B41/49—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes
- C04B41/4905—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon
- C04B41/495—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Organo-clay compounds; Organo-silicates, i.e. ortho- or polysilicic acid esters ; Organo-phosphorus compounds; Organo-inorganic complexes containing silicon applied to the substrate as oligomers or polymers
- C04B41/4961—Polyorganosiloxanes, i.e. polymers with a Si-O-Si-O-chain; "silicones"
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
1. M ieszanka do obróbki podlozy zaw ierajacych krzem szczególnie do obróbki szkla lub ceram iki, znam ienna tym , ze sklada sie z nastepujacych skladników : a) ze skladnika A, utw orzonego z co najm niej jednego polisiloksanu, który zaw iera w iazania Si-H, o w zorze ogól- nym 1 lub w zorze ogólnym 2, przy czym R oznacza reszte al- kilow a zaw ierajaca od 1 do 12 atom ów w egla i/lub niepodstaw iona lub podstaw iona reszte fen y lo w a przy czym reszty R sa czesciow o zastapione przez w odór i przy czym n we w zorze 1 m a w artosc od 2 do 50, a n w e w zorze 2 m a w artosc od 4 do 50, b) ze skladnika B utw orzonego z co najm niej jednego bi-, tri- lub tetrafunkcyjnego silanu o w zorze ogólnym 3, przy czym R1 oznacza niepodstaw iona lub podstaw iona re- szte alkilow a zaw ierajaca od 1 do 12 atom ów w egla, reszte cykloalkilow a zaw iera ja c a od 5 do 6 atom ów wegla, niepod- staw io n a lub pod staw io n a reszte fenylow a i/lub reszte w iny- lo w a przy czym R II oznacza reszte alkoksylow a lub reszte C H 3COO i dziala jak o reszta funkcyjna, przy czym czesc al- kilow a reszty alkoksylow ej zaw iera od 1 do 12 atom ów w e- gla i z m a w artosc od 0 do 2 i c) ze skladnika C, utw orzonego z co najm niej jednego silnego bezw odnego kw asu organicznego lub nieorganicz- nego. W Z Ó R 1 W Z Ó R 2 PL PL
Description
Przedmiotem wynalazku jest mieszanka do obróbki podłoży, które zawierajązwiązki krzemu, zwłaszcza do obróbki szkła lub ceramiki.
Wiadomo, że powierzchnie podłoży, które zawierajązwiązki krzemu, korzystnie dwutlenek krzemu lub krzemiany, są poddawane obróbce mieszankami, które ze swej strony, jako główny składnik, zawierajązwiązki krzemoorgamczne. Celem tych znanych sposobów obróbki jest na przykład zmniejszanie korozji przedmiotów szklanych, spowodowanej przez działanie alkalicznych środków czyszczących lub przez działanie atmosfery, ograniczenie ścierania się etykiet naklejonych na butelkach szklanych lub powstrzymanie zabrudzenia powierzchni szkła lub ceramiki.
Z opisu EP-PS nr 0 395 077 znany jest środek do obróbki pojemników szklanych, który składa się ze 100 części wagowych poliorganosiloksanu i ze 100 do 1000 części wagowych lotnego polidimetylosiloksanu. Poliorganosiloksan zawiera obok grup metylowych podstawione lub niepodstawione, jednowartościowe grupy węglowodorowe lub atom wodoru, a także grupę hydroksylową lub grupę ulegającą hydrolizie. Polidimetylosiloksan ma strukturę łańcuchową lub pierścieniową. Znany środek może ponadto zawierać katalizator utwardzania. Jako katalizator utwardzania stosuje się aminy, sole metali kwasów karboksylowych, związki cynoorganiczne, estry kwasu tytanowego i czwartorzędowe sole amoniowe. Poliorganosiloksany otrzymuje się w wyniku częściowej hydrolizy i kondensacji alkoksysilanów, przy czym hydroliza i kondensacja zachodząw obecności wody i kwasów. Za pomocą znanego środka mająbyć chronione pojemniki szklane lub etykiety znajdujące się na pojemnikach szklanych, przed korodującym działaniem środków oczyszczających.
Z opisu GB-A nr 1 344 661 znana jest mieszanina do obróbki powierzchni szkła i ceramiki, która składa się z alkilopolisiloksanu, kwasu i alkoholu etylowego lub alkoholu izopropylowego. Po naniesieniu mieszaniny i odparowaniu rozpuszczalnika tworzy się na powierzchni szkła lub ceramiki ciekła, oleista pozostałość, która jest jedynie krótkotrwała. Ta oleista pozostałość ma chronić powierzchnię szkła lub ceramiki przed korozją i zabrudzeniem.
Zadaniem wynalazku jest opracowanie mieszanki, za pomocąktórej można trwale chronić przed zabrudzeniem i korozją podłoża zawierające związki krzemu, zwłaszcza szkło lub ceramikę. Mieszanka powinna zatem na podłożach tworzyć cienką i zwartą warstwę, która wykazuje dobrą przyczepność i ponadto dobrą mechaniczną odporność na ścieranie. Wytworzona z mieszanki warstwa powinna ponadto nadawać właściwości hydrofobowe powierzchni szkła i ceramiki.
Zadanie niniej szego wynalazku rozwiązano przez wytworzenie mieszanki, która składa się z następujących składników:
a) ze składnika A, utworzonego z co najmniej jednego polisiloksanu, który zawiera wiązania Si-H, o wzorze ogólnym 1 lub wzorze ogólnym 2, przy czym R oznacza resztę alkilową zawierając od 1 do 12 atomów węgla i/lub niepodstawioną lub podstawioną resztę fenylową, przy czym reszty R są częściowo zastąpione przez wodór i przy czym n we wzorze 1 ma wartość od 2 do 50, a n we wzorze 2 ma wartość od 4 do 50,
b) ze składnika B utworzonego z co najmniej jednego bi-, tn- lub tetrafunkcyjnego silanu o wzorze ogólnym 3, przy czym R1 oznacza niepodstawioną lub podstawioną resztę alkilową zawierającą od 1 do 12 atomów węgla, resztę cykloalkilową zawierającą od 5 do 6 atomów węgla, niepodstawioną lub podstawioną resztę fenylową i/lub resztę winylową, przy czym R11 oznacza resztę alkoksy Iową lub resztę CH3COO i działa jako reszta funkcyjna, przy czym część alkilowa reszty alkoksylowej zawiera od 1 do 12 atomów węgla i z ma wartość od 0 do 2 i
181 615
c) ze składnika C, utworzonego z co najmniej jednego silnego bezwodnego kwasu organicznego lub nieorganicznego.
Mieszankę wytwarza się korzystnie z ciekłych składników A, B i C w temperaturze do 80°C, z jednoczesnym mieszaniem. Mieszanka powinna być korzystnie przechowywana w niskiej temperaturze, ponieważ dzięki temu przedłuża się jej trwałość. Mieszankę można szczególnie korzystnie nanosić na podłoże po rozcieńczeniu rozpuszczalnikiem; może ona jednak także nie zawierać rozpuszczalnika i może być nanoszona na podłoże, na przykład przez rozpylanie/natryskiwanie pod ciśnieniem.
W innym wariancie wynalazku, mieszanka zawiera jako bifunkcyjny silan dialkilodialkoksysilan, dicykloalkilodialkoksysilan, difenylodialkoksysilan, dialkilodiacetoksysilan, dicykloalkilodiacetoksysilan, difenylodiacetoksysilan, winylometylodialkoksysilan lub winylometylo-diacetoksysilan.
Według niniejszego wynalazku okazało się szczególnie korzystne, jeśli w mieszance część bifunkcyjnego silanu jest zastąpiona disiloksanem o wzorze ogólnym 4, przy czym Rin oznacza resztę alkilową zawierającą od 1 do 12 atomów węgla, RIV oznacza resztę alkoksylową i część alkilowa reszty alkoksylowej zawiera od 1 do 12 atomów węgla.
W innym wariancie wynalazku, mieszanka zawiera jako trifunkcyjny silan monoalkilotrialkoksysilan, monocykloalkilotrialkosysilan, monofenylotrialkoksysilan, monoalkilotriacetoksysilan, monocykloalkilotriacetosysilan, monofenylotriacetoksysilan, winylotrialkoksysilan, winylotriacetoksysilan lub fluoroalkilotrialkoksysilan.
W innym wariancie wynalazku, mieszanka zawiera jako tetrafunkcyjny silan ester kwasu krzemowego o wzorze ogólnym 5, w którym Rv oznacza resztę alkilową zawierającą od 1 do 12 atomów węgla.
Bifunkcyjne silany działająjako przedłużacze łańcuchów lub łącząłańcuchy ze sobą, podczas gdy trifunkcyjne i tetrafunkcyjne silany powodują przestrzenne usieciowanie łańcuchów. Tak więc, silany powodują że z mieszanki według niniejszego wynalazku po naniesieniu na podłoże powstaje utwardzona żywica. Reakcje przebiegające podczas tworzenia żywicy będą objaśnione poniżej.
Według niniejszego wynalazku jest szczególnie korzystne, jeśli mieszanka zawiera, jako polisiloksan, liniowy polisiloksan o masie molowej od 350 do 15000. Taki siloksan nadaje warstwom wytworzonym z mieszanki według niniejszego wynalazku dobrą elastyczność i odporność na ścieranie.
W innym wariancie wynalazku, mieszanka zawiera jako kwas kwas chlorosulfonowy, kwas benzenosulfonowy, kwas p-toluenosulfonowy lub kwas trichlorooctowy, przy czym jest korzystne, jeśli mieszanka zawiera od 5 do 7% wagowych kwasu chlorosulfonowego lub od 10 do 12% wagowych kwasu trichlorooctowego. Przy użyciu tych kwasów można uzyskać bardzo równomierne tworzenie się żywicy.
W przypadku, jeśli mieszanka według niniejszego wynalazku zawiera silan z jedną lub z kilkoma resztkami winylowymi, jest szczególnie korzystne, jeśli do mieszanki dodaje się FeCl3, ZnCl2, PtCl6 lub SnCl4, w ilości od około 0,0005 do 0,01% wagowych. Te bezwodne substancje działająjako katalizator polimeryzacji i ułatwiają tworzenie się struktury żywicy.
W pewnych przypadkach okazało się korzystne, jeśli mieszanka według niniejszego wynalazku zawiera od 2 do 4% wagowych niższego alkoholu, korzystnie izopropanolu. Dzięki temu łatwiej sze jest posługiwanie się mieszanką (mniejsza lepkość), przy czym nie dochodzi do przedwczesnej alkoholizy wiązań Si-H. Niższe alkohole zawierają od 1 do 4 atomów węgla.
Mieszanka według niniejszego wynalazku zawiera także rozpuszczalnik, który składa się z co najmniej jednego niepolamego, ciekłego węglowodoru i/lub co najmniej jednego estru. Dodanie rozpuszczalnika ułatwia nanoszenie cienkich warstw na podłoże. Rozcieńczona, zawierająca rozpuszczalnik mieszanka według niniejszego wynalazku, jest całkowicie trwała podczas wielomiesięcznego przechowywania w temperaturze pokojowej. Można ją stosować znanymi sposobami nanoszenia cienkich warstw, na przykład przez natryskiwanie lub zanurzanie. Przed
181 615 nanoszeniem mieszanki rozpuszczonej w rozpuszczalniku jest konieczne oczyszczenie powierzchni podłoża.
Jako rozpuszczalniki szczególnie odpowiednie są: octan metylu, octan etylu lub octan butylu, n-heptan, izooktan, cykloheksan, pentan, toluen lub ksylen, a także ich mieszaniny, ponieważ są one obojętne względem właściwych reagentów.
Według wynalazku jest szczególnie korzystne, jeśli mieszanka zawiera na jedną część wagowąod 5 do 60 części wagowych rozpuszczalnika. Przy takim rozcieńczeniu mieszanki można wytwarzać z niej na podłożu cienkie warstwy przez powlekanie lub zanurzanie. Według niniejszego wynalazku jest także szczególnie korzystne, jeśli mieszanka zawiera na jedną część wagową od 90 do 100 części wagowych rozpuszczalnika. Przy takim rozcieńczeniu można wytwarzać z mieszanki cienkie warstwy przez natryskiwanie jej na podłoże.
Podczas wytwarzania i przerobu mieszanki zachodzą następujące reakcje. Podczas mieszania składników A, B i C zachodzi w wyniku działania składnika C głównie rozszczepienie pierścieniowych polisiloksanów, a obok niego w mniejszym stopniu hydroliza wiązań Si-H w polisiloksanach z utworzeniem grup Si-OH. Hydrolizę powoduje woda, która występuje w śladowych ilościach w urządzeniach do mieszania lub w związkach chemicznych. Po rozcieńczeniu mieszanki rozpuszczalnikiem i naniesieniu rozcieńczonej mieszanki na podłoże, rozpuszczalnik odparowuje z jednoczesnym utworzeniem się żywicy ze składników A i B, która w miarę postępu polimeryzacji i sieciowania składników, utwardza się i przy tym zostaje przyczepiona do podłoża dzięki utworzeniu się wiązań Si-O-Si. Pod wpływem składnika C, wiązania Si-H składnika A są hydrolizowane przez wodę znajdującą się w atmosferze i zaadsorbowanąlub związanąna powierzchni podłoża z wytworzeniem wodoru i grup Si-OH, które ze swej strony pod wpływem składnika C reagują z funkcyjnymi resztami alkoksylowymi lub CH3COO- składnika B z wytworzeniem alkoholi lub kwasu octowego, przy czym składniki A i B sąpołączone ze sobą wiązaniami Si-O-Si i zostająusieciowane pomiędzy sobą powierzchniowo lub przestrzennie. Nie jest konieczne dodatkowe doprowadzanie wody do układu reakcyjnego, ponieważ woda występuj ąca w atmosferze i na powierzchni podłoża wystarcza do zadowalającej hydrolizy wiązań Si-H. Utworzenie wiązań Si-O-Si pomiędzy żywicą i podłożem zachodzi pod wpływem składnika C w wyniku kondensacji zhydrolizowanych grup Si-H z grupami Si-OH podłoża z utworzeniem wody, która pozostaje do dyspozycji w reakcji hydrolizy. Składnik C, utworzone alkohole, a także utworzony kwas octowy i nie związane z żywicą reagenty i produkty uboczne mogąbyć wypłukane wodą z warstwy po wysuszeniu i utwardzeniu żywicy, przy czym do wody dodaje się ewentualnie środek zwilżający i/lub wodorotlenek metali alkalicznych.
Przedmiot wynalazku objaśniono za pomocą przykładów.
Przykład I
Mieszankę 200 g wodorometylopolisiloksanu o masie molowej 2000,150 g fenylotnmetoksysilanu, 50 g dimetylodietoksysilanu i 200 g oktylotrietoksysilanu zmieszano z 52 g kwasu trichlorooctowego. Mieszaninę ogrzano, z jednoczesnym mieszaniem, do temperatury od 60 do 65°C i utrzymywano w tej temperaturze w ciągu około 15 minut. Ogrzewanie odbywało się przy użyciu chłodnicy zwrotnej, w której skraplają się lotne składniki. Po ochłodzeniu mieszanki do temperatury około 30°C dodano kolejno 50 ml izopropanolu i 500 ml heptanu. Roztwór ten rozcieńczono następnie heptanem lub cykloheksanem do uzyskania zawartości suchej substancji od 4 do 8% wagowych. Roztwór natryskiwano na płytę szklaną. Po odparowaniu rozpuszczalnika uzyskano na płycie szklanej cienką błonę, która składa się z utwardzonej żywicy, jest hydrofobowa i przywiera silnie do płyty szklanej.
Przykład II
W reaktorze umieszczono 60 g polisiloksanu o masie molowej 950, który składa się z jednostek wodorometylosiloksanu i dimetylosiloksanu. Ten kopolimeryczny polisiloksan zmieszano z 60 g innego kopolimerycznego polisiloksanu, który składa się z jednostek wodoro- metylosiloksanu i metylooktylosiloksanu i ma masę molową 4250. Następnie dodano 25 g difenylodimetoksysilanu i 180 g oktylotrimetoksysilanu. Następnie dodano 15 g kwasu chlorosulfonowego. Mieszankę wytwarzano mieszając w temperaturze od 20 do 25°C i ogrze6
181 615 wano z ciągłym mieszaniem w temperaturze 40°C. Składniki lotne uwolnione podczas ogrzewania usunięto z reaktora. Po ochłodzeniu mieszanki do temperatury około 30°C dodano kolejno 50 ml izopropanolu i 500 ml heptanu. Roztwór ten rozcieńczono następnie heptanem lub cykloheksanem do uzyskania zawartości suchej substancji od 4 do 8% wagowych.
Na płytę szklaną natryskiwano rozcieńczony roztwór, przy czym utworzyła się odporna na ścieranie, hydrofobowa błona żywicy. Mieszankę, która zawierała tylko 50 ml izopropanolu i 500 ml heptanu, naniesiono na płytę szklaną. Błona wytworzona w ten sposób także miała dobrą przyczepność do płyty szklanej.
Przykład III
200 g wodorometylopolisiloksanu o masie molowej 2000 zmieszano z 300 g fenylotrimetoksysilanu, 30 g dimetylodietoksysilanu, 25 g difenylodimetoksysilanu i 200 g oktylotrimetoksysilanu. Następnie dodano 56 g kwasu trichlorooctowego. Mieszankę tę ogrzano ciągle mieszając do temperatury 50°C i utrzymywano w tej temperaturze w ciągu 10 minut. Składniki lotne skraplano w chłodnicy zwrotnej. Po ochłodzeniu mieszanki do temperatury około 30°C dodano kolejno 50 ml izopropanolu i 500 ml heptanu. Roztwór ten rozcieńczono następnie heptanem lub cykloheksanem do uzyskania zawartości suchej substancji od 4 do 8% wagowych.
Mieszankę, która zawierała tylko 50 ml izopropanolu i 500 ml heptanu, naniesiono na płytę szklaną. Utworzyła się błona, która po wysuszeniu miała dobrą przyczepność i była hydrofobowa. Mieszankę, która zawierała od 4 do 8% wagowych suchej substancji, natryskiwano na płytę szklaną. Po wysuszeniu otrzymano utwardzoną hydrofobową błonę, która wykazywała bardzo dobrą przyczepność.
Przykład IV g wodorometylopolisiloksanu o masie molowej 2000 i 80 g cyklopentasiloksanu, który składa się z 5 jednostek dimetylosiloksanu i ma masę molową 300, zmieszano ze 100 g fenylotriacetoksysilanu i 200 g oktylotrimetoksysilanu. Następnie dodano 30 g kwasu trichlorooctowego. Mieszankę ogrzano przy ciągłym mieszaniu do temperatury 65 °C i utrzymywano w tej temperaturze w ciągu 10 minut. Składniki lotne uwalniane podczas ogrzewania skraplano w. chłodnicy zwrotnej. Po ochłodzeniu mieszanki do temperatury około 35°C dodawano kolejno 20 g l,l,3,3-tetrametylo-l,3-dietoksysilanu, 20 ml izopropanolu i 500 ml heptanu. Roztwór ten rozcieńczono następnie heptanem lub cykloheksanem do uzyskania zawartości suchej substancji od 4 do 8% wagowych. Zarówno mieszankę, która zawierała 20 ml izopropanolu i 500 ml heptanu, jak również mieszankę, która zawierała od 4 do 8 % wagowych suchej substancji, można było nanosić lub natryskiwać na płytę szklaną przy czym utworzyła się błona, która po wysuszeniu miała dobrą przyczepność do płyty szklanej, była hydrofobowa i także nie zmieniała się po kilkakrotnej obróbce alkalicznym środkiem oczyszczającym.
Przy zastosowaniu heptanu i cykloheksanu, jako rozpuszczalników, uzyskano w każdym wypadku takie same właściwości powłoki powierzchniowej.
Stężenie suchej substancji w rozcieńczonych roztworach oznaczano przez odparowanie rozpuszczalnika w temperaturze 100°C do stałej wagi pozostałości.
181 615
WZÓR 1
WZÓR 2
Rz Si Rvz
WZÓR 3
181 615
WZÓR 4
Si ( OR\
IaI ZOR 5
Departament Wydawnictw UP RP. Nakład 60 egz.
Cena 2,00 zł.
Claims (14)
- Zastrzeżenia patentowe1. Mieszanka do obróbki podłoży zawierających krzem szczególnie do obróbki szkła lub ceramiki, znamienna tym, że składa się z następujących składników:a) ze składnika A, utworzonego z co najmniej jednego polisiloksanu, który zawiera wiązania Si-H, o wzorze ogólnym 1 lub wzorze ogólnym 2, przy czym R oznacza resztę alkilową zawierającą od 1 do 12 atomów węgla i/lub niepodstawioną lub podstawioną resztę fenylową, przy czym reszty R są częściowo zastąpione przez wodór i przy czym n we wzorze 1 ma wartość od 2 do 50, a n we wzorze 2 ma wartość od 4 do 50,b) ze składnika B utworzonego z co najmniej jednego bi-, tri- lub tetrafunkcyjnego silanu o wzorze ogólnym 3, przy czym R1 oznacza niepodstawioną lub podstawioną resztę alkilową zawierającą od 1 do 12 atomów węgla, resztę cykloalkilowązawierającą od 5 do 6 atomów węgla, niepodstawioną lub podstawioną resztę fenylową i/lub resztę winylową, przy czym R11 oznacza resztę alkoksylową lub resztę CH3COO i działa jako reszta funkcyjna, przy czym część alkilowa reszty alkoksylowej zawiera od 1 do 12 atomów węgla i z ma wartość od 0 do 2 ic) ze składnika C, utworzonego z co najmniej jednego silnego bezwodnego kwasu organicznego lub nieorganicznego.
- 2. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że jako bifiinkcyjny silan zawiera dialkilodialkoksysilan, dicykloalkilodialkoksysilan, difenylodialkoksysilan, dialkilodiacetoksysilan, dicykloalkilodiacetoksysilan, difenylodiacetoksysilan, winylometylodialkoksysilan lub winylometylodiacetoksysilan.
- 3. Mieszanka według zastrz. 2, znamienna tym, że część bifunkcyjnego silanu jest zastąpiona disiloksanem o wzorze ogólnym 4, przy czym R111 oznacza resztę alkilową zawierającą od 1 do 12 atomów węgla, RIV oznacza resztę alkoksylową i część alkilowa reszty alkoksylowej zawiera od 1 do 12 atomów węgla.
- 4. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera, jako trifunkcyjny silan, monoalkilotrialkoksysilan, monocykloalkilotrialkosysilan, monofenylotrialkoksysilan, monoalkilotriacetoksysilan, monocykloalkilotriacetosysilan, monofenylotriacetoksysilan, winylotrialkoksysilan, winylotriacetoksysilan lub fluoroalkilotrialkoksysilan.
- 5. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera, jako tetrafunkcyjny silan, ester kwasu krzemowego o wzorze ogólnym 5, w którym Rv oznacza resztę alkilowązawierającą od 1 do 12 atomów węgla.
- 6. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera, jako polisiloksan, liniowy polisiloksan o masie molowej od 350 do 15000.
- 7. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera jako kwas kwas chlorosulfonowy, kwas benzenosulfonowy, kwas p-toluenosulfonowy lub kwas trichlorooctowy.
- 8. Mieszanka według zastrz. 7, znamienna tym, że zawiera od 5 do 7% wagowych kwasu chlorosulfonowego lub od 10 do 12% wagowych kwasu trichlorooctowego.
- 9. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera silan z jedną lub z kilkoma resztami winylowymi i zawiera FeCl3, ZnCl2, PtClg lub SnCl4, w ilości od około 0,0005 do 0,01% wagowych.
- 10. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera od 2 do 4% wagowych niższego alkoholu, korzystnie izopropanolu.
- 11. Mieszanka według zastrz. 1, znamienna tym, że zawiera rozpuszczalnik, który składa się z co najmniej jednego niepolamego, ciekłego węglowodoru i/lub z co najmniej jednego estru.
- 12. Mieszanka według zastrz. 11, znamienna tym, że jako rozpuszczalnik, zawiera octan metylu, octan etylu lub octan butylu, n-heksan, n-heptan, izooktan, cykloheksan, pentan, toluen lub ksylen, lub mieszaniny tych substancji.181 615
- 13. Mieszanka według zastrz. 11 albo 12, znamienna tym, że na jedną część wagową zawiera od 5 części wagowych do 60 części wagowych rozpuszczalnika.
- 14. Mieszanka według zastrz. 11 albo 12, znamienna tym, że na jedną część wagową zawiera od 90 części wagowych do 100 części wagowych rozpuszczalnika.* * ♦
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| BE9400871A BE1008724A3 (nl) | 1994-09-27 | 1994-09-27 | Samenstelling voor het beschermen en waterafstotend maken van een siliciumhoudend substraat. |
| PCT/EP1995/003785 WO1996009993A1 (de) | 1994-09-27 | 1995-09-25 | Mischung zum behandeln von siliciumhaltigen substraten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL319386A1 PL319386A1 (en) | 1997-08-04 |
| PL181615B1 true PL181615B1 (pl) | 2001-08-31 |
Family
ID=3888379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL95319386A PL181615B1 (pl) | 1994-09-27 | 1995-09-25 | Mieszanka do obróbki podlozy zawierajacych krzem PL PL |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6030444A (pl) |
| EP (1) | EP0783464B1 (pl) |
| JP (1) | JPH10506144A (pl) |
| CN (1) | CN1096433C (pl) |
| AT (1) | ATE164148T1 (pl) |
| BE (1) | BE1008724A3 (pl) |
| BR (1) | BR9509027A (pl) |
| CZ (1) | CZ287863B6 (pl) |
| DE (1) | DE59501664D1 (pl) |
| DK (1) | DK0783464T3 (pl) |
| ES (1) | ES2113755T3 (pl) |
| PL (1) | PL181615B1 (pl) |
| WO (1) | WO1996009993A1 (pl) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1059676A3 (de) * | 1999-06-11 | 2004-06-16 | Fabrisolar AG | Verfahren zum Reinigen, Schutzbehandeln und Feinbeschichten von Solarpanels, Verwendung einer Behandlungssubstanz hierfür, sowie schutzbehandelte und feinbeschichtete Solarpanels. |
| US6270897B1 (en) * | 1999-07-29 | 2001-08-07 | Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. | Coupling-agent system for composite fibers |
| US6323268B1 (en) * | 2000-06-27 | 2001-11-27 | Dow Corning Corporation | Organosilicon water repellent compositions |
| US6403163B1 (en) | 2000-06-27 | 2002-06-11 | Chemrex, Inc. | Method of treating surfaces with organosilicon water repellent compositions |
| US6743516B2 (en) | 2000-09-29 | 2004-06-01 | Guardian Industries Corporation | Highly durable hydrophobic coatings and methods |
| CN1630744A (zh) * | 2001-09-07 | 2005-06-22 | 博登化学公司 | 使用粘合促进剂的涂覆光纤及其制备和使用方法 |
| EP1555249A1 (en) * | 2004-01-15 | 2005-07-20 | Nanogate Coating Systems GmbH | Hydrophobic and/or oleophobic coating on microstructured glass surfaces providing an anti-fingerprint effect |
| CN101148325B (zh) * | 2007-09-06 | 2010-10-06 | 北京首创纳米科技有限公司 | 一种用于玻璃的纳米防护液及其制备方法 |
| JP6758085B2 (ja) * | 2016-05-17 | 2020-09-23 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 撥水性組成物 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3579540A (en) * | 1968-11-01 | 1971-05-18 | Howard G Ohlhausen | Method for protecting nonporous substrates and for rendering them water repellent |
| JPS5378098A (en) * | 1976-12-20 | 1978-07-11 | Hitachi Maxell | Magnetic recording medium |
| JPS61250032A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-07 | Hitachi Chem Co Ltd | シラノ−ルオリゴマ−液の製造法 |
| JPS6256756A (ja) * | 1985-09-02 | 1987-03-12 | 松下冷機株式会社 | 冷蔵庫 |
| US4753977A (en) * | 1986-12-10 | 1988-06-28 | General Electric Company | Water repellent for masonry |
| JP2814259B2 (ja) * | 1989-03-06 | 1998-10-22 | 株式会社スリーボンド | 車両ガラス用表面処理剤 |
| SU1625838A1 (ru) * | 1989-03-21 | 1991-02-07 | Кубанский государственный университет | Защитное покрытие дл стекла |
| JPH0745332B2 (ja) * | 1989-04-27 | 1995-05-17 | アサヒビール株式会社 | ガラス容器の擦り傷遮蔽剤、擦り傷が遮蔽されたガラス容器およびガラス容器の擦り傷遮蔽方法 |
| US5034061A (en) * | 1990-03-15 | 1991-07-23 | General Electric Company | Transparent shatter-resistant silicone coating |
| JPH0791462B2 (ja) * | 1990-06-11 | 1995-10-04 | 信越化学工業株式会社 | 保護膜形成型シリコーンエマルジョン組成物 |
| JP2864674B2 (ja) * | 1990-06-21 | 1999-03-03 | 信越化学工業株式会社 | ガラス容器用すり傷遮蔽剤 |
| JPH0455491A (ja) * | 1990-06-22 | 1992-02-24 | Goyo Paper Working Co Ltd | 防汚機能付与剤 |
| JP2841113B2 (ja) * | 1990-08-24 | 1998-12-24 | 神東塗料株式会社 | 塗料組成物 |
| DE4029640A1 (de) * | 1990-09-19 | 1992-03-26 | Goldschmidt Ag Th | Zubereitung zur wasserabweisenden impraegnierung poroeser mineralischer baustoffe |
| JPH04144940A (ja) * | 1990-10-05 | 1992-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | 撥水撥油剤組成物 |
| US5283307A (en) * | 1992-08-31 | 1994-02-01 | Dow Corning Corporation | Organosiloxane compositions exhibiting improved bonding to substrates during curing |
| JP2774235B2 (ja) * | 1992-10-06 | 1998-07-09 | 有限会社ナトー研究所 | オルガノシロキサン液組成物とその用途 |
| JP2776190B2 (ja) * | 1993-03-08 | 1998-07-16 | 信越化学工業株式会社 | 撥水処理剤組成物 |
| CA2127679A1 (en) * | 1993-07-27 | 1995-01-28 | Ewald Vorberg | Set of reagents for determining the fructosamine content |
| JPH07207231A (ja) * | 1994-01-24 | 1995-08-08 | Toshiba Silicone Co Ltd | 射出成形用プライマー組成物 |
| JPH07238259A (ja) * | 1994-03-01 | 1995-09-12 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | コンフォーマルコーティング剤 |
| DE4419257A1 (de) * | 1994-06-01 | 1995-12-07 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur wasserabweisenden Imprägnierung von Gips |
| JP3393713B2 (ja) * | 1994-08-31 | 2003-04-07 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 繊維糸状物用ストレート油剤組成物 |
| JP2916667B2 (ja) * | 1994-09-01 | 1999-07-05 | 大阪市 | 陶器製便器の防汚剤及び防汚方法 |
| JP3083457B2 (ja) * | 1994-09-16 | 2000-09-04 | タカタ株式会社 | エアバッグ用基布及びその製造方法 |
| US5728203A (en) * | 1995-10-26 | 1998-03-17 | Lord Corporation | Aqueous protective and adhesion promoting composition |
| US5807430A (en) * | 1995-11-06 | 1998-09-15 | Chemat Technology, Inc. | Method and composition useful treating metal surfaces |
-
1994
- 1994-09-27 BE BE9400871A patent/BE1008724A3/nl not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-09-25 DE DE59501664T patent/DE59501664D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1995-09-25 CZ CZ1997921A patent/CZ287863B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1995-09-25 EP EP95933426A patent/EP0783464B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-25 BR BR9509027A patent/BR9509027A/pt not_active Application Discontinuation
- 1995-09-25 DK DK95933426.9T patent/DK0783464T3/da active
- 1995-09-25 WO PCT/EP1995/003785 patent/WO1996009993A1/de not_active Ceased
- 1995-09-25 PL PL95319386A patent/PL181615B1/pl not_active IP Right Cessation
- 1995-09-25 CN CN95195308A patent/CN1096433C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1995-09-25 ES ES95933426T patent/ES2113755T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-25 JP JP8511364A patent/JPH10506144A/ja not_active Ceased
- 1995-09-25 US US08/817,221 patent/US6030444A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-09-25 AT AT95933426T patent/ATE164148T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BR9509027A (pt) | 1998-06-23 |
| CZ92197A3 (en) | 1997-08-13 |
| CN1158596A (zh) | 1997-09-03 |
| BE1008724A3 (nl) | 1996-07-02 |
| DK0783464T3 (da) | 1998-04-27 |
| JPH10506144A (ja) | 1998-06-16 |
| CZ287863B6 (en) | 2001-02-14 |
| ES2113755T3 (es) | 1998-05-01 |
| CN1096433C (zh) | 2002-12-18 |
| EP0783464B1 (de) | 1998-03-18 |
| PL319386A1 (en) | 1997-08-04 |
| ATE164148T1 (de) | 1998-04-15 |
| DE59501664D1 (de) | 1998-04-23 |
| WO1996009993A1 (de) | 1996-04-04 |
| US6030444A (en) | 2000-02-29 |
| EP0783464A1 (de) | 1997-07-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4652618A (en) | Polyorganosiloxane compositions for surface treatment | |
| US5629095A (en) | Radiation curable compositions containing vinyl ether functional polysiloxanes and methods for the preparation | |
| US4311737A (en) | Adhesive silicone compositions for substrates | |
| US5824761A (en) | Radiation curable compositions containing vinyl ether functionality and methods for their preparation | |
| EP0268365B1 (en) | Self-adhering polyorganosiloxane elastomer and method for preparing same | |
| JP2614462B2 (ja) | ゴム用表面処理剤組成物 | |
| JPH07503748A (ja) | 湿分硬化性ポリシロキサン剥離コーティング組成物 | |
| EP0425121B1 (en) | Silicone primer compositions | |
| US4078104A (en) | Release composition for bituminous materials | |
| PL181615B1 (pl) | Mieszanka do obróbki podlozy zawierajacych krzem PL PL | |
| JP4994529B2 (ja) | 水系コーティング剤組成物 | |
| JP3164603B2 (ja) | 表面処理剤および表面処理されたepdm物品 | |
| US5612400A (en) | Silicone pressure sensitive adhesive compositions and method for making | |
| JP3022101B2 (ja) | 剥離性オルガノポリシロキサン組成物及び剥離紙 | |
| JP3255501B2 (ja) | 表面処理用組成物及びゴムの表面処理方法 | |
| EP0724000B1 (en) | Method of forming an insoluble coating on a substrate | |
| WO2002100560A1 (en) | Capped silicone film | |
| JPH1192694A (ja) | エマルジョン組成物 | |
| JPH04144940A (ja) | 撥水撥油剤組成物 | |
| JPH0524181B2 (pl) | ||
| US4448814A (en) | Method of forming film | |
| JP4394182B2 (ja) | プライマ―組成物及び接着方法 | |
| JPH1060376A (ja) | コーティング剤組成物 | |
| JP3573820B2 (ja) | 表面処理剤 | |
| CA2200359C (en) | Mixture for treating silicon-containing substrates |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Decisions on the lapse of the protection rights |
Effective date: 20080925 |