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テトラカルボン酸ジエステル化合物、ポリイミド前駆体の重合体及びその製造方法、ネガ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び硬化被膜形成方法
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テトラカルボン酸ジエステル化合物、ポリイミド前駆体の重合体及びその製造方法、ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び硬化被膜形成方法
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2020-01-29 |
信越化学工業株式会社 |
テトラカルボン酸ジエステル化合物、ポリイミド前駆体の重合体及びその製造方法、ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び硬化被膜形成方法
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JP6663380B2
(ja)
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2017-03-22 |
2020-03-11 |
信越化学工業株式会社 |
ポリイミド前駆体の重合体、ポジ型感光性樹脂組成物、ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品
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JP6810677B2
(ja)
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2017-12-05 |
2021-01-06 |
信越化学工業株式会社 |
新規テトラカルボン酸二無水物、ポリイミド樹脂及びその製造方法、感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、電子部品
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JP7145126B2
(ja)
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2018-08-01 |
2022-09-30 |
信越化学工業株式会社 |
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド構造を含む重合体、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、感光性ドライフィルム及び電気・電子部品保護用皮膜
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JP7154184B2
(ja)
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2019-04-15 |
2022-10-17 |
信越化学工業株式会社 |
ポジ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品
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US11572442B2
(en)
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2020-04-14 |
2023-02-07 |
International Business Machines Corporation |
Compound, polyimide resin and method of producing the same, photosensitive resin composition, patterning method and method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
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US11333975B2
(en)
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2020-04-14 |
2022-05-17 |
International Business Machines Corporation |
Polymer, photosensitive resin composition, patterning method, method of forming cured film, interlayer insulating film, surface protective film, and electronic component
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JP2022029427A
(ja)
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2020-08-04 |
2022-02-17 |
信越化学工業株式会社 |
ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品
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KR102418193B1
(ko)
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2020-08-28 |
2022-07-07 |
주식회사 파이솔루션테크놀로지 |
감광성 폴리이미드 및 이의 조성물
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KR20220089659A
(ko)
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2020-12-21 |
2022-06-28 |
주식회사 파이솔루션테크놀로지 |
네가티브형 감광성 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법
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JP7503015B2
(ja)
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2021-03-09 |
2024-06-19 |
信越化学工業株式会社 |
ポリイミドを含む重合体、ポジ型感光性樹脂組成物、ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品
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JP2023165095A
(ja)
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2022-05-02 |
2023-11-15 |
信越化学工業株式会社 |
ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品
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