KR20220089659A - 네가티브형 감광성 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 명세서는 화학식 1로 표시되는 화합물 및 화학식 2로 표시되는 화합물을 반응시켜 화학식 3으로 표시되는 반복단위 구조를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법, 폴리아믹산 에스테르 공중합체 및 감광성 폴리이미드 조성물을 제공한다.
Description
본 명세서는 2020년 12월 21일자로 한국특허청에 제출된 제10-2020-0179421호에 대한 우선권을 주장하며, 그 내용은 본 명세서에 포함된다.
본 발명은 감광성 폴리이미드에 관한 것으로서 자세하게는 반도체 표면 보호용 코팅제 및 Wafer level 패키지용 절연막등의 용도로 사용할 수 있는 저온경화형 네가티브형 감광성 폴리이미드 및 그 조성물에 관한 것이다.
폴리이미드는 이미드 결합을 갖는 폴리머로서 열적, 화학적, 기계적 특성이 우수하기 때문에 산업적 중요성이 크다. 특히, 우수한 기계적, 전기적 특성으로 말미암아 전기 전자 및 반도체 산업에 다방면으로 사용되고 있다. 특히, 감광성 폴리이미드는 반도체 표면 보호용 코팅막이나 절연재, CSP(Chip Size Package) 또는 WLP(Wafer Level Package) 등 모듈화된 전기전자 부품용 감광성 수지로 각광받고 있다.
일반적으로 폴리이미드는 용해도가 부족한 경우가 많아 그 전구체 상태인 폴리아믹산 상태에서 감광성 폴리이미드 조성물을 제조하고 리소그라피 공정후에 고온에서 경화하여 안정한 형태의 폴리이미드를 얻게 된다. 감광성 폴리이미드 조성물을 wafer 등 기판에 코팅하여 박막을 형성한 다음 패턴이 형성된 포토마스크를 통하여 UV를 조사한다. 이때 UV가 조사된 부분과 조사되지 않은 부분은 현상액에 대한 용해도가 달라지게 되어 원하는 패턴을 얻을 수 있게 된다. 이때 UV에 의하여 용해도가 증가하는 경우를 포지티브형이라고 하며 감소하게 되는 경우를 네가티브형이라고 한다.
네가티브형 감광성 폴리이미드의 대표적인 기술로서 미국특허 제3,957,512호는 감광성 작용기가 에스테르 결합의 형태로 연결된 폴리아믹산을 게시하고 있다. 그리고 일본특허 소52-133152는 나프타퀴논디아지드를 용해 억제제로 사용하는 감광성 폴리이미드 기술에 대해서 언급하고 있다. 또한 한국 공개특허 10-2014-0073277 에서는 이러한 용해억제제 대신에 광반응이 가능한 신나메이트기를 도입한 네가티브 감광성 폴리이미드 제조 방법에 대하여 기술하고 있다.
이러한 종래의 감광성 폴리이미드의 제조방법은 높은 경화온도를 필요로 하거나 경화 과정중에 에스테르 형태로 결합된 감광성 반응기의 탈착에 따라 과도한 수축현상이 일어나는 문제가 있다. 한편 화학적 이미드화 반응을 통하여 미리 이미드화된 고분자를 사용하는 경우 인장 신율과 같은 기계적 물성이 부족한 경우가 많고 화합물 제조공정중에 감광성 반응기를 부가하기 어려워 고분자의 재침전 과정을 거치는 등 제조 공정상 경제적으로 불리한 문제점이 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 유기용매 뿐만 아니라 알칼리 수용액에서도 현상성을 가지면서 잔막율이 우수한 네가티브형 감광성 폴리이미드를 경제적으로 제조할 수 있는 폴리아믹산 에스테르 공중합체를 제공하는 것이다.
상기 과제의 해결을 위하여 본 발명의 일 구현예에 따르면, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 구조를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법이 제공된다:
(상기 화학식 1 내지 화학식 3에서, Ar1 및 Ar3은 각각 독립적으로 디안하이드라이드 구조로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이며, Ar2는 디아민으로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고, 상기 화학식 3에서 n은 3 내지 50에서 선택되는 정수이고, 
이다).
상기 구현예에 있어서, 상기 Ar2에는 하기의 구조에서 선택되는 1 이상이 포함될 수 있다:
한편 상기 구현예에서 상기 Ar1 및 Ar3에는 각각 독립적으로 하기의 구조에서 선택되는 1 이상이 포함될 수 있다:
한편, 상기 구현예에 있어서, 상기 Ar2는 카르복실기 또는 히드록실기에서 선택되는 1 이상의 작용기를 포함하는 디아민 유래의 라디칼일 수 있다. 이때, 상기 Ar2에는 하기 구조에서 선택되는 1 이상이 포함될 수 있다:
상기 일 구현예의 제조방법에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에는 하기의 화학식 4로 표시되는 화합물이 포함될 수 있다:
한편 본 발명의 다른 구현예에 따르면, 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 구조를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체가 제공된다:
[화학식 3]
(상기 화학식 3에서, Ar1 및 Ar3은 디안하이드라이드 구조로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이며, Ar2는 디아민으로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고, n은 3 내지 50에서 선택되는 정수이며, 
이다).
상기 다른 구현예에 있어서, Ar2는 하기의 구조에서 선택되는 1 이상일 수 있다:
또한, 상기 다른 구현예에 있어서, 상기 Ar1 및 Ar3는 각각 독립적으로 하기의 구조에서 선택되는 1 이상일 수 있다:
본 발명의 또 다른 구현예에 따르면, 상기 기재된 폴리아믹산 에스테르 공중합체 및 이미드화 촉매를 포함하는 감광성 폴리이미드 조성물이 제공된다.
본 발명의 구현예에 따르면, 종래의 폴리아믹산-폴리아믹산 에스테르 공중합체를 용이하게 제조할 수 있어 종래의 폴리아믹산 에스테르에 비하여 잔막율이 우수하며, 폴리아믹산 에스테르를 합성 후 침전 수제 등의 부가공정이 필요 없어, 공정 효율이 높다.
또한, 공중합체에서 폴리아믹산의 함량을 자유롭게 조절함으로써 기존 네가티브 감광성 폴리이미드에 사용되는 유기용매 현상액 뿐만 아니라, 수계 현상액도 사용할 수 있어 공정성이 우수하다.
도 1은 본 발명의 합성예1에서 합성한 BMAODMB의 1H NMR 스펙트럼이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따라, 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 반응시켜 화학식 3의 화합물을 수득하는 반응식이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따라, 화학식 1의 화합물 및 화학식 2의 화합물을 반응시켜 화학식 3의 화합물을 수득하는 반응식이다.
이하에 본 발명을 상세하게 설명하기에 앞서, 본 명세서에 사용된 용어는 특정의 실시예를 기술하기 위한 것일 뿐, 첨부하는 특허청구의 범위에 의해서만 한정되는 본 발명의 범위를 한정하려는 것은 아님을 이해하여야 한다. 본 명세서에 사용되는 모든 기술용어 및 과학용어는 다른 언급이 없는 한은 기술적으로 통상의 기술을 가진 자에게 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다.
본 명세서 및 청구범위의 전반에 걸쳐, 다른 언급이 없는 한 포함(comprise, comprises, comprising)이라는 용어는 언급된 물건, 단계 또는 일군의 물건, 및 단계를 포함하는 것을 의미하고, 임의의 어떤 다른 물건, 단계 또는 일군의 물건 또는 일군의 단계를 배제하는 의미로 사용된 것은 아니다.
한편, 본 발명의 여러 가지 구현예 및 실시예들은 명확한 반대의 지적이 없는 한 그 외의 어떤 다른 실시예들과 결합될 수 있다. 특히 바람직하거나 유리하다고 지시하는 어떤 특징도 바람직하거나 유리하다고 지시한 그 외의 어떤 특징 및 특징들과 결합될 수 있다.
한편, 본 발명에서 서술하고 있는 공중합체는 2개 이상의 모노머를 이용하여 제조된 것으로서 통상적인 의미의 공중합체이다. 예를 들어 (A)a-(B)b 라고 표시된 경우 모노머 A와 모노머 B로 이루어진 공중합체이며 a와 b는 두 모노머의 비율을 의미하며 고분자 사슬내에서 A와 B가 불규칙적으로 배열된 랜덤공중합체인지 각각 A 블록과 B블록으로 이루어진 블록공중합체인지, A와 B가 교대로 배열된 교대공중합체인지를 특별히 한정하지는 않는다.
이하에 본 발병에 대하여 보다 상세히 설명한다.
본 발명의 일 구현예에 따르면 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 구조를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법이 제공된다:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
(상기 화학식 1 내지 화학식 3에서, Ar1 및 Ar3은 각각 독립적으로 디안하이드라이드 구조로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이며, Ar2는 디아민으로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고, 상기 화학식 3에서 n은 3 내지 50에서 선택되는 정수이고, 
이다).
상기 화학식 3에서 n은 중합도를 나타내는 것으로서 3 내지 50에서 선택되는 정수일 수 있다. 나아가, n은 5 내지 20 사이의 정수일 수 있다. 상기 화학식 3에서 R은 화학식 1의 화합물에서 유래한 것으로 에틸메타크릴레이트기일 수 있다.
상기 화학식 1 및 화학식 3에 포함되어 있는 Ar1 및 Ar3는 각각 독립적으로 폴리이미드의 제조에 사용되는 디안하이드라이드에서 유래한 라디칼 구조일 수 있다. 상기 디안하이드라이드에서 라디칼 구조는 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼일 수 있다.
구체적으로, 상기 Ar1 및 Ar3는 각각 독립적으로 하기의 구조에서 선택되는 1종 이상일 수 있다:
상기 화학식 2 및 화학식 3에 포함되어 있는 Ar2는 폴리이미드를 제조하는데 사용하는 디아민으로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼일 수 있다. 구체적으로, 하기의 구조에서 선택된 1 이상일 수 있다:
상기 Ar2는 그 구조 내에 카르복실기(-COOH) 또는 하이드록실기(-OH)를 갖는 구조를 단독으로 또는 혼합물의 형태로 포함할 수 있다. 이의 구체적인 예에는 하기의 구조가 포함될 수 있다:
본 발명의 일 구현예에 따른 폴리아믹산 에스테르 공중합체를 이용하여 제조되는 감광성 폴리이미드는 통상 유기 용매에 우수한 현상성을 보이기는 하나, 상기 카르복실기 또는 하이드록실기를 갖는 Ar2 구조가 존재할 경우에는 상기 감광성 폴리이미드가 알칼리 수용액에 용해성을 띌 수 있고, 이 때문에 유기용매뿐만 아니라 알칼리 수용액에 용해성을 가질 수 있다.
상기의 화학식 1 및 화학식 2를 반응시켜 화학식 3을 제조함에 있어서 상기 화학식 1의 화합물을 이용할 경우, 화학식 1의 화합물을 디안하이드라이드와 반응시켜 폴리아믹산-폴리아믹산 에스테르 공중합체를 비교적 쉽게 합성할 수 있다. 도2에 나타낸 반응식과 같이 화학식 1로 표시되는 화합물을 같은 몰량의 디안하이드라이드와 반응시키면 아믹산과 아믹산 에스테르의 함량이 50:50인 공중합체가 얻어지며, 임의의 디아민과 디안하이드라이드를 추가로 사용하면 공중합체에서 아믹산의 함량을 50% 이상으로 높일 수 있다.
다시말해서, 본 발명의 구현예에 따라 화학식 1로 표시되는 화합물을 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조에 이용할 경우, 그 분자구조적 특징으로 인하여 폴리아믹산과 폴리아믹산 에스테르의 비율을 의도한 바 대로 조절하기가 용이하다.
한편, 화학식 1로 표현되는 화합물에는 하기의 화학식 4로 표현되는 화합물이 포함될 수 있다.
[화학식 4]
본 발명의 다른 구현예에 따르면, 하기 화학식 3의 반복단위를 포함하는 폴리아믹산 에스테르 공중합체가 제공된다:
하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 구조를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체:
[화학식 3]
(상기 화학식 3에서, Ar1 및 Ar3은 각각 독립적으로 디안하이드라이드 구조로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이며, Ar2는 디아민으로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고, n은 3 내지 50에서 선택되는 정수이며, 
이다).
상기 화학식 3에서 Ar1 및 Ar3은 각각 독립적으로 디안하이드라이드 구조로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이며, 구체적으로 하기의 구조에서 선택된 1 이상일 수 있다:
한편, 상기 화학식 3에서 상기 Ar1 및 Ar3는 각각 독립적으로 하기의 구조에서 선택되는 1 이상이 포함될 수 있다:
상기 수득된 화학식 3의 반복단위를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체에 이미드화 촉매를 혼합하면 감광성 폴리이미드 조성물을 수득할 수 있다.
이하, 본 발명을 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명에 따른 실시예들은 해당 분야에 종사하는 평균적인 종사자들이 본 발명의 내용을 보다 이해하기 쉽도록 제공하는 것이며 발명의 범위를 한정하지는 않는다.
합성예 1
BMAODMB의 합성; Bis(2-(metacryloyloxy)ethyl)5,5'-oxybis(2-((4'-amino-2,2'-dimehtyl-[1,1'-biphenyl]-4-yl)carbamoyl)benzoate)의 합성)
1) 옥시디프탈릭안하이드라이드 (ODPA) 15.51g(50mmol)과 N-메틸피롤리돈(NMP) 70g , 4-메톡시페놀(MEHQ) 0.08g , 1,8-디아자바이사이클로(5,4,0)운데센(DBU) 0.15g(1mmol)을 투입하고 녹였다.
2) 2-히드록시에틸메타아크릴레이트(HEMA) 13.27g(102 mmol)을 넣고 상온에서 24시간 반응시켰다.
3) N,N-디사이클로헥실카르보디이미드(DCC) 22.69g(110mmol)을 NMP 20g에 용해시킨후 10℃이하에서 적가시켰다.
4) 적가후 10℃에서 3시간 반응 시켰다.
5) 다른 플라스크에 2,2'-디메틸벤지딘(DMB) 21.229g(100mmol)을 NMP 60g에 용해 시켰다.
6) 상기 용액을 DMB 용액에 적가하였다.
7) 상온에서 3시간 반응한 다음 반응 부산물인 디사이클로헥실우레아(DCU)를 필터하여 제거했다.
8) 용액을 과량의 물을 이용하여 침전을 얻고 반복적으로 씻어 주었다.
9) 45℃ 진공 오븐에서 24시간 동안 건조하여 흰색 파우더 40g 을 얻었다(수율 82%)
실시예 1
폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조
4구 플라스크에 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl 2-pyrrolidone, NMP) 51.52 g을 넣고 비스(2-(메타아크릴로일옥시)에틸)5,5'-옥시비스(2-((4'-아미노-2,2'-디메틸-[1,1'-비페닐]-4-일)카바모일)벤조에이트 (BMAODMB) 19.084g(19.9mmol) 을 넣고 질소 기류하에서 용해시켰다. 이어서 옥시디프탈릭안하이드라드(oxyphthalic dianhydride, ODPA) (5.584g , 18mmol)을 서서히 투입하고 상온에서 24시간 동안 저어 주어 ODPA-BMAOMB 구조의 폴리아믹산 에스테르 공중합체를 얻었다.
네가티브형 감광성 폴리이미드 조성물의 제조 및 평가
상기의 폴리아믹산 에스테르 공중합체 용액에 UV 광개시재로 Ciba사(社)에서 상업적으로 입수 가능한 irgacure 813을 폴리이미드 고형분의 0.05wt% (0.0123g) 투입하고 완전히 녹여주었다. 조성물 용액을 0.45um 사이즈의 실린지 필터로 걸러 감광성 조성물을 제조하였다
제조된 네가티브형 감광성 폴리이미드 조성물을 실리콘 웨이퍼상에 스핀 코팅하여 도포한 후, 120℃에서 2분간 프리베이킹(PRB)을 행하여 평균두께 10 ㎛의 폴리이미드 막을 얻었다. 얻어진 막에 초고압 수은 램프를 이용하여 300mJ의 UV를 조사하고 23 ℃에서 시클로펜타논(Cyclopentanone, CPN) 또는 2.38% 테트라메틸암모니움하이드록시드(TMAH) 용액을 이용하여 2분간 현상하여 현상성을 비교 평가하였다. 최종 얻어진 박막을 컨벡션 오븐(convection oven)에 넣고 질소기류 하에서 350℃에서 60분간 열처리 하여 최종 폴리이미드 필름을 얻었다.
얻어진 필름은 비표면측정장치(alpha-step surface profiler, ET-3000,Kosaka Laboratory)를 사용하여 패턴화된 필름의 두께를 측정하고 다음 수학식을 이용하여 잔막율을 계산하여 그 결과를 <표1>에 비교예와 함께 나타내었다.
잔막율(%) = (열처리후 필름의 막 두께 / 프리베이킹 후의 막 두께) x 100
실시예 2
실시예 1과 같은 방법으로 비스(2-(메타아크릴로일옥시)에틸)5,5'-옥시비스(2-((4'-아미노-2,2'-디메틸-[1,1'-비페닐]-4-일)카바모일)벤조에이트 (BMAODMB) 19.084g(19.9mmol)과 비페닐프탈산디안하이드라이드 (Biphenyl dianhydride, BPDA) (5.590g , 19mmol)을 반응시켜 BPDA-BMAOMB 구조의 폴리아믹산 에스테르 공중합체를 얻었다. 얻어진 공중합체 용액에 irgacure813 0.05wt%를 가하여 감광성 조성물을 제조하고 실시예 1과 같은 방법으로 최종적으로 노광된 필름을 얻었다.
실시예 3
실시예 1과 같은 방법으로 비스(2-(메타아크릴로일옥시)에틸)5,5'-옥시비스(2-((4'-아미노-2,2'-디메틸-[1,1'-비페닐]-4-일)카바모일)벤조에이트 (BMAODMB) 16.303g(17mmol)과 p-페닐렌디아민(p-Phenylene diamine, PDA) (0.324g 3mmol)을 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl 2-pyrrolidone, NMP) 51.52 g 에 녹인 다음 비페닐프탈산디안하이드라이드 (Biphenyl dianhydride, BPDA) (5.590g , 19mmol) 을 반응시켜 BPDA-PDA-BMAOMB 구조의 폴리아믹산 에스테르 공중합체를 얻었다. 얻어진 공중합체 용액에 irgacure 813 0.05wt%를 가하여 감광성 조성물을 제조하고 실시예 1과 같은 방법으로 최종적으로 노광된 필름을 얻었다.
비교예
3구 플라스크에 N-메틸-2-피롤리돈(N-Methyl 2-pyrrolidone, NMP) 51.52 g을 넣고 옥시디프탈릭디안하이드라이(Oxydiphthalic dianhydride, ODPA) 15.51g(50 mmol) 과 2-히드록시에틸메타아크릴레이트(HEMA) 13.27g(102 mmol)을 넣고 상온에서 24시간 반응시킨다. 이때 반응 촉매로 피리딘을 소량 첨가한다. 반응이 완료되면 N,N-디사이클로헥실카르보디이미드 (DCC) 22.69g(110mmol)을 NMP 20g에 용해시킨후 10oC 이하에서 적가시킨다. 이어서 NMP 60g에 녹인 2,2'-디메틸벤지딘(DMB) 21.229g(100mmol)을 0~10℃의 온도를 유지한면서 1시간에 걸쳐 천천히 적가한다. 추가로 상온에서 2시간 동안 더 반응 시킨 다음 NMP 50g을 추가로 반응액에 넣어준 다음 침전물을 여과하였다. 얻어진 여과액을 500ml 의 에탄올에 가하여 침전을 얻었다. 얻어진 침전을 테트라하이드로퓨란(THF) 용액에 녹인 다음 과량의 물과 에탄올에 부어 침전을 얻고 여러 번 씻어주었다.
얻어진 침전은 50℃진공 오븐에서 24시간동안 건조하여 파우더 형태의 폴리아믹산 에스테르를 얻었다. 얻어진 폴리아믹산 에스테르 30g을 100g의 NMP에 다시 녹여서 폴리아믹산 용액을 얻고 여기에 0.015g의 irgacure 813을 추가하여 감광성 조성믈 제조하고 실시예 1과 같은 방법으로 노광된 필름을 얻었다.
| 현상액 | PRB후 두께(um) | 열처리후 두께(um) | 잔막율(%) | 현상성 | |
| 실시예 1 | CPN | 10 | 7.8 | 78 | O |
| TMAH | 10 | 7.6 | 76 | O | |
| 실시예 2 | CPN | 11 | 9.13 | 83 | O |
| TMAH | 11 | 8.8 | 80 | O | |
| 실시예 3 | CPN | 9 | 6.3 | 70 | △ |
| TMAH | 9 | 6.2 | 70 | O | |
| 비교예 | CPN | 10 | 5.5 | 55 | O |
| TMAH | 10 | 5.9 | 59 | X | |
| <현상성> O 패턴 형성 양호 △ : 보통(패턴은 형성되나 일부 미현상) X : 불량 (미현상) | |||||
이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시 양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아닌 점은 명백할 것이다. 따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 청구항들과 그것들의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.
Claims (10)
- 하기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 구조를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법:
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
(상기 화학식 1 내지 화학식 3에서, Ar1 및 Ar3은 각각 독립적으로 디안하이드라이드 구조로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이며, Ar2는 디아민으로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고, 상기 화학식 3에서 n은 3 내지 50에서 선택되는 정수이고,이다).
- 제1항에 있어서, 상기 Ar2에는 하기의 구조에서 선택되는 1 이상이 포함되는 것인, 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법:
- 제1항에 있어서, 상기 Ar1 및 Ar3에는 각각 독립적으로 하기의 구조에서 선택되는 1 이상이 포함되는 것인, 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법:
.
- 제1항에 있어서, 상기 Ar2는 카르복실기 또는 히드록실기에서 선택되는 1 이상의 작용기를 포함하는 디아민 유래의 라디칼인 것인, 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법.
- 제4항에 있어서, 상기 Ar2에는 하기 구조에서 선택되는 1 이상이 포함되는 것인, 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법:
.
- 제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에는 하기의 화학식 4로 표시되는 화합물이 포함되는 것인, 폴리아믹산 에스테르 공중합체의 제조방법:
[화학식 4]
.
- 하기 화학식 3으로 표시되는 반복단위 구조를 가지는 폴리아믹산 에스테르 공중합체:
[화학식 3]
(상기 화학식 3에서, Ar1 및 Ar3은 각각 독립적으로 디안하이드라이드 구조로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이며, Ar2는 디아민으로부터 유래한 탄소수 4 내지 20개의 지방족, 지환족 또는 방향족 라디칼이고, n은 3 내지 50에서 선택되는 정수이며,이다).
- 제7항에 있어서, Ar2는 하기의 구조에서 선택되는 1 이상인, 폴리아믹산 에스테르 공중합체:
.
- 제7항에 있어서, 상기 Ar1 및 Ar3는 각각 독립적으로 하기의 구조에서 선택되는 1 이상이 포함되는 것인, 폴리아믹산 에스테르 공중합체:
.
- 제7항에 기재된 폴리아믹산 에스테르 공중합체 및 이미드화 촉매를 포함하는 감광성 폴리이미드 조성물.
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| KR20190058976A (ko) | 2017-11-22 | 2019-05-30 | 한국화학연구원 | 감광성 폴리아믹산 유도체 수지 및 내열성 네가티브형 포토레지스트 조성물 |
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