NL1015367A1 - Deklaagsamenstelling voor een fotobeschermlaag en werkwijze voor het vormen van een fijn patroon door het gebruik ervan. - Google Patents

Deklaagsamenstelling voor een fotobeschermlaag en werkwijze voor het vormen van een fijn patroon door het gebruik ervan.

Info

Publication number
NL1015367A1
NL1015367A1 NL1015367A NL1015367A NL1015367A1 NL 1015367 A1 NL1015367 A1 NL 1015367A1 NL 1015367 A NL1015367 A NL 1015367A NL 1015367 A NL1015367 A NL 1015367A NL 1015367 A1 NL1015367 A1 NL 1015367A1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
photoprotection
forming
coating composition
fine pattern
fine
Prior art date
Application number
NL1015367A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1015367C2 (nl
Inventor
Jae Chang Jung
Keun Kyu Kong
Hyeong Soo Kim
Jin Soo Kim
Cha Won Koh
Sung Eun Hong
Geun Su Lee
Min Ho Jung
Ki Ho Baik
Original Assignee
Hyundai Electronics Ind
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hyundai Electronics Ind filed Critical Hyundai Electronics Ind
Publication of NL1015367A1 publication Critical patent/NL1015367A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1015367C2 publication Critical patent/NL1015367C2/nl

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
NL1015367A 1999-06-03 2000-05-31 Deklaagsamenstelling voor een fotobeschermlaag en werkwijze voor het vormen van een fijn patroon door het gebruik ervan. NL1015367C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-1999-0020538A KR100401116B1 (ko) 1999-06-03 1999-06-03 아민오염방지 물질 및 이를 이용한 미세패턴 형성방법
KR19990020538 1999-06-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1015367A1 true NL1015367A1 (nl) 2000-12-06
NL1015367C2 NL1015367C2 (nl) 2001-05-17

Family

ID=19589910

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1015367A NL1015367C2 (nl) 1999-06-03 2000-05-31 Deklaagsamenstelling voor een fotobeschermlaag en werkwijze voor het vormen van een fijn patroon door het gebruik ervan.

Country Status (9)

Country Link
JP (1) JP2001022080A (nl)
KR (1) KR100401116B1 (nl)
CN (1) CN1215375C (nl)
DE (1) DE10027587A1 (nl)
FR (1) FR2794538B1 (nl)
GB (1) GB2352825B (nl)
IT (1) IT1320493B1 (nl)
NL (1) NL1015367C2 (nl)
TW (1) TWI266958B (nl)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100537181B1 (ko) * 1999-12-30 2005-12-16 주식회사 하이닉스반도체 노광후 현상 지연에 의한 패턴 불량을 방지할 수 있는포토레지스트 패턴 형성 방법
KR100390991B1 (ko) * 2001-05-29 2003-07-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체소자의 감광막패턴 형성방법
KR100390998B1 (ko) * 2001-06-26 2003-07-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체소자의 감광막패턴 형성방법
JP3476082B2 (ja) * 2001-11-05 2003-12-10 東京応化工業株式会社 パターン微細化用被覆形成剤およびそれを用いた微細パターンの形成方法
KR100642416B1 (ko) 2004-08-31 2006-11-03 주식회사 하이닉스반도체 상부 반사방지막 조성물 및 이를 이용한 반도체 소자의패턴 형성 방법
US20060127821A1 (en) * 2004-12-09 2006-06-15 Sanyo Electric Co., Ltd. Method of forming a photoresist pattern
US8168367B2 (en) * 2008-07-11 2012-05-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Resist composition and patterning process
US9746768B2 (en) * 2013-01-24 2017-08-29 Nissan Chemical Industries, Ltd. Resist overlayer film forming composition for lithography and method for producing semiconductor device using the same
WO2014119396A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、並びに、これらを用いた電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3652273A (en) * 1967-09-11 1972-03-28 Ibm Process using polyvinyl butral topcoat on photoresist layer
JPS5034966B2 (nl) * 1972-07-24 1975-11-12
GB8700599D0 (en) * 1987-01-12 1987-02-18 Vickers Plc Printing plate precursors
DE3715790A1 (de) * 1987-05-12 1988-11-24 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
WO1992005474A1 (en) * 1990-09-18 1992-04-02 International Business Machines Corporation Top coat for acid catalyzed resists
JPH04204848A (ja) * 1990-11-30 1992-07-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 微細パターン形成方法
DE4117127A1 (de) * 1991-05-25 1992-11-26 Basf Ag Lichtempfindliche aufzeichnungselemente, verfahren zu ihrer herstellung und weiterverarbeitung sowie geraete fuer die durchfuehrung dieser verfahren
SG52770A1 (en) * 1992-07-10 1998-09-28 Hoechst Celanese Corp Metal ion reduction in top anti-reflective coatings for photoresists
JP3362797B2 (ja) * 1993-04-30 2003-01-07 東洋紡績株式会社 印刷原版用感光性樹脂積層体
US5631314A (en) * 1994-04-27 1997-05-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Liquid coating composition for use in forming photoresist coating films and photoresist material using said composition
US5506090A (en) * 1994-09-23 1996-04-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Process for making shoot and run printing plates
JP3510003B2 (ja) * 1995-05-01 2004-03-22 クラリアント インターナショナル リミテッド 反射防止コーティング用組成物
JPH0971765A (ja) * 1995-06-29 1997-03-18 Nippon Zeon Co Ltd 粘着防止用組成物
JP3694703B2 (ja) * 1996-04-25 2005-09-14 Ａｚエレクトロニックマテリアルズ株式会社 反射防止コーティング用組成物
JPH10261574A (ja) * 1997-03-19 1998-09-29 Fujitsu Ltd 半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR2794538B1 (fr) 2004-08-20
CN1215375C (zh) 2005-08-17
TWI266958B (en) 2006-11-21
JP2001022080A (ja) 2001-01-26
KR100401116B1 (ko) 2003-10-10
ITTO20000510A1 (it) 2001-12-01
CN1276541A (zh) 2000-12-13
GB2352825B (en) 2003-12-17
ITTO20000510A0 (it) 2000-06-01
IT1320493B1 (it) 2003-12-10
GB0012727D0 (en) 2000-07-19
FR2794538A1 (fr) 2000-12-08
KR20010001380A (ko) 2001-01-05
GB2352825A (en) 2001-02-07
DE10027587A1 (de) 2000-12-21
NL1015367C2 (nl) 2001-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1003065C2 (nl) Werkwijze voor het, door een inversietechniek, voorspellen van het produktieverloop van een ondergrondse afzetting.
DE60040018D1 (de) Lösemittelfreie filmbildende zusammensetzungen, beschichtete oberfläche und entsprechendes verfahren
DE60112656D1 (de) Beschichtungszusammensetzung, Beschichtungsverfahren und beschichteter Gegenstand
NL1009643A1 (nl) Werkwijze voor het wapenen van constructie-elementen.
NL1001008A1 (nl) Bekleed substraat en werkwijze voor de vorming ervan.
NL1001489C2 (nl) Basische zink- en zinklegeringsbaden voor het elektrolytisch bekleden alsmede dergelijke werkwijzen.
GB0415654D0 (en) Method and composition for coating mat and articles produced therewith
ATA10852001A (de) Bauelement und verfahren zu seiner herstellung
NL1013480A1 (nl) Apparaat en werkwijze voor het opwekken van een pulssequentie.
EP1452923A4 (en) AGENT FOR FORMING A COATING, FOR REDUCING THE DIMENSIONS OF A PATTERN, AND METHOD FOR FORMING A FINE PATTERN USING THAT AGENT
NL1001134A1 (nl) Werkwijze voor het verharden van CaCO3.
DE60040365D1 (de) Harte Beschichtung und beschichtetes Bauteil
DE60238998D1 (de) Lederartiges flächengebilde und verfahren zu dessen herstellung
NL1015367A1 (nl) Deklaagsamenstelling voor een fotobeschermlaag en werkwijze voor het vormen van een fijn patroon door het gebruik ervan.
DE50010354D1 (de) Verbundteil und verfahren zu dessen herstellung
NL1000396C2 (nl) Werkwijze voor het terugwinnen of recirculeren van stabiele nitroxideradicalen.
DE60026353D1 (de) Beschichtungszusammensetzung und verfahren zu deren herstellung
DE59805833D1 (de) Beschichtungsmittel und verfahren zu dessen herstellung
DE69925753D1 (de) Gleitkörper und verfahren zu seiner herstellung
DE60044666D1 (de) Piezoelektrisches/elektrostriktives bauelement und verfahren zu dessen herstellung
NL1000162C2 (nl) Werkwijze voor het vervaardigen van een catheter met plaatselijk variërende eigenschappen.
DE60022098D1 (de) Beschichtungszusammensetzungen die silylierte aroylresorcinole enthalten, verfahren und damit beschichtete gegenstände
NL1008698A1 (nl) Werkwijze voor het automatisch besturen van de bandbreedte van een golfvorm-equalizer.
ATA91762000A (de) Drahtförmiges produkt, dessen verwendung und verfahren zu seiner herstellung
NL1009196A1 (nl) Jacquardschaduwvelours en werkwijze voor het vervaardigen van een dergelijk jacquardschaduwvelours.

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
RD2N Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report)

Effective date: 20010314

PD2B A search report has been drawn up
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20131201