KR970705778A - 구조물을 형성하기위한 사진 인쇄 방법(photolithographic method of producing structural features) - Google Patents

구조물을 형성하기위한 사진 인쇄 방법(photolithographic method of producing structural features) Download PDF

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Abstract

본 발명은, 카이본산무수물기 및 3차-부틸에스테르기 또는 3차-부톡시카르보닐옥시기를 포함하는 중합체,-방향족 또는 지방족-방향족 수산화물 및 나프토퀴논다이아지드-4-술폰산의 에스테르 형태로 된 -광활성 성분 및 적합한 용매로 이루어진 포토 레지스트층을 하나의 기판 위에 제공하는, 서브 미크론 범위의 구조물을 형성하기 위한 사진 인쇄 방법에 관한 것이다. 그 다음에 포토 레지스트층을 건조 및 패턴에 따라 노출시키고, 120 내지 150℃ 사이의 온도 범위에서 100 내지 600초 동안 열처리하며, 그 다음에 액상 실릴화하고 이방성 산소 폴라즈마로 건식 현상한다.

Description

구조물을 형성하기위한 사진 인쇄 방법(PHOTOLITHOGRAPHIC METHOD OF PRODUCING STRUCTURAL FEATURES)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 서브 미크론 구조물을 형성하기 위한 사진 인쇄 방법에 있어서, 상기 방법이, -카이본산무수물기 및 3차-부틸에스테르기 또는 3차 부톡시카르보닐옥시기를 포함하는 중합체, 방향족 또는 지방족-방향족 수산화물 및 하기 화학식의 나프토퀴논다이아지드-4-술폰산의 에스테르 형태로 된 광활성 성분, 및 적합한 용매로 이루어진 포토 레지스트층을 기판 위에 제공하는 단계;
    상기 식에서, 잔기(R)는-서로 독립적으로-수소, 알킬, 할로겐알킬, 알콕시, 페닐, 할로겐페닐, 페녹시 또는 할로겐이다. -포토 레지스트층을 건조시키는 단계, -포토 레지스트층을 패턴에 따라 노출시키는 단계, -노출된 포토 레지스트층을 120 및 150℃ 사이의 온도 범위에서 100 내지 600초 동안 열처리하는 단계, -이렇게 처리된 포토 레지스트층을 액상 실릴화 하는 단계, -실릴화된 포토 레지스트층을 이방성 산소 폴라즈마로 건식 현상하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 수산화물은 2,3,4-트리히드록시벤조페논 또는 비스페놀-A인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항 또는 2항에 있어서, 포토 레지스트에서 광활성 성분이 차지하는 량은 20 내지 40질량%, 바람직하게는 25 내지 35질량%인 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항 내지 3항 중 어느 한 항에 있어서, 광활성 성분에 오늄 화합물을 첨가하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항 내지 4항 중 어느 한 항 또는 다수의 항에 있어서, 액상 실릴화는 극성, 양성자성 실릴화 용액으로 이루어진 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제5항에 있어서, 물과 알코올, 특히 에탄올 및/또는 이소프로파놀의 혼합물중에 녹아 있는 아미노실록산 용액을 실릴화 용액으로 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항 내지 6항중 어느 한 항 또는 다수의 항에 있어서, 말레인산무수물을 기초로 하는 카아본산무수물기를 가진 중합체를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 재1항 내지 7항 중 어느 한 항 또는 다수의 항에 있어서, 아크릴산-3차-부틸에스테르, 메타크릴산-3차-부틸에스테르, 비닐벤조산-3차-부틸에스테르 또는 계피산-3차-부틸에스테르를 기초로 하는 3차-부틸에스테기를 가진 중합체를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  9. 제7항 또는 8항에 있어서, 말레인산무수물, 계피산-3차-부틸에스테르 및 스텔벤으로 이루어진 터폴리머를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제1항 내지 7항 중 어느 한 항 또는 다수의 항에 있어서, 3차-부톡시카르보닐옥시스티를 또는 3차-말레인이미드를 기초로 하는 3차-부틱시카르보닐옥시기를 가진 폴리머를 사용하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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