KR970072132A - 반도체 웨이퍼 세정 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 소자의 제조 공정에 사용되는 세정 장치에 관한 것으로, 특히 세정액의 유출 동작이 효율적으로 이루어지도록 한 반도체 소자의 웨이퍼 세정 장치에 관한 것이다.
본 발명의 반도체 웨이퍼 세정 장치는 세정 탱크의 하부에 구성된 유출구에 세정액의 흐름 및 속도를 변환시키는 세정액 유출 장치를 구성하여 웨이퍼 세정동작시에 유출되는 세정액의 흐름을 직선 형태에서 나선 형태로 변환시키므로써 웨이퍼를 지지해주는 부분 또는 세정 탱크의 하부 바닥면 및 유출구의 오염원을 효율적으로 제거하므로 웨이퍼 세정효과를 높일 수 있다.

Description

반도체 웨이퍼 세정 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 반도체 웨이퍼 세정 장치의 계통도, 제3도는 본 발명의 세정액 유출 장치의 구성도.

Claims (23)

  1. 세정액의 유입구 및 유출구를 갖고, 세정을 위한 웨이퍼를 수용하는 세정 탱크와, 상기 유출구에 장착되고 유출되는 세정액의 흐름 및 속도를 변환시키는 세정액 유출 장치로 구성됨을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  2. 제1항에 있어서, 세정액 유출 장치는 세정액의 흐름 및 속도를 변화시키는 바람개비 형태의 팬부와, 상기 팬부의 중앙 하측에 구성되는 회전축으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  3. 제2항에 있어서, 회전축은 유출구에 연결되는 순환 파이프의 일부분에 회전 가능하도록 고정되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  4. 제2항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  5. 제2항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 양방향으로 교대로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  6. 제2항에 있어서, 팬부는 세정 동작시의 세정액의 유출 속도에 의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  7. 제1항에 있어서, 세정 장치는 세정액이 상기 웨이퍼의 상측으로부터 하측으로 흐르는 다운 플로잉(Down Flowing)시스템인 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  8. 제1항에 있어서, 세정액 유출 장치는 세정액의 흐름 및 속도를 변화시키는 바람개비 형태의 팬부와, 상기 팬부와 연동되도록 연결되고 중간 부분에 특정 각도의 경사를 갖는 복수개의 세정액 인입구들이 형성된 원통형상의 회전부와, 상기 회전부의 내부를 통하여 상기 팬부에 연결된 회전축으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  9. 제8항에 있어서, 회전축은 유출구에 연결되는 순화 파이프의 일부분에 회전 가능하도록 고정되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  10. 제8항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  11. 제8항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 양방향으로 교대로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  12. 제8항에 있어서, 팬부는 세정 동작시의 세정액의 유출 속도에의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  13. 세정액의 유출구 및 웨이퍼 장착용 카세트를 갖는 웨이퍼 세정용 내부 세정 탱크와, 상기 유출구에 장착되고, 세정액의 흐름 및 속도를 변환시키는 세정액 유출장치와, 상기 내부세정 탱크의 외측에 내부세정 탱크와분리공간을 갖고 구성되고, 웨이퍼의 세정에 사용되어질 세정액을 유입시키는 유입구를 갖는 외부 세정탱크와, 상기 유출구와 유입구를 서로 연결하는 순환 파이프와, 상기 순환 파이프의 중간부분에 구성되어 세정액을반복순환 시켜주는 순환펌프와, 상기 순환펌프의 구동에 의해 반복순환되는 세정액을 여과시켜 유입구를 통해내부 세정 탱크로 보내는 필터와, 상기 내부세정 탱크의 하측에 구성되고 웨이퍼가 채워진 카세트를 내부세정탱크의 바닥면과 분리하여 고정시켜주는 배플 플레이트를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  14. 제13항에 있어서, 세정액 유출 장치는 세정액의 흐름 및 속도를 변환시키는 바람개비 형태의 팬부와, 상기 팬부의 중앙 하측에 구성되는 회전축으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  15. 제14항에 있어서, 회전축은 순환 파이프의 일부분에 회전 가능하도록 고정되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  16. 제14항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  17. 제14항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 양방향으로 교대로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  18. 제14항에 있어서, 팬부는 세정 동작시의 세정액의 유출 속도에 의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  19. 제13항에 있어서, 세정액 유출 장치는 세정액의 흐름 및 속도를 변환시키는 바람개비 형태의 팬부와, 상기 팬부에 연동되도록 연결되고 중간 부분에 특정 각도의 경사를 갖는 복수개의 세정액 인입구가 일정 간격으로 형성된 원통 형태의 회전부와, 상기 회전부의 내부를 통하여 상기 팬부에 연결된 회전축으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  20. 제19항에 있어서, 회전축은 순환 파이프의 일부분에 회전 가능하도록 고정되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  21. 제19항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  22. 제19항에 있어서, 팬부는 외부의 동력에 의해 양방향으로 교대로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
  23. 제19항에 있어서, 팬부는 세정 동작시의 세정액의 유출 속도에 의해 일방향으로 회전하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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