JP2533460Y2 - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JP2533460Y2 JP2533460Y2 JP10996391U JP10996391U JP2533460Y2 JP 2533460 Y2 JP2533460 Y2 JP 2533460Y2 JP 10996391 U JP10996391 U JP 10996391U JP 10996391 U JP10996391 U JP 10996391U JP 2533460 Y2 JP2533460 Y2 JP 2533460Y2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案は、基板の洗浄装置に関
するものである。
するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の装置としては従来より、例えば
特開昭６１−２８１５３２号公報に開示されたものが知
られている。それは図１０に示すように、洗浄液２中に
基板Ｗを浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽１０１と、
各薬液供給管１０６及び各薬液導入弁１０９を介して洗
浄槽１０１にそれぞれ連通され、アンモニア水ＱAを貯
溜した容器１０５A及び過酸化水素水ＱBを貯溜した容器
１０５Bと、洗浄槽１０１から採取した洗浄液２中の薬
液濃度を測定して薬液導入弁１０９を制御する薬液供給
量制御手段１１０とを具備して成る。
特開昭６１−２８１５３２号公報に開示されたものが知
られている。それは図１０に示すように、洗浄液２中に
基板Ｗを浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽１０１と、
各薬液供給管１０６及び各薬液導入弁１０９を介して洗
浄槽１０１にそれぞれ連通され、アンモニア水ＱAを貯
溜した容器１０５A及び過酸化水素水ＱBを貯溜した容器
１０５Bと、洗浄槽１０１から採取した洗浄液２中の薬
液濃度を測定して薬液導入弁１０９を制御する薬液供給
量制御手段１１０とを具備して成る。
【０００３】上記薬液供給量制御手段１１０は、マイク
ロコンピュータ１１１及びインターフェイス１１２と、
それぞれ洗浄液採取管１０３の前段透過光測定部１０３
ａに付設された紫外光検出手段１１３Ａ及び後段の透過
光測定部１０３ｂに付設された紫外光検出手段１１３Ｂ
と、弁駆動回路１１４とを具備して成り、上記２つの紫
外光検出手段で洗浄液２の吸光度を測定して、洗浄液２
中の過酸化水素水の濃度とアンモニア水の濃度を検出し
得るように構成されている。なお、符号１０５Cは塩酸
ＱCを貯溜した容器、１０５Dは純水を貯溜した容器であ
り、洗浄液２中の水素イオン濃度がＰＨ４以下に成るよ
うに、塩酸ＱCを後段の透過光測定部１０３ｂに供給する
ように構成されている。
ロコンピュータ１１１及びインターフェイス１１２と、
それぞれ洗浄液採取管１０３の前段透過光測定部１０３
ａに付設された紫外光検出手段１１３Ａ及び後段の透過
光測定部１０３ｂに付設された紫外光検出手段１１３Ｂ
と、弁駆動回路１１４とを具備して成り、上記２つの紫
外光検出手段で洗浄液２の吸光度を測定して、洗浄液２
中の過酸化水素水の濃度とアンモニア水の濃度を検出し
得るように構成されている。なお、符号１０５Cは塩酸
ＱCを貯溜した容器、１０５Dは純水を貯溜した容器であ
り、洗浄液２中の水素イオン濃度がＰＨ４以下に成るよ
うに、塩酸ＱCを後段の透過光測定部１０３ｂに供給する
ように構成されている。
【０００４】この従来技術は、水溶液中にアンモニアと
過酸化水素とが共存する場合に、以下の手法により洗浄
液中の過酸化水素水の濃度とアンモニア水の濃度を検出
し得るようにしたものである。３００nm付近の吸光度を
測定して過酸化水素による酸素濃度のみを独立に測定し
ようとする場合、上記水溶液の酸素濃度は水素イオン濃
度の影響を受ける。一方、この水溶液に過剰の酸を添加
して、常に水溶液の水素イオン濃度をＰＨ４以下にして
おくと、アンモニア濃度に関係なく一定の紫外光領域の
吸光度を示す。つまり、過酸化水素水の濃度は、水溶液
の水素イオン濃度をＰＨ４以下にしておき、紫外光領域
の吸光度を測定することにより求め、アンモニア水の濃
度は、酸を添加しないときと、酸を添加したときの紫外
光領域の吸光度を測定することにより求める。
過酸化水素とが共存する場合に、以下の手法により洗浄
液中の過酸化水素水の濃度とアンモニア水の濃度を検出
し得るようにしたものである。３００nm付近の吸光度を
測定して過酸化水素による酸素濃度のみを独立に測定し
ようとする場合、上記水溶液の酸素濃度は水素イオン濃
度の影響を受ける。一方、この水溶液に過剰の酸を添加
して、常に水溶液の水素イオン濃度をＰＨ４以下にして
おくと、アンモニア濃度に関係なく一定の紫外光領域の
吸光度を示す。つまり、過酸化水素水の濃度は、水溶液
の水素イオン濃度をＰＨ４以下にしておき、紫外光領域
の吸光度を測定することにより求め、アンモニア水の濃
度は、酸を添加しないときと、酸を添加したときの紫外
光領域の吸光度を測定することにより求める。
【０００５】
【考案が解決しようとする課題】上記従来技術では、過
酸化水素水の濃度は、水溶液の水素イオン濃度をＰＨ４
以下にしておき、紫外光領域の吸光度を測定することに
より求め、アンモニア水の濃度は、酸を添加しないとき
と、酸を添加したときの紫外光領域の吸光度を測定する
ことにより求める手法であるため、以下のような不都合
がある。洗浄液採取管１０３の前段透過光測定部１０３
ａと後段の透過光測定部１０３ｂとに、それぞれ紫外光
検出手段１１３Ａ・１１３Ｂを必要とし、しかも、洗浄
液２中の水素イオン濃度がＰＨ４以下になるように、塩
酸ＱCを後段の透過光測定部１０３ｂに供給する必要が
ある。このため、洗浄液採取管１０３や採取用ポンプ１
０８Ａ・１０８Ｂ等の配管が複雑化するうえ、上記薬液
供給量制御手段１１０の演算も複雑化する。本考案はこ
のような事情を考慮してなされたもので、上記洗浄液採
取管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、かつ薬液供給
量制御手段の演算を簡素化することを技術課題とする。
酸化水素水の濃度は、水溶液の水素イオン濃度をＰＨ４
以下にしておき、紫外光領域の吸光度を測定することに
より求め、アンモニア水の濃度は、酸を添加しないとき
と、酸を添加したときの紫外光領域の吸光度を測定する
ことにより求める手法であるため、以下のような不都合
がある。洗浄液採取管１０３の前段透過光測定部１０３
ａと後段の透過光測定部１０３ｂとに、それぞれ紫外光
検出手段１１３Ａ・１１３Ｂを必要とし、しかも、洗浄
液２中の水素イオン濃度がＰＨ４以下になるように、塩
酸ＱCを後段の透過光測定部１０３ｂに供給する必要が
ある。このため、洗浄液採取管１０３や採取用ポンプ１
０８Ａ・１０８Ｂ等の配管が複雑化するうえ、上記薬液
供給量制御手段１１０の演算も複雑化する。本考案はこ
のような事情を考慮してなされたもので、上記洗浄液採
取管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、かつ薬液供給
量制御手段の演算を簡素化することを技術課題とする。
【０００６】
【考案の原理】本考案者等は、水溶液中にアンモニアと
過酸化水素とが共存する場合、又は水溶液中に塩酸と過
酸化水素とが共存する場合に、実験により赤外光で洗浄
液中のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を検出し得る
ことを知見して、上記課題を解決するに至った。以下図
２〜図８を参照しつつ、その基本原理について説明する。
過酸化水素とが共存する場合、又は水溶液中に塩酸と過
酸化水素とが共存する場合に、実験により赤外光で洗浄
液中のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を検出し得る
ことを知見して、上記課題を解決するに至った。以下図
２〜図８を参照しつつ、その基本原理について説明する。
【０００７】図２は、アンモニアと過酸化水素とが共存
する洗浄液の分光透過率を示すグラフであり、この洗浄
液の構成比率は、アンモニア水：過酸化水素水：純水＝
１：１：１である。この図からアンモニア過水中のアン
モニア水による赤外光の吸収は、２２００nmで顕著に見
られることが分かる。図３は、塩酸と過酸化水素とが共
存する洗浄液の分光透過率を示すグラフであり、この洗
浄液の構成比率は、塩酸：過酸化水素水：純水＝１：
１：１である。この図から塩酸過水中の塩酸による赤外
光の吸収は、１８２０nm付近と２１００〜２３００nmで
顕著に見られることが分かる。
する洗浄液の分光透過率を示すグラフであり、この洗浄
液の構成比率は、アンモニア水：過酸化水素水：純水＝
１：１：１である。この図からアンモニア過水中のアン
モニア水による赤外光の吸収は、２２００nmで顕著に見
られることが分かる。図３は、塩酸と過酸化水素とが共
存する洗浄液の分光透過率を示すグラフであり、この洗
浄液の構成比率は、塩酸：過酸化水素水：純水＝１：
１：１である。この図から塩酸過水中の塩酸による赤外
光の吸収は、１８２０nm付近と２１００〜２３００nmで
顕著に見られることが分かる。
【０００８】図４及び図５はアンモニアと過酸化水素と
が共存する洗浄液のアンモニア水の濃度と吸光度との関
係を示すグラフであり、これらの図からアンモニア過水
中のアンモニア濃度と赤外光の吸光度はリニアな関係が
あり、赤外光により濃度検出が可能であることを示して
いる。なお、図４の洗浄液の構成比率は、アンモニア
水：過酸化水素水：純水（変数）＝１：１：χであり、
赤外光の波長は２２００nmである。また図５の洗浄液の
構成比率は、アンモニア水(変数)：過酸化水素水：純水
＝χ：１：５０であり、赤外光の波長は２２１０nmであ
る。
が共存する洗浄液のアンモニア水の濃度と吸光度との関
係を示すグラフであり、これらの図からアンモニア過水
中のアンモニア濃度と赤外光の吸光度はリニアな関係が
あり、赤外光により濃度検出が可能であることを示して
いる。なお、図４の洗浄液の構成比率は、アンモニア
水：過酸化水素水：純水（変数）＝１：１：χであり、
赤外光の波長は２２００nmである。また図５の洗浄液の
構成比率は、アンモニア水(変数)：過酸化水素水：純水
＝χ：１：５０であり、赤外光の波長は２２１０nmであ
る。
【０００９】図６及び図７は塩酸と過酸化水素とが共存
する洗浄液の塩酸の濃度と吸光度との関係を示すグラフ
であり、これらの図から塩酸過水中の塩酸濃度と赤外光
の吸光度はリニアな関係があり、赤外光により濃度検出
が可能であることを示している。なお、図６の洗浄液の
構成比率は、塩酸：過酸化水素水：純水(変数)＝１：
１：χであり、赤外光の波長は１８２０nm及び２１８０
nmである。また図７の洗浄液の構成比率は、塩酸(変
数)：過酸化水素水：純水＝χ：１：５０であり、赤外
光の波長は１８１０nm及び２２１０nmである。
する洗浄液の塩酸の濃度と吸光度との関係を示すグラフ
であり、これらの図から塩酸過水中の塩酸濃度と赤外光
の吸光度はリニアな関係があり、赤外光により濃度検出
が可能であることを示している。なお、図６の洗浄液の
構成比率は、塩酸：過酸化水素水：純水(変数)＝１：
１：χであり、赤外光の波長は１８２０nm及び２１８０
nmである。また図７の洗浄液の構成比率は、塩酸(変
数)：過酸化水素水：純水＝χ：１：５０であり、赤外
光の波長は１８１０nm及び２２１０nmである。
【００１０】図８はアンモニア水と過酸化水素とが共存
する洗浄液の過酸化水素水の濃度と吸光度との関係を示
すグラフであり、これらの図からアンモニア過水中の過
酸化水素の濃度と紫外光の吸光度はリニアな関係があ
り、周知のように紫外光により過酸化水素の濃度検出が
可能であることを示している。なお、この洗浄液の構成
比率は、アンモニア水：過酸化水素水(変数)：純水＝
１：χ：５０であり、紫外光の波長は３００nm及び３１
０nmである。
する洗浄液の過酸化水素水の濃度と吸光度との関係を示
すグラフであり、これらの図からアンモニア過水中の過
酸化水素の濃度と紫外光の吸光度はリニアな関係があ
り、周知のように紫外光により過酸化水素の濃度検出が
可能であることを示している。なお、この洗浄液の構成
比率は、アンモニア水：過酸化水素水(変数)：純水＝
１：χ：５０であり、紫外光の波長は３００nm及び３１
０nmである。
【００１１】図９は塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄
液の過酸化水素水の濃度と吸光度との関係を示すグラフ
であり、これらの図から塩酸過水中の過酸化水素の濃度
と紫外光の吸光度はリニアな関係があり、上記と同様、
紫外光により過酸化水素の濃度検出が可能であることを
示している。なお、この洗浄液の構成比率は、塩酸：過
酸化水素水(変数)：純水＝１：χ：５０であり、紫外光
の波長は３００nm及び３１０nmである。
液の過酸化水素水の濃度と吸光度との関係を示すグラフ
であり、これらの図から塩酸過水中の過酸化水素の濃度
と紫外光の吸光度はリニアな関係があり、上記と同様、
紫外光により過酸化水素の濃度検出が可能であることを
示している。なお、この洗浄液の構成比率は、塩酸：過
酸化水素水(変数)：純水＝１：χ：５０であり、紫外光
の波長は３００nm及び３１０nmである。
【００１２】以上のことから、水溶液中にアンモニアと
過酸化水素とが共存する洗浄液の場合、又は水溶液中に
塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の場合に、紫外光
で洗浄液中の過酸化水素水の濃度を検出するとともに、
赤外光で洗浄液中のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度
を検出することができる。
過酸化水素とが共存する洗浄液の場合、又は水溶液中に
塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の場合に、紫外光
で洗浄液中の過酸化水素水の濃度を検出するとともに、
赤外光で洗浄液中のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度
を検出することができる。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本考案は上記知見に基づ
いてなされたもので、前記課題を解決するものとして、
以下のように構成される。即ち、洗浄液中に基板を浸漬
してその表面を洗浄する洗浄槽と、純水の主要通路をな
し、その通路内で純水と複数種の薬液とを調合して複数
種の洗浄液を洗浄槽内へ供給する洗浄液供給管と、各薬
液供給管及び各薬液導入手段を介して洗浄液供給管に連
通された複数種の薬液貯溜容器と、各薬液導入手段を制
御する薬液供給量制御手段とを具備して成り、上記複数
種の薬液貯溜容器は、過酸化水素水を貯溜した容器と、
少なくともアンモニア水を貯溜した容器又は塩酸を貯溜
した容器とから成り、上記洗浄液供給管には純水を流通
させ、この純水に上記過酸化水素水及びアンモニア水を
供給してアンモニア過水洗浄液を調合し、又は上記純水
に上記過酸化水素水及び塩酸を供給して塩酸過水洗浄液
を調合するように構成し、上記薬液供給量制御手段は、
洗浄液供給管に付設された透過光測定手段を備え、前記
透過光測定手段によって紫外光の吸光度を測定して前記
複数種の洗浄液中の過酸化水素水の濃度を検出するとと
もに、赤外光の吸光度を測定して前記複数種の洗浄液中
のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を検出するように
構成したことを特徴とするものである。
いてなされたもので、前記課題を解決するものとして、
以下のように構成される。即ち、洗浄液中に基板を浸漬
してその表面を洗浄する洗浄槽と、純水の主要通路をな
し、その通路内で純水と複数種の薬液とを調合して複数
種の洗浄液を洗浄槽内へ供給する洗浄液供給管と、各薬
液供給管及び各薬液導入手段を介して洗浄液供給管に連
通された複数種の薬液貯溜容器と、各薬液導入手段を制
御する薬液供給量制御手段とを具備して成り、上記複数
種の薬液貯溜容器は、過酸化水素水を貯溜した容器と、
少なくともアンモニア水を貯溜した容器又は塩酸を貯溜
した容器とから成り、上記洗浄液供給管には純水を流通
させ、この純水に上記過酸化水素水及びアンモニア水を
供給してアンモニア過水洗浄液を調合し、又は上記純水
に上記過酸化水素水及び塩酸を供給して塩酸過水洗浄液
を調合するように構成し、上記薬液供給量制御手段は、
洗浄液供給管に付設された透過光測定手段を備え、前記
透過光測定手段によって紫外光の吸光度を測定して前記
複数種の洗浄液中の過酸化水素水の濃度を検出するとと
もに、赤外光の吸光度を測定して前記複数種の洗浄液中
のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を検出するように
構成したことを特徴とするものである。
【００１４】
【作 用】本考案では、洗浄液供給管内で純水と過酸化
水素水及びアンモニア水を調合してアンモニア過水洗浄
液を作り、又は上記純水と上記過酸化水素水及び塩酸を
調合して塩酸過水洗浄液を作る。この洗浄液を洗浄槽内
へ供給する途中で、上記透過光測定手段により紫外光の
吸光度を測定して上記洗浄液中の過酸化水素水の濃度を
独立に検出し、一方赤外光の吸光度を測定して洗浄液中
のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を独立に検出す
る。この検出結果に基づき、薬液供給量制御手段で各薬
液導入手段を個別に制御する。これにより、従来例のよ
うな洗浄液採取管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、
かつ従来例のような複雑な演算を簡素化することができ
る。
水素水及びアンモニア水を調合してアンモニア過水洗浄
液を作り、又は上記純水と上記過酸化水素水及び塩酸を
調合して塩酸過水洗浄液を作る。この洗浄液を洗浄槽内
へ供給する途中で、上記透過光測定手段により紫外光の
吸光度を測定して上記洗浄液中の過酸化水素水の濃度を
独立に検出し、一方赤外光の吸光度を測定して洗浄液中
のアンモニア水の濃度又は塩酸の濃度を独立に検出す
る。この検出結果に基づき、薬液供給量制御手段で各薬
液導入手段を個別に制御する。これにより、従来例のよ
うな洗浄液採取管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、
かつ従来例のような複雑な演算を簡素化することができ
る。
【００１５】
【実施例】以下本考案の実施例を図面に基づいてさらに
詳しく説明する。図１は本考案の実施例に係る基板洗浄
装置の概要図である。この実施例は、洗浄液２中に基板
Ｗを浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽１と、純水ＤW
の主要通路をなし、その通路内で純水ＤWと複数種の薬
液ＱA〜ＱCとを調合して複数種の洗浄液２を洗浄槽１内
へ供給する洗浄液供給管３と、各薬液供給管６A〜６C及
び各薬液導入手段７A〜７Cを介して洗浄液供給管３に連
通された複数種の薬液貯溜容器５A〜５Cと、各薬液導入
手段７A〜７Cを制御する薬液供給量制御手段１０とを具
備して成る。
詳しく説明する。図１は本考案の実施例に係る基板洗浄
装置の概要図である。この実施例は、洗浄液２中に基板
Ｗを浸漬してその表面を洗浄する洗浄槽１と、純水ＤW
の主要通路をなし、その通路内で純水ＤWと複数種の薬
液ＱA〜ＱCとを調合して複数種の洗浄液２を洗浄槽１内
へ供給する洗浄液供給管３と、各薬液供給管６A〜６C及
び各薬液導入手段７A〜７Cを介して洗浄液供給管３に連
通された複数種の薬液貯溜容器５A〜５Cと、各薬液導入
手段７A〜７Cを制御する薬液供給量制御手段１０とを具
備して成る。
【００１６】上記洗浄槽１は石英ガラスで形成され、そ
の下部に純水供給管３を接続して成る。そして槽内は整
流多孔板１ａで上下に仕切り、洗浄槽１の上部側壁を外
側へ向けて広がり形状をなすように形成して渦流の発生
を防止し、かつ整流多孔板１ａで処理液２を均一に上昇
させてオーバーフローさせ、その上昇流でキャリア１７
に収容した基板Ｗの表面を洗浄し、槽内の洗浄液２を迅
速に交換し得るように構成されている。なお、上記洗浄
槽１は排液槽２０内に設けられ、オーバーフローした洗
浄液２は排液管２１を介して排液ドレン２２へ流下する
ように構成されている。
の下部に純水供給管３を接続して成る。そして槽内は整
流多孔板１ａで上下に仕切り、洗浄槽１の上部側壁を外
側へ向けて広がり形状をなすように形成して渦流の発生
を防止し、かつ整流多孔板１ａで処理液２を均一に上昇
させてオーバーフローさせ、その上昇流でキャリア１７
に収容した基板Ｗの表面を洗浄し、槽内の洗浄液２を迅
速に交換し得るように構成されている。なお、上記洗浄
槽１は排液槽２０内に設けられ、オーバーフローした洗
浄液２は排液管２１を介して排液ドレン２２へ流下する
ように構成されている。
【００１７】洗浄液給液管３には、上流側に向けて順次
ラインミキサー４と複数の薬液導入弁９が付設され、純
水ＤＷを供給する純水の主要通路として構成され、かつ
純水ＤWと各薬液ＱA〜ＱCとを調合して洗浄槽１に供給
するように構成されている。上記ラインミキサー４は、
純水ＤＷと薬液ＱＡ〜ＱCとを均一に混合するためのも
ので、このラインミキサー４に代えて他の混合器を用い
ても良く、管路が十分に長ければかかる混合器を省くこ
とも出来る。
ラインミキサー４と複数の薬液導入弁９が付設され、純
水ＤＷを供給する純水の主要通路として構成され、かつ
純水ＤWと各薬液ＱA〜ＱCとを調合して洗浄槽１に供給
するように構成されている。上記ラインミキサー４は、
純水ＤＷと薬液ＱＡ〜ＱCとを均一に混合するためのも
ので、このラインミキサー４に代えて他の混合器を用い
ても良く、管路が十分に長ければかかる混合器を省くこ
とも出来る。
【００１８】各薬液導入手段７A〜７Cは、薬液ＱＡ〜Ｑ
Cを洗浄液給液管３へ圧送する圧送ポンプ８と、各薬液
給液管６Ａ〜６Cを開閉する薬液導入弁９とから成り、
薬液供給量制御手段１０により、圧送ポンプ８及び薬液
導入弁９を選択的に開閉制御して、所定の薬液ＱＡ〜Ｑ
Cを洗浄液給液管３へ圧送するように構成されている。な
お、各薬液導入手段７A〜７Cは、圧送ポンプ８と薬液導
入弁９の少なくとも一方のみで構成することもできる。
ここで、薬液貯溜容器６Ａ〜６C内の薬液は、ＱＡ＝Ｎ
Ｈ4ＯＨ、ＱB＝Ｈ2Ｏ2、ＱC＝Ｈｃｌである。
Cを洗浄液給液管３へ圧送する圧送ポンプ８と、各薬液
給液管６Ａ〜６Cを開閉する薬液導入弁９とから成り、
薬液供給量制御手段１０により、圧送ポンプ８及び薬液
導入弁９を選択的に開閉制御して、所定の薬液ＱＡ〜Ｑ
Cを洗浄液給液管３へ圧送するように構成されている。な
お、各薬液導入手段７A〜７Cは、圧送ポンプ８と薬液導
入弁９の少なくとも一方のみで構成することもできる。
ここで、薬液貯溜容器６Ａ〜６C内の薬液は、ＱＡ＝Ｎ
Ｈ4ＯＨ、ＱB＝Ｈ2Ｏ2、ＱC＝Ｈｃｌである。
【００１９】薬液供給量制御手段１０は、例えば図１に
示すように、複数種の洗浄処理毎の薬液供給量を設定入
力する設定入力部１１と、洗浄液供給管３の透過光測定
部３ａに付設された紫外光検出部１３及び赤外光検出部
１４とから構成される透過光測定手段１００と、紫外光
検出部１３及び赤外光検出部１４からの吸光度信号を受
けて薬液濃度を演算し、各圧送ポンプ８及び各薬液導入
弁９に向けて制御信号ＩＡ〜ＩCを出力する制御部１２
とから成る。
示すように、複数種の洗浄処理毎の薬液供給量を設定入
力する設定入力部１１と、洗浄液供給管３の透過光測定
部３ａに付設された紫外光検出部１３及び赤外光検出部
１４とから構成される透過光測定手段１００と、紫外光
検出部１３及び赤外光検出部１４からの吸光度信号を受
けて薬液濃度を演算し、各圧送ポンプ８及び各薬液導入
弁９に向けて制御信号ＩＡ〜ＩCを出力する制御部１２
とから成る。
【００２０】ちなみに、本実施例では次のような洗浄プ
ログラムを実行することができる。
ログラムを実行することができる。
【００２１】上記紫外光検出部１３は、紫外光を多く発
光する光源１３ａと、紫外光のうち３００nm近傍の光を
感度領域とする受光素子１３ｂとを備え、また赤外光検
出部１４は、赤外光を多く発光する光源１４ａと、赤外
光のうち２２００nm近傍の光を感度領域とする受光素子
１４ｂとを備える。この紫外光検出部１３は、上記洗浄
液供給管３の透過光測定部３ａ内を流れる複数種の洗浄
液２中の過酸化水素水の吸光度を検出し、赤外光検出部
１４は、上記洗浄液供給管３の透過光測定部３ａ内を流
れる複数種の洗浄液２中のアンモニア水及び塩酸の吸光
度を検出する。
光する光源１３ａと、紫外光のうち３００nm近傍の光を
感度領域とする受光素子１３ｂとを備え、また赤外光検
出部１４は、赤外光を多く発光する光源１４ａと、赤外
光のうち２２００nm近傍の光を感度領域とする受光素子
１４ｂとを備える。この紫外光検出部１３は、上記洗浄
液供給管３の透過光測定部３ａ内を流れる複数種の洗浄
液２中の過酸化水素水の吸光度を検出し、赤外光検出部
１４は、上記洗浄液供給管３の透過光測定部３ａ内を流
れる複数種の洗浄液２中のアンモニア水及び塩酸の吸光
度を検出する。
【００２２】上記制御部１２は、紫外光検出部１３及び
赤外光検出部１４で検出した吸光度に対応する各薬液濃
度を演算し、あらかじめ入力された洗浄処理プログラム
及び設定入力された薬液濃度とを対比して過不足無く薬
液を供給するため、各圧送ポンプ８及び各薬液導入弁９
を駆動制御するように構成されている。
赤外光検出部１４で検出した吸光度に対応する各薬液濃
度を演算し、あらかじめ入力された洗浄処理プログラム
及び設定入力された薬液濃度とを対比して過不足無く薬
液を供給するため、各圧送ポンプ８及び各薬液導入弁９
を駆動制御するように構成されている。
【００２３】なお、上記実施例では洗浄槽１の下部に洗
浄液供給管３を接続したものについて例示したが、これ
に限らず洗浄槽１の上部の一側より洗浄液を供給して、
他側よりオーバーフローさせるようにしても良い。また
上記実施例では、透過光測定手段１００が、紫外光用の
光源１３ａ及び受光素子１３ｂから成る紫外光検出部１
３と、赤外光用の光源１４ａ及び受光素子１４ｂから成
る赤外光検出部１４とにより構成されているものとして
説明したが、これには限らない。
浄液供給管３を接続したものについて例示したが、これ
に限らず洗浄槽１の上部の一側より洗浄液を供給して、
他側よりオーバーフローさせるようにしても良い。また
上記実施例では、透過光測定手段１００が、紫外光用の
光源１３ａ及び受光素子１３ｂから成る紫外光検出部１
３と、赤外光用の光源１４ａ及び受光素子１４ｂから成
る赤外光検出部１４とにより構成されているものとして
説明したが、これには限らない。
【００２４】例えば紫外光及び赤外光の両方の発光領域
を有する光源であれば、単一の光源を用いることもでき
る。また、洗浄液中の過酸化水素水の濃度を測定するタ
イミングとアンモニア水又は塩酸の濃度を測定するタイ
ミングとを、あらかじめ測定プログラム等で峻別するこ
とにより、紫外光と赤外光との双方の感度領域を有する
単一の受光素子を用いて紫外光の吸光度と赤外光の吸光
度とを独立に検出することもできる。
を有する光源であれば、単一の光源を用いることもでき
る。また、洗浄液中の過酸化水素水の濃度を測定するタ
イミングとアンモニア水又は塩酸の濃度を測定するタイ
ミングとを、あらかじめ測定プログラム等で峻別するこ
とにより、紫外光と赤外光との双方の感度領域を有する
単一の受光素子を用いて紫外光の吸光度と赤外光の吸光
度とを独立に検出することもできる。
【００２５】
【考案の効果】以上の説明で明らかなように、本考案で
は洗浄液供給管内で調合した洗浄液を洗浄槽内へ供給す
る途中で、透過光測定手段により紫外光の吸光度を測定
して上記洗浄液中の過酸化水素水の濃度を独立に検出
し、一方赤外光の吸光度を測定して洗浄液中のアンモニ
ア水の濃度又は塩酸の濃度を独立に検出し、この検出結
果に基づき、薬液供給量制御手段で各薬液導入手段を個
別に制御するように構成したので、従来例のような洗浄
液採取管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、かつ従来
例のような複雑な演算を簡素化することができる。
は洗浄液供給管内で調合した洗浄液を洗浄槽内へ供給す
る途中で、透過光測定手段により紫外光の吸光度を測定
して上記洗浄液中の過酸化水素水の濃度を独立に検出
し、一方赤外光の吸光度を測定して洗浄液中のアンモニ
ア水の濃度又は塩酸の濃度を独立に検出し、この検出結
果に基づき、薬液供給量制御手段で各薬液導入手段を個
別に制御するように構成したので、従来例のような洗浄
液採取管や採取用ポンプ等の配管を不要にし、かつ従来
例のような複雑な演算を簡素化することができる。
【図１】本考案の実施例に係る基板洗浄装置の概要図で
ある。
ある。
【図２】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
分光透過率を示すグラフである。
分光透過率を示すグラフである。
【図３】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の分光透
過率を示すグラフである。
過率を示すグラフである。
【図４】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
アンモニア濃度と吸光度の関係を示すグラフ図である。
アンモニア濃度と吸光度の関係を示すグラフ図である。
【図５】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
アンモニア濃度と吸光度の関係を示すグラフである。
アンモニア濃度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図６】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の塩酸濃
度と吸光度の関係を示すグラフである。
度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図７】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の塩酸濃
度と吸光度の関係を示すグラフである。
度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図８】アンモニアと過酸化水素とが共存する洗浄液の
過酸化水素水の濃度と吸光度の関係を示すグラフであ
る。
過酸化水素水の濃度と吸光度の関係を示すグラフであ
る。
【図９】塩酸と過酸化水素とが共存する洗浄液の過酸化
水素水の濃度と吸光度の関係を示すグラフである。
水素水の濃度と吸光度の関係を示すグラフである。
【図１０】従来例の基板洗浄装置の概要図である。
１…洗浄槽、 ２…洗浄液、３…洗
浄液給液管、 ３ａ…透過光測定部、５Ａ〜５
C…薬液貯溜容器、 ６Ａ〜６C…薬液供給管、７
Ａ〜７C…薬液導入手段、 １０…薬液供給量制御
手段、１００…透過光測定手段、 ＤW…純水、
ＱA…アンモニア水、 ＱB…過酸化水素
水、ＱC…塩酸、 Ｗ…基板。
浄液給液管、 ３ａ…透過光測定部、５Ａ〜５
C…薬液貯溜容器、 ６Ａ〜６C…薬液供給管、７
Ａ〜７C…薬液導入手段、 １０…薬液供給量制御
手段、１００…透過光測定手段、 ＤW…純水、
ＱA…アンモニア水、 ＱB…過酸化水素
水、ＱC…塩酸、 Ｗ…基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 藤川 和憲 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (72)考案者 荒木 浩之 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (56)参考文献 特開 昭59−46032（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−281532（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 洗浄液中に基板を浸漬してその表面を洗
浄する洗浄槽と、 純水の主要通路をなし、その通路内で純水と複数種の薬
液とを調合して複数種の洗浄液を洗浄槽内へ供給する洗
浄液供給管と、 各薬液供給管及び各薬液導入手段を介して洗浄液供給管
に連通された複数種の薬液貯溜容器と、 各薬液導入手段を制御する薬液供給量制御手段とを具備
して成り、 前記複数種の薬液貯溜容器は、過酸化水素水を貯溜した
容器と、少なくともアンモニア水を貯溜した容器又は塩
酸を貯溜した容器とから成り、 前記洗浄液供給管には純水を流通させ、この純水に前記
過酸化水素水及びアンモニア水を供給してアンモニア過
水洗浄液を調合し、又は前記純水に前記過酸化水素水及
び塩酸を供給して塩酸過水洗浄液を調合するように構成
し、 前記薬液供給量制御手段は、洗浄液供給管に付設された
透過光測定手段を備え、前記透過光測定手段によって紫
外光の吸光度を測定して前記複数種の洗浄液中の過酸化
水素水の濃度を検出するとともに、赤外光の吸光度を測
定して前記複数種の洗浄液中のアンモニア水の濃度又は
塩酸の濃度を検出するように構成したことを特徴とする
基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10996391U JP2533460Y2 (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10996391U JP2533460Y2 (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 基板洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0553241U JPH0553241U (ja) | 1993-07-13 |
| JP2533460Y2 true JP2533460Y2 (ja) | 1997-04-23 |
Family
ID=14523589
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10996391U Expired - Lifetime JP2533460Y2 (ja) | 1991-12-13 | 1991-12-13 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2533460Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100209751B1 (ko) * | 1996-04-12 | 1999-07-15 | 구본준 | 반도체 웨이퍼 세정 장치 |
| JP5448521B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-03-19 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 処理液供給装置および処理液供給方法 |
| JP6159282B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2017-07-05 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置、および基板処理装置の配管洗浄方法 |
-
1991
- 1991-12-13 JP JP10996391U patent/JP2533460Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0553241U (ja) | 1993-07-13 |
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