KR970023790A - 반도체 제조 장비용 석영 튜브의 세정방법 및 그 장치 - Google Patents

반도체 제조 장비용 석영 튜브의 세정방법 및 그 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 제조 장비, 예컨대 확산 공정을 위한 석영 튜브의 세정방법 및 그 장치에 관한 것으로, 제1, 제2 및 제3세정공간으로 구획되며, 각각의 세정공간을 막아 밀폐하기 위한 도어가 개폐 가능하게 설치되어 이루어지는 세정 챔버와; 상기 세정 챔버의 제1세정 공간으로부터 제3세정 공간에 걸쳐 설치되는 것으로써, 그 세정체인 석영 튜브를 각각의 세정 공간으로 순차적으로 이송시키기 위한 이송 벨트와; 상기 세정 챔버의 제1세정 공간에 위치한 석영 튜브의 산화막을 식각, 제거하기 위한 수단과; 상기 세정 챔버의 제1세정 공간으로부터 제3세정 공간으로 이동된 석영 튜브의 공정 잔류 가스를 제거함과 동시에 건조시키기 위한 수단을 구비하여 케미컬 세정 직후 게터링 공정과 건조 공정을 일련의 연속된 공정으로 진행할 수 있도록 한 것이다. 이와 같은 본 발명에 의하여, 세정장치내에서 게터링 공정 및 진공고온 건조공정을 일련의 연속된 공정으로 진행하므로 확산로에서 진행하던 게터링 공정시간이 불필요하게 되어 장비를 보다 효율적으로 사용할 수 있음에 따른 처리량의 향상을 기할 수 있다. 또 얼룩반점과 파티클의 주원인인 수분과 모빌 이온을 완벽하게 제거할 수 있으므로 불순물에 의한 웨이퍼 오염을 방지 할 수 있음에 따른 제품의 신뢰성 및 수율 향상을 기할 수 있다.

Description

반도체 제조 장비용 석영 튜브의 세정방법 및 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 석영 튜브 세정장치의 구조 설명을 위한 평면도,
제3도는 제2도의 세정장치를 이용한 석영 튜브 세정방법의 플로우 챠트.

Claims (6)

  1. 불산 용액, 순수 및 질소가스를 이용하여 확산 공정시 증착된 산화막 등을 식각, 제거하는 제1단계의 케미컬 세정 공정후, 공정 잔류가스를 제거하기 위한 게터링 공정과, 진공고온 건조공정을 일련의 연속된 공정으로 진행하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 석영 튜브의 세정방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 게터링 공정은 튜브를 소장의 밀폐된 공간에 넣어 진공 가열시킨 후 게터 물질을 주입, 반응시켜 잔류 가스를 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 석영 튜브의 세정방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 게터 물질은 트리클로로 아세트산인 것을 특징으로하는 반도체 제조장비용 석영 튜브의 세정방법.
  4. 확산 공정시 사용된 석영 튜브의 산화막 및 공정 잔류가스를 제거하고 건조하는 반도체 제조 장비용 석영 튜브의 세정장치로서, 제1, 제2및 제3세정 공간으로 구획되며, 각각의 세정 공간을 막아 밀폐하기 위한 도어가 개폐가능하게 설치되어 이루어지는 세정 챔버; 상기 세정 챔버의 제1세정 공간으로부터 제3세정 공간에 걸쳐 설치되는 것으로써, 그 세정체인 석영 튜브를 각각의 세정 공간으로 순차적으로 이송시키기 위한 이송 벨트; 상기 세정 챔버의 제1세정 공간에 위치한 석영 튜브의 산화막을 식각, 제거하기 위한 수단; 및 상기 세정 챔버의 제1세정 공간으로 부터 제3세정 공간으로 이동된 석영 튜브의 공정 잔류 가스를 제거함과 동시에 건조시키기 위한 수단을 구비하여 케미컬 세정 직후 케터링 공정과 건조 공정을 일련의 연속된 공정으로 진행하도록 구성되는 반도체 제조장비용 석영 튜브의 세정장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 가스 제거 및 건조수단은 세정 챔버의 제3세정 공간을 일정 온도로 가열하기 위한 히터와, 상기 제3세정 공간을 진공 배기시키기 위한 진공 펌프와, 게터 물질을 주입하기 위한 공급관으로 구성됨을 특징으로 하는 반도체 제조 장비용 석영 튜브의 세정장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 게터 물질은 트리클로로 아세트산인 것을 특징으로하는 반도체 제조장비용 석영 튜브의 세정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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