KR100607746B1 - 반도체 제조장비용 석영류 세정장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치에 관한 것으로, 세정조가 석영튜브 또는 석영보트를 세정하기에 적합하도록 구성된 주 세정조와 이들 석영튜브와 석영보트를 제외한 다른 석영류 부품들을 세정하기에 적합하도록 구성된 복수의 보조 세정조로 분리되어 구성되며, 주 세정조 내부의 세정대상 석영튜브 또는 석영보트를 회동시키기 위한 회동수단을 구비하며, 주 세정조 내부에 유속이 발진된 약액을 공급하기 위한 약액 발진 수단을 구비하는 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치를 제공한다.
따라서, 본 발명은 석영류 표면에 두껍게 증착된 각 막질의 박막을 짧은 시간내에 세정하여 약액에 의한 석영류 표면의 식각에 의한 손상을 최소화하고 세정 시간을 단축할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
세정장치, 약액, 석영류, 발진기

Description

반도체 제조장비용 석영류 세정장치{QUARTZ PART CLEANER OF THE SEMICONDUCTOR EQUIPMENT}
도 1은 종래의 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치를 도시한 구성도.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치를 도시한 구성도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10: 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치 11 : 주 세정조
12, 13 : 보조 세정조 20 : 회동수단
30 : 약액발진수단 31 : 분사노즐
32 : 약액 탱크 33 : 약액 펌프
35 : 발진기
본 발명은 반도체 제조장비용 석영류의 세정 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 석영류 표면에 두껍게 증착된 각 막질의 박막을 짧은 시간내에 세정하여 약액에 의한 석영류 표면의 식각에 의한 손상을 최소화하고 세정 시간을 단축할 수 있는 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치에 관한 것이다.
통상 웨이퍼 상에 산화막을 형성하는 산화공정은 로트(Lot) 단위의 복수매의 웨이퍼를 석영보트에 적재한 후, 이를 확산로 내부의 공정 튜브로 이동하여 석영재질의 가스노즐에서 분사되는 분사가스를 이용하여 웨이퍼 상에 산화막을 형성한다.
또한, 웨이퍼 상에 박막을 형성하는 저압화학기상증착(Low pressure chemical vapor deposition) 공정도 확산로 내부에서 석영재질의 공정튜브, 석영보트, 석영 보온통, 석영 가스노즐 등을 이용하여 공정이 진행된다.
전술한 산화공정, 저압화학기상증착고정 등에서 사용된 확산로 내부의 석영재질의 공정튜브, 석영보온통, 석영 가스노즐 등은 연속적으로 공정에서 반응가스에 노출됨으로 인해서 중금속, 폴리머(Polymer) 등의 이물질이 표면에 흡착되어 오염된다.
따라서, 오염된 석영류의 부품들은 정기적으로 세정을 하여 오염물질을 제거해야 한다.
산화공정 또는 저압화학기상증착공정에 사용된 석영류 세정공정은 먼저 산화공정에 사용된 석영류의 세정작업은 석영류를 불산(HF)과 순수(Deionized Water)가 혼합되어 담긴 석영류 세정조에 투입하여 세정작업을 진행하고, 이어서 순수가 담긴 석영류 세정조에 투입하여 최종적으로 세정작업을 진행한다.
도 1은 종래의 석영류 세정장치를 도시한 구성도로서, 순수 공급원(1) 및 불산 공급원(2)에서 공급되는 순수와 불산이 혼합된 혼산 용액을 이용하여 석영류를 세정하는 세정조(3)와, 순수 공급원(1)에서 공급되는 순수를 이용하여 석영류를 세 정하는 세정조(4)를 구비하고 있다. 또한, 이들 세정조(3,4) 내부에는 퍼지가스 공급원(5)에서 공급되는 퍼지가스 예를 들면 N2 가스를 분사하여 세정액 버블을 발생시키는 세정액 버블 발생기(6)를 구비하고 있다.
그런데 이와 같은 종래의 석영류 세정장치는 석영류에 누적된 박막들이 자연적으로 약액(Chemical)에 의해 식각되어 세정하는 방식으로써 이러한 세정방식은 석영류 최초 표면과 누적된 필름 틈새로 약액의 침투가 어려운 단점이 있었다.
또한, 석영류에서 일부 박막이 떨어져 나간 부분이나 증착두께가 얇은 부분은 두꺼운 부분보다 약액 노출 시간이 길어 그만큼 부분적으로 석영류의 과다식각에 의한 석영류의 코팅막 훼손, 치수변경, 사용시간 감소, 세정시간이 증가하는 단점이 있었다.
본 발명은 이와 같은 종래의 단점을 해결하기 위한 것으로, 석영류 표면에 두껍게 증착된 각 막질의 박막을 짧은 시간내에 세정하여 약액에 의한 석영류 표면의 식각에 의한 손상을 최소화하고 세정 시간을 단축할 수 있는 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치는 세정조가 석영튜브 또는 석영보트를 세정하기에 적합하도록 구성된 주 세정조와 이들 석영튜브와 석영보트를 제외한 다른 석영류 부품들을 세정하기에 적합하도록 구성된 복수의 보조 세정조로 분리되어 구성되며, 주 세정조 내부의 세 정대상 석영뷰브 또는 석영보트를 회동시키기 위한 회동수단을 구비하며, 주 세정조 내부에 유속이 발진된 약액을 공급하기 위한 약액 발진 수단을 구비하는 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치를 제공한다.
이하 첨부된 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 설명한다.
도 2는 본 발명에 따른 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치를 도시한 개략 구성도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치(10)는 1개의 주 세정조(11)와 2개의 보조 세정조(12,13)로 구성되어 있다.
본 발명에 따른 주 세정조(11)는 석영튜브 또는 석영보트를 세정하기에 적합하도록 구성되며, 보조 세정조(12,13)는 이들 석영튜브와 석영보트를 제외한 다른 석영류 부품들을 예를 들면, 석영 보온통, 석영 가스노즐 등을 세정하기에 적합하도록 구성된다.
본 발명에 따른 주 세정조(11)는 세정대상 석영튜브 또는 석영 보트를 회동시켜 세정효율을 높이기 위한 회동수단(20)이 마련된다. 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 회동수단(20)은 주 세정조(11) 바닥면으로부터 약간 떨어진 위치에서 회전되는 회전판(21)과, 이 회전판(21)을 회전시키기 위한 구동모터(22)를 구비한다.
주지하고 있는 바와 같이, 회전판(21) 상에는 새정대상 석영튜브 또는 석영보트가 안착되어 회전판(21)과 함께 회동된다.
본 발명에 따른 주 세정조(11)는 세정대상 석영튜브 또는 석영 보트의 세정 효율을 높일 수 있도록 약액 발진 수단(30)을 구비하고 있으며, 이 약액 발진 수단(30)은 강력한 추진력으로 약액의 유속을 발진시켜 주 세정조(11) 내부에 고르게 분출시킴으로써 석영튜브 혹은 석영보트의 표면에 두껍게 증착된 각 막질의 박막을 실질적으로 짧은 시간내에 세정하면서도 석영튜브 혹은 석영보트의 손상을 최소할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 약액 발진 수단(30)은 주 세정조(11) 내벽면 사방에 마련되어 약액을 분출하는 다수의 분사노즐(31)과, 사용된 약액을 회수하여 저장하는 약액 탱크(32)와, 회수된 약액 탱크(32)를 순환시키기 위한 약액 순환 펌프(33)와, N2 가스 공급원(34)에서 공급된 N2 가스를 이용하여 약액의 유속을 발진시키는 발진기(35)로 구성된다. 즉 N2 가스를 고압으로 공급함으로써 발진기 (35) 내부에 부압이 형성되어 약액의 유속이 증가하는 원리를 이용한 것으로, 발진기(35)는 이에 한정되지 않고 다양한 방식으로 적용할 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 약액 탱크(32)는 순수 및 불산을 공급받을 수 있도록 순수 공급원(36) 및 불산 공급원(37)과 연결되어 있으며, 사용후 농축된 약액을 배출하기 위한 약액 드레인(Drain:38)을 구비하고 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따라 발진기(35)에 유입된 약액의 역류를 방지하기 위해 약액 유입부의 라인 상에 역류방지 밸브(Check valve:39)가 마련될 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 주 세정조(11)는 수직방향으로 설치되 는 것이 세정효율을 높이는데 유리하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 2개의 보조 세정조(12,13)는 각각 통상적인 세정조의 구조로서, 그 중 1개의 보조 세정조(12)는 순수 공급원(14) 및 불산 공급원(15)에서 공급되는 순수와 불산이 혼합된 약액을 이용하여 세정하는 약액 세정조이며, 다른 하나의 보조 세정조(13)는 순수 공급원(14)에서 공급되는 순수를 이용하여 세정하는 순수 세정조이다.
이와 같은 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 제조장비용 석영류 세정장치(10)에 따르면, 주 세정조(11)는 석영튜브 혹은 석영보트를 세정하기 위한 것으로, 구동모터(22)의 구동력에 의해 회전판(21)이 회동하여 세정대상인 석영튜브 혹은 석영보트를 회동시킨다.
발진기(35)는 약액 탱크(32)에서 공급된 약액(순수 + 불산)과 N 가스 공급원(34)에서 공급된 N2 가스를 혼합하여 분사노즐(31) 방향으로 유속을 발진시킨다. 주 세정기(11) 사방에 설치된 분사노즐(31)을 통해 유속이 발진된 약액이 N2 가스와 함께 분출되면서, 회동되고 있는 석영튜브 또는 석영보트 표면에 두껍게 증착된 각 막질의 박막을 짧은 시간내에 세정하여 약액에 의한 석영류 표면의 식각에 의한 손상을 최소화하고 세정 시간을 단축할 수 있다.
한편, 보조 세정조(12,13)에서는 석영튜브와 석영보트를 제외한 다른 석영류 부품들을 예를 들면, 석영 보온통, 석영 가스노즐 등을 통상적인 세정방법으로 세정한다.
따라서, 본 발명은 석영류 표면에 두껍게 증착된 각 막질의 박막을 짧은 시간내에 세정하여 약액에 의한 석영류 표면의 식각에 의한 손상을 최소화하고 세정 시간을 단축할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체적인 실시예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연하다.

Claims (3)

  1. 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치에 있어서,
    세정조가 석영튜브 또는 석영보트를 세정하기에 적합하도록 구성된 주 세정조와 상기 석영튜브와 석영보트를 제외한 다른 석영류 부품들을 세정하기에 적합하도록 구성된 복수의 보조 세정조로 분리되어 구성되며,
    상기 주 세정조 내부의 세정대상 석영튜브 또는 석영보트를 회동시키기 위한 회동수단을 구비하며,
    상기 주 세정조 내부에 유속이 발진된 약액을 공급하기 위한 약액 발진 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 회동수단은 주 세정조 바닥면으로부터 약간 떨어진 위치에서 회전되는 회전판과, 이 회전판을 회전시키기 위한 구동모터를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 약액 발진 수단은 상기 주 세정조 내벽면 사방에 마련되어 약액을 분출하는 다수의 분사노즐과, 사용된 약액을 회수하여 저장하는 약액 탱크와, 상기 약액 탱크에 회수된 약액을 순환시키기 위한 약액 순환 펌프와, N2 가스를 이용하여 약액의 유속을 발진시키는 발진기를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조장비용 석영류의 세정장치.
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