JPH07155709A - 精密洗浄方法及び装置 - Google Patents
精密洗浄方法及び装置Info
- Publication number
- JPH07155709A JPH07155709A JP5323334A JP32333493A JPH07155709A JP H07155709 A JPH07155709 A JP H07155709A JP 5323334 A JP5323334 A JP 5323334A JP 32333493 A JP32333493 A JP 32333493A JP H07155709 A JPH07155709 A JP H07155709A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 洗浄効果を向上させる。
【構造】 オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた純水で
被洗浄物を洗浄する精密洗浄方法、及びオゾンガス及び
酸素ガスを溶解させた純水を被洗浄物に噴射する噴射ノ
ズルを設け、噴射ノズルに超音波振動子を付加したこ
と、更に噴射ノズルを洗浄を行う回転ブラシの上流側に
設置した精密洗浄装置及びオゾンガス及び酸素ガスを溶
解させた純水を被洗浄物を浸漬させる洗浄槽に収容し、
洗浄槽に超音波振動子を付加した精密洗浄装置。
被洗浄物を洗浄する精密洗浄方法、及びオゾンガス及び
酸素ガスを溶解させた純水を被洗浄物に噴射する噴射ノ
ズルを設け、噴射ノズルに超音波振動子を付加したこ
と、更に噴射ノズルを洗浄を行う回転ブラシの上流側に
設置した精密洗浄装置及びオゾンガス及び酸素ガスを溶
解させた純水を被洗浄物を浸漬させる洗浄槽に収容し、
洗浄槽に超音波振動子を付加した精密洗浄装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ガラス基板、半導体
用ウエーハ等の精密部分の精密洗浄方法及び装置に関す
るものである。
用ウエーハ等の精密部分の精密洗浄方法及び装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の此種洗浄装置は図８に示すよう
に、被洗浄物１を矢印方向に移動させながら、噴射ノズ
ル２から純水３を噴射して洗浄を行っていた。又は、図
９に示すように純水３を供給する洗浄槽４内に被洗浄物
１を挿入し、超音波振動子５を発振させて洗浄を行って
いた。
に、被洗浄物１を矢印方向に移動させながら、噴射ノズ
ル２から純水３を噴射して洗浄を行っていた。又は、図
９に示すように純水３を供給する洗浄槽４内に被洗浄物
１を挿入し、超音波振動子５を発振させて洗浄を行って
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の装置にあっ
ては純水のみを用いているため、洗浄不足になり、多数
の洗浄工程を必要としていた。そこで、本発明において
は、オゾンガスを溶解させた純水を用いて汚れを確実に
除去しようとするものである。
ては純水のみを用いているため、洗浄不足になり、多数
の洗浄工程を必要としていた。そこで、本発明において
は、オゾンガスを溶解させた純水を用いて汚れを確実に
除去しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた純水
で被洗浄物を洗浄する精密洗浄方法を構成する。
するために、オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた純水
で被洗浄物を洗浄する精密洗浄方法を構成する。
【０００５】又、オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた
純水を被洗浄物に噴射する噴射ノズルを設け、噴射ノズ
ルに超音波振動子を付加し、更に、噴射ノズルを洗浄を
行う回転ブラシの上流側に設置した精密洗浄装置を構成
する。
純水を被洗浄物に噴射する噴射ノズルを設け、噴射ノズ
ルに超音波振動子を付加し、更に、噴射ノズルを洗浄を
行う回転ブラシの上流側に設置した精密洗浄装置を構成
する。
【０００６】又、オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた
純水を被洗浄物を浸漬させる洗浄槽に収容し、洗浄槽に
超音波振動子を付加した精密洗浄装置を構成する。
純水を被洗浄物を浸漬させる洗浄槽に収容し、洗浄槽に
超音波振動子を付加した精密洗浄装置を構成する。
【０００７】
【作用】本発明は前記のように構成したもので、オゾン
ガス及び酸素ガスを溶解させた純水で洗浄することによ
り、酸化性ラジカルを生成せしめ、被洗浄物の表面を酸
化させ、ヌレ性を向上させながら表面の粒子状汚れを除
去する。ガスを溶解させ純水を噴射ノズルで噴射させた
り、洗浄槽に収容して被洗浄物を洗浄する。
ガス及び酸素ガスを溶解させた純水で洗浄することによ
り、酸化性ラジカルを生成せしめ、被洗浄物の表面を酸
化させ、ヌレ性を向上させながら表面の粒子状汚れを除
去する。ガスを溶解させ純水を噴射ノズルで噴射させた
り、洗浄槽に収容して被洗浄物を洗浄する。
【０００８】
【実施例】本発明方法を実施する際の装置の第１実施例
を図１に基いて詳細に説明する。電気分解式イオン発生
装置６は槽７中に直流電源８に接続するプラス電極９と
マイナス電極１０を設置し、その中間にイオン交換膜１
１を設置し、イオン交換膜１１の上部に分離壁１２を設
け、槽７の外周にオーバフロー受１３を設け、オーバフ
ロー受１３の上部に導管１４と導管１５とを設けてい
る。前記電気分解式イオン発生装置６において、槽７に
導管１６で供給した純水３をプラス電極９とマイナス電
極１０により電気分解して、プラス電極９側にオゾンガ
スＯ3 と酸素ガスＯ2 を発生させ、マイナス電極１０側
に水素ガスＨ2 を発生させ、水素ガスは導管１５から外
部に安全に排出させる。一方、イオン交換膜１１で純度
を良くしたオゾンガスＯ3 と酸素ガスＯ2 （以下発生ガ
ス１６と称す）は導管１４で溶解塔１７に送られ、オー
バフローした純水はオーバフロー受１３で受け所定場所
に送られる。
を図１に基いて詳細に説明する。電気分解式イオン発生
装置６は槽７中に直流電源８に接続するプラス電極９と
マイナス電極１０を設置し、その中間にイオン交換膜１
１を設置し、イオン交換膜１１の上部に分離壁１２を設
け、槽７の外周にオーバフロー受１３を設け、オーバフ
ロー受１３の上部に導管１４と導管１５とを設けてい
る。前記電気分解式イオン発生装置６において、槽７に
導管１６で供給した純水３をプラス電極９とマイナス電
極１０により電気分解して、プラス電極９側にオゾンガ
スＯ3 と酸素ガスＯ2 を発生させ、マイナス電極１０側
に水素ガスＨ2 を発生させ、水素ガスは導管１５から外
部に安全に排出させる。一方、イオン交換膜１１で純度
を良くしたオゾンガスＯ3 と酸素ガスＯ2 （以下発生ガ
ス１６と称す）は導管１４で溶解塔１７に送られ、オー
バフローした純水はオーバフロー受１３で受け所定場所
に送られる。
【０００９】溶解塔１７は導管９との接続部にガス透過
膜１８を設け、発生ガス１６をガス透過膜１８を通し、
導管１９で導入した純水３中に溶解させてオゾン水２０
を作成する。オゾン水２０は導管２１で噴射ノズル２に
供給し、噴射ノズル２から移動する被洗浄物１に噴射し
て、被洗浄物１の表面上の微粒子状の汚物２２を除去す
る。オゾン水２０はオゾンガス及び酸素ガスを２〜１０
ｐｐｍ溶解させたものを用いるが式１に示すような酸化
性ラジカルを生成する。
膜１８を設け、発生ガス１６をガス透過膜１８を通し、
導管１９で導入した純水３中に溶解させてオゾン水２０
を作成する。オゾン水２０は導管２１で噴射ノズル２に
供給し、噴射ノズル２から移動する被洗浄物１に噴射し
て、被洗浄物１の表面上の微粒子状の汚物２２を除去す
る。オゾン水２０はオゾンガス及び酸素ガスを２〜１０
ｐｐｍ溶解させたものを用いるが式１に示すような酸化
性ラジカルを生成する。
【式１】 前記のような酸化性ラジカルにより被洗浄物の表面を酸
化させ、ヌレ性を向上させながら表面の粒子状汚れを除
去する。
化させ、ヌレ性を向上させながら表面の粒子状汚れを除
去する。
【００１０】次に、第２実施例を図２に基いて説明する
と、電気分解式イオン発生装置６と溶解塔１７は図１の
第１実施例と同一のものを使用するので図示及び説明を
省略する。被洗浄物１を浸漬させる洗浄槽４に導管２１
でオゾン水２０を供給し、底部に設けた超音波振動子５
により超音波振動させて洗浄を行う。オーバフローした
オゾン水２０はオーバフロー受２３で受け、所望場所に
送るようになっている。尚、超音波洗浄を行う必要がな
い場合には超音波振動は必要がなく、作動させなければ
よい。
と、電気分解式イオン発生装置６と溶解塔１７は図１の
第１実施例と同一のものを使用するので図示及び説明を
省略する。被洗浄物１を浸漬させる洗浄槽４に導管２１
でオゾン水２０を供給し、底部に設けた超音波振動子５
により超音波振動させて洗浄を行う。オーバフローした
オゾン水２０はオーバフロー受２３で受け、所望場所に
送るようになっている。尚、超音波洗浄を行う必要がな
い場合には超音波振動は必要がなく、作動させなければ
よい。
【００１１】次に、図３に示す第３実施例を説明する
と、第２実施例と同様に電気分解式イオン発生装置６及
び溶解塔１７は図示説明を省略する。噴射ノズル２を円
錐形状に形成し、上端にレンズ状輻射板２４をパッキン
グ２５を介して固定し、レンズ状輻射板２４の上面に超
音波振動子５を固定し、噴射ノズル２の噴射口に超音波
の照射を集中させて、超音波洗浄を有効に行うようにし
たものである。
と、第２実施例と同様に電気分解式イオン発生装置６及
び溶解塔１７は図示説明を省略する。噴射ノズル２を円
錐形状に形成し、上端にレンズ状輻射板２４をパッキン
グ２５を介して固定し、レンズ状輻射板２４の上面に超
音波振動子５を固定し、噴射ノズル２の噴射口に超音波
の照射を集中させて、超音波洗浄を有効に行うようにし
たものである。
【００１２】次に、図４に示す第４実施例を説明する
と、第２実施例と同様に電気分解式イオン発生装置６及
び溶解塔１７は図示説明を省略する。被洗浄物（図示省
略）を搬送する搬送ローラコンベア２６の途中に２対の
回転ブラシ２７，２７を設け、上流側にオゾン水２０を
供給する導管２１に接続した噴射ノズル２を設置し、下
流の回転ブラシ２７の上流側と下流側に純水用噴射ノズ
ル２８，２８を設置したものである。図中２９は被洗浄
物を回転ブラシ２７に導入するための押えローラであ
る。第４実施例は前記のように構成したもので、被洗浄
物が上流側の回転ブラシ２７に入る前にオゾン水２０が
噴射され、ヌレ性を向上させ、回転ブラシ２７の回転に
よる汚れを確実に除去する。
と、第２実施例と同様に電気分解式イオン発生装置６及
び溶解塔１７は図示説明を省略する。被洗浄物（図示省
略）を搬送する搬送ローラコンベア２６の途中に２対の
回転ブラシ２７，２７を設け、上流側にオゾン水２０を
供給する導管２１に接続した噴射ノズル２を設置し、下
流の回転ブラシ２７の上流側と下流側に純水用噴射ノズ
ル２８，２８を設置したものである。図中２９は被洗浄
物を回転ブラシ２７に導入するための押えローラであ
る。第４実施例は前記のように構成したもので、被洗浄
物が上流側の回転ブラシ２７に入る前にオゾン水２０が
噴射され、ヌレ性を向上させ、回転ブラシ２７の回転に
よる汚れを確実に除去する。
【００１３】前記各実施例においては電気分解式オゾン
発生装置を採用したが、一般的な空気又は酸素ガスを原
料としてオゾンを発生させる無声放電方式では図５に示
すように、発生したオゾンガスの水への溶解性が低いこ
と、電極間での放電による金属汚染、Ｎｏx の発生等の
問題があり、洗浄用に使用するオゾン発生方式としては
不向である。
発生装置を採用したが、一般的な空気又は酸素ガスを原
料としてオゾンを発生させる無声放電方式では図５に示
すように、発生したオゾンガスの水への溶解性が低いこ
と、電極間での放電による金属汚染、Ｎｏx の発生等の
問題があり、洗浄用に使用するオゾン発生方式としては
不向である。
【００１４】又、オゾンガスを水にバブリングをして溶
解させる方式もあるが、図６に示すように本発明の膜式
に比較すると、水への溶解性が低いため不向である。
尚、本実施例に用いた被洗浄物１の寸法は約３００×３
００×１．１の液晶用ガラス板を毎分約２，４００ミリ
の速さで移動させ、噴射ノズル２にて純水中のオゾン濃
度を変化させ、約８秒間洗浄した。そのデータを図７に
示す。洗浄効果測定として、洗浄後の被洗浄物をヌラし
水滴の表面の接触角を測定することでデータを収集し
た。尚、オゾンなしの時接触角約８°であり、オゾン濃
度８ｐｐｍの時接触角約１°であった。
解させる方式もあるが、図６に示すように本発明の膜式
に比較すると、水への溶解性が低いため不向である。
尚、本実施例に用いた被洗浄物１の寸法は約３００×３
００×１．１の液晶用ガラス板を毎分約２，４００ミリ
の速さで移動させ、噴射ノズル２にて純水中のオゾン濃
度を変化させ、約８秒間洗浄した。そのデータを図７に
示す。洗浄効果測定として、洗浄後の被洗浄物をヌラし
水滴の表面の接触角を測定することでデータを収集し
た。尚、オゾンなしの時接触角約８°であり、オゾン濃
度８ｐｐｍの時接触角約１°であった。
【００１５】
【発明の効果】本発明は前記のような構成、作用を有す
るので、オゾンを溶解させた純水を被洗浄物で洗浄する
ので、被洗浄物の表面を酸化させてヌレ性を向上させ、
被洗浄物に付着している汚れを確実に除去することがで
きる。
るので、オゾンを溶解させた純水を被洗浄物で洗浄する
ので、被洗浄物の表面を酸化させてヌレ性を向上させ、
被洗浄物に付着している汚れを確実に除去することがで
きる。
【００１６】
【図１】本発明に係る精密洗浄方法及び装置の第１実施
例の断面図。
例の断面図。
【図２】第２実施例の要部の断面図。
【図３】第３実施例の要部の断面図。
【図４】第４実施例の要部の断面図。
【図５】オゾン発生における無電放電式と電気分解式と
の状態を示す説明図。
の状態を示す説明図。
【図６】オゾンを水に溶解させる方式の比較を示す説明
図。
図。
【図７】オゾン水の濃度と被洗浄物との接触角度を示す
説明図。
説明図。
【図８】従来装置の断面図。
【図９】他の従来装置の断面図。
１ 被洗浄物 ２ 噴射ノズル ３ 純水 ４ 洗浄槽 ５ 超音波振動子 ６ 電気分解式イオン発生装置 ７ 槽 ８ 直流電源 ９ プラス電極 １０ マイナス電極 １１ イオン交換膜 １２ 分離壁 １３ オーバフロー受 １４ 導管 １５ 導管 １６ 導管 １７ 溶解塔 １８ ガス透過膜 １９ 導管 ２０ オゾン水 ２１ 導管 ２２ 汚物 ２３ オーバフロー受 ２４ レンズ状輻射板 ２５ パッキング ２６ 搬送ローラコンベア ２７ 回転ブラシ ２８ 純水用噴射ノズル ２９ 押えローラ
Claims (6)
- 【請求項１】 オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた純
水で被洗浄物を洗浄することを特徴とする精密洗浄方
法。 - 【請求項２】 オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた純
水を被洗浄物に噴射する噴射ノズルを設けたことを特徴
とする精密洗浄装置。 - 【請求項３】 噴射ノズルに超音波振動子を付加したこ
とを特徴とする請求項２記載の精密洗浄装置。 - 【請求項４】 噴射ノズルを洗浄を行う回転ブラシの上
流側に設置したことを特徴とする請求項２、３記載の精
密洗浄装置。 - 【請求項５】 オゾンガス及び酸素ガスを溶解させた純
水を被洗浄物を浸漬させる洗浄槽に収容したことを特徴
とする洗浄装置。 - 【請求項６】 洗浄槽に超音波振動子を付加したことを
特徴とする請求項５記載の精密洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5323334A JPH07155709A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 精密洗浄方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5323334A JPH07155709A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 精密洗浄方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07155709A true JPH07155709A (ja) | 1995-06-20 |
Family
ID=18153644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5323334A Pending JPH07155709A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 精密洗浄方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07155709A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0839586A2 (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-06 | Pre-Tech Co., Ltd. | A cleaning apparatus and a cleaning method |
| JPH11217591A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Kurita Water Ind Ltd | 電子材料用洗浄水 |
| CN110653202A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 株式会社迪思科 | 超声波水喷射装置 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6143088B2 (ja) * | 1979-08-21 | 1986-09-25 | Ebara Infilco | |
| JPS6310529A (ja) * | 1986-07-01 | 1988-01-18 | Mitsubishi Electric Corp | 洗浄装置 |
| JPS63264127A (ja) * | 1987-04-22 | 1988-11-01 | Dainippon Ink & Chem Inc | 多孔質膜型気液接触装置 |
| JPH03254874A (ja) * | 1990-03-05 | 1991-11-13 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
| JPH04119903A (ja) * | 1990-09-06 | 1992-04-21 | Permelec Electrode Ltd | 電解オゾン発生装置 |
| JPH04305926A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-10-28 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 洗浄装置 |
| JPH04326988A (ja) * | 1991-04-25 | 1992-11-16 | Permelec Electrode Ltd | オゾン含有ガスの散気方法 |
-
1993
- 1993-11-30 JP JP5323334A patent/JPH07155709A/ja active Pending
Patent Citations (7)
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|---|---|---|---|---|
| EP0839586A2 (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-06 | Pre-Tech Co., Ltd. | A cleaning apparatus and a cleaning method |
| EP0839586A3 (en) * | 1996-10-30 | 1999-12-08 | Pre-Tech Co., Ltd. | A cleaning apparatus and a cleaning method |
| CN1084525C (zh) * | 1996-10-30 | 2002-05-08 | 普雷帝克股份有限公司 | 清洗装置和清洗方法 |
| JPH11217591A (ja) * | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Kurita Water Ind Ltd | 電子材料用洗浄水 |
| CN110653202A (zh) * | 2018-06-28 | 2020-01-07 | 株式会社迪思科 | 超声波水喷射装置 |
| JP2020000995A (ja) * | 2018-06-28 | 2020-01-09 | 株式会社ディスコ | 超音波水噴射装置 |
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