JP3675385B2 - 半導体製造装置および半導体製造方法 - Google Patents
半導体製造装置および半導体製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3675385B2 JP3675385B2 JP2001316486A JP2001316486A JP3675385B2 JP 3675385 B2 JP3675385 B2 JP 3675385B2 JP 2001316486 A JP2001316486 A JP 2001316486A JP 2001316486 A JP2001316486 A JP 2001316486A JP 3675385 B2 JP3675385 B2 JP 3675385B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust
- exhaust system
- valve
- system pipe
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置および半導体製造方法に関し、特に反応ガスを用いて半導体ウェーハに薄膜成長等の処理をする処理装置の排気系統の構造およびその使用方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体ウェーハへの減圧CVD処理、イオン注入処理、プラズマエッチング処理等は、高温、減圧下で反応ガスを反応管に導入して行われ、処理後の不要な排気ガスは真空ポンプによって吸引され排気系配管を通して反応管外へ排気される。このとき、排気系配管内壁には排気ガス中に含まれる反応生成物が付着し、反応生成物が堆積していくと排気抵抗が増え、反応管内での半導体ウェーハの処理にまで悪影響を及ぼす虞があるため、排気系配管は所定時間毎に取外し、反応生成物の除去をする必要がある。
【0003】
従来の半導体製造装置の一例として、縦型減圧CVD装置を断面図として示す図2を用いて説明する。縦型減圧CVD装置1は、半導体ウェーハ2を収納するカセット3を導入して真空排気されるチャンバ4と、このチャンバ4を第1のバルブ5を通して真空排気する第1の真空ポンプ6と、チャンバ4に隣接して設けられた反応管7と、この反応管7に接続され第2のバルブ8を通して反応ガスを導入するガス導入系9と、反応管7に排気系配管10で接続され処理後の排気ガスを排気する第2の真空ポンプ11と、反応管7を加熱するヒータ12と、半導体ウェーハ2を縦方向に並べて収納するボート13と、ボート13を反応管7内に収納したり取出したりするボートエレベータ14と、ボートエレベータ14の上昇に伴い反応管7とチャンバ4とを仕切るフランジ15と、カセット3とボート13との間で半導体ウェーハ2を搬送するウェーハ搬送機構16とで構成されている。ここで、反応管7と第2の真空ポンプ11とを繋ぐ排気系配管10の経路内には、反応管7の近傍に排気バルブ17,第2の真空ポンプ11の近傍にフィルタ18がそれぞれ配置されている。特に、反応ガスとして、高沸点ガス(沸点が25℃以上)である例えば、TEOS(tetra ethyl ortho silicate)等を用いる場合には、排気ガスが排気系配管10の中で冷却され、排気系配管10内壁に反応生成物が付着しやすくなるため、フィルタ18に反応生成物を付着させ、第2の真空ポンプ11に反応生成物が付着するのを抑制している。このため、排気系配管10は定期的に取外して内壁の清掃を実施し、フィルタ18は、所定時間毎に交換し、ともに排気抵抗が異常に高くならないように維持している。
【0004】
次に動作としては、先ず、ボート13は空の状態でボートエレベータ14によって上限位置に置かれる。このときフランジ15が反応管7とチャンバ4とを仕切る。次に、半導体ウェーハ2を収納したカセット3を扉を開閉して所定の位置に載置する。次に、第1のバルブ5を開き第1の真空ポンプ6を作動しチャンバ4内を真空排気し、所定の真空度が得られた後第1のバルブ5を閉じ、図示しないガス制御用バルブ(図示せず)にてチャンバ4内を不活性ガスで充満させる。次に、ボートエレベータ14によりボート13を下降させ、ウェーハ搬送機構16によりカセット3から半導体ウェーハ2をボート13に移し替え、再び、ボートエレベータ14を上昇させ、ボート13を反応管7に入れる。次に、第2のバルブ8を開いてガス導入系9から反応管7内に反応ガスを導入し、半導体ウェーハ2をCVD処理する。CVD処理が完了すると、反応管7内の不要な反応ガスは、排気バルブ17を開いて排気系配管10を通じて排気される。その後、ボート13はボートエレベータ14によって下限位置に降下し、ウェーハ搬送機構16によってカセット3に収納される。以上の動作を繰返し順次、CVD処理が行われる。
【0005】
尚、上記では縦型減圧CVD装置を例にして説明したが、排気系配管に不所望な反応生成物が付着するのはCVD装置に限るものではなく、イオン注入装置、プラズマエッチング装置等においても同様である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、従来の減圧CVD装置、イオン注入装置、プラズマエッチング装置等では、排気系配管の内壁に堆積した不所望な反応生成物を除去するためには、定期的に排気系配管を取外し、内壁を清掃した後、再度、取付けるという面倒な作業を行っていた。このため、工数が掛かるとともに、この脱着作業により排気系配管に傷みを生じさせる虞があった。また、排気系配管を2系統設けて切換えて、一系統を清掃中は、他系統を使用する構成も考えられるが、この構成によると装置の改造が大規模となり、また、装置の占めるスペースの増加につながるという課題を有していた。
【0007】
本発明の目的は、比較的簡単な装置の改造によって、排気系配管の内壁に付着した反応生成物を、排気系配管を取外すことなく除去できる排気系構造を有した半導体製造装置および半導体製造方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために提案されたもので、反応管内に半導体ウェーハを載置し、反応ガスを供給し、半導体ウェーハの処理を行い、処理後の排気ガスを反応管に接続した排気バルブを設けた排気系配管を通して真空ポンプで吸引し排気する半導体製造装置において、一端を大気圧より高圧な気体を供給する高圧気体供給部に接続した外気導入バルブを、排気バルブと真空ポンプとの間の排気系配管に排気バルブに近接して配設し、排気バルブを閉状態にしておいて、外気導入バルブを開閉動作させ、高圧気体が排気系配管内に流入する際に生じる物理的衝撃力で排気系配管の内壁の付着物を除去可能とすることを特徴とする半導体製造装置である。また、他の発明は、反応管内に半導体ウェーハを載置し、反応ガスを供給し、半導体ウェーハの処理を行い、処理後の排気ガスを反応管に接続した排気バルブを設けた排気系配管を通して真空ポンプで吸引し排気する半導体製造方法において、一端を大気圧より高圧な気体を供給する高圧気体供給部に接続した外気導入バルブを、排気バルブと真空ポンプとの間の排気系配管に排気バルブに近接して配設し、排気バルブを閉状態にしておいて、外気導入バルブを開閉動作させ、高圧気体が排気系配管内に流入する際に生じる物理的衝撃力で排気系配管の内壁の付着物を除去することを特徴とする半導体製造方法である。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施例としての縦型減圧CVD装置を要部断面図として示す図1を用いて説明する。図2と同一部分には同一符号を付して説明を省略する。図1に示すように、本発明の縦型減圧CVD装置101が、従来の縦型減圧CVD装置1と異なるところは、一端を例えば、高圧エアや高圧窒素などの高圧気体を供給する高圧気体供給部(図示せず)に接続し、排気系配管10内に高圧気体を導入する外気導入バルブ102が排気バルブ17の第2の真空ポンプ11側の排気系配管10に、排気バルブ17に近接して配設されている点である。外気導入バルブ102は、所定時間間隔で開閉動作を繰り返し、排気系配管10内に間欠的に高圧気体を導入するように制御部103で制御可能となっている。
【0010】
装置本体の動作については、従来と同様であるため説明を省略し、排気系配管10内に堆積した反応生成物の除去時の動作について図1を用いて説明する。先ず、排気バルブ17を閉状態にし、反応管7と排気系配管10とを遮断した後、第2の真空ポンプ11を作動させ排気系配管10内を略真空にする。次に、外気導入バルブ102を制御部103で制御し、所定時間間隔で開閉動作を繰り返し、排気系配管10内に間欠的に高圧気体を導入する。これにより、高圧気体と真空圧との圧力差でもって、高圧気体が突発的かつ断続的に排気系配管10内に流れ込み、この物理的衝撃により排気系配管10内壁に付着した反応生成物を剥離し、フィルタ18に付着させる。この清掃作業が完了したら、第2の真空ポンプ11を停止し、汚染されたフィルタ18を交換した後、再度、第2の真空ポンプ11を作動し、排気系配管10内に溜まった気体を吸引し内部を真空とした後、排気バルブ17を開放し、半導体ウェーハ2の処理を再開する。このようにして、排気系配管10を取り外すことなく、排気系配管10に、一端を高圧気体供給部(図示せず)に接続した外気導入バルブ102を配設するという比較的簡単な装置の改造で、かつ装置のスペースを大幅に拡大することなく排気系配管10内壁に付着した反応生成物の除去が可能となる。また、高圧気体と真空との圧力差を利用した物理的衝撃によって反応生成物を内壁から剥離させ除去するため、煩雑な回収処理の必要な洗浄液などを使用しなくてよい。また、排気バルブ17を閉じることで、装置本体を停止させることなく、どのタイミングでも所望の時間だけ清掃作業が実施でき生産の合間を利用した清掃作業に好適である。
【0011】
尚、上記の高圧気体供給部として、例えば、5気圧の高圧エアの供給管と接続した場合、圧力差は約6気圧となり、反応生成物を剥離させる大きな物理的衝撃力が得られる。また、上記では縦型減圧CVD装置101を例にして説明したが、結晶成長装置に限るものではなく、イオン注入やプラズマエッチング装置等の排気系配管を有する処理装置においても同様に一端を高圧気体供給部に接続した外気導入バルブを配設することで、同様の効果が期待できる。
【0012】
【発明の効果】
本発明の半導体製造装置および半導体製造方法によれば、排気バルブの近傍の排気系配管に一端を高圧気体供給部に接続した外気導入バルブを配設し、高圧気体と真空との圧力差を利用した物理的衝撃によって反応生成物を排気系配管の内壁から剥離させるため、比較的簡単な装置改造だけで、回収処理の必要な洗浄液などを使用せず、反応生成物の除去ができる。また、排気バルブを閉じることで、装置本体を停止させることなく、どのタイミングでも、所望の時間だけ清掃作業が実施でき生産の合間を利用した清掃作業に好適である。また、外気導入バルブの開閉動作を繰り返し、排気系配管に間欠的に外気を導入するようにすると剥離力の増加が図れ好適である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施例としての縦型CVD装置の断面図
【図2】 従来の縦型CVD装置の断面図
【符号の説明】
2 半導体ウェーハ
7 反応管
11 第2の真空ポンプ
17 排気バルブ
101 縦型CVD装置
102 外気導入バルブ
Claims (2)
- 反応管内に半導体ウェーハを載置し、反応ガスを供給し、半導体ウェーハの処理を行い、処理後の排気ガスを反応管に接続した排気バルブを設けた排気系配管を通して真空ポンプで吸引し排気する半導体製造装置において、一端を大気圧より高圧な気体を供給する高圧気体供給部に接続した外気導入バルブを、前記排気バルブと前記真空ポンプとの間の排気系配管に前記排気バルブに近接して配設し、前記排気バルブを閉状態にしておいて、前記外気導入バルブを開閉動作させ、高圧気体が排気系配管内に流入する際に生じる物理的衝撃力で排気系配管の内壁の付着物を除去可能とすることを特徴とする半導体製造装置。
- 反応管内に半導体ウェーハを載置し、反応ガスを供給し、半導体ウェーハの処理を行い、処理後の排気ガスを反応管に接続した排気バルブを設けた排気系配管を通して真空ポンプで吸引し排気する半導体製造方法において、一端を大気圧より高圧な気体を供給する高圧気体供給部に接続した外気導入バルブを、前記排気バルブと前記真空ポンプとの間の排気系配管に前記排気バルブに近接して配設し、前記排気バルブを閉状態にしておいて、前記外気導入バルブを開閉動作させ、高圧気体が排気系配管内に流入する際に生じる物理的衝撃力で排気系配管の内壁の付着物を除去することを特徴とする半導体製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001316486A JP3675385B2 (ja) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001316486A JP3675385B2 (ja) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003124205A JP2003124205A (ja) | 2003-04-25 |
JP3675385B2 true JP3675385B2 (ja) | 2005-07-27 |
Family
ID=19134496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001316486A Expired - Fee Related JP3675385B2 (ja) | 2001-10-15 | 2001-10-15 | 半導体製造装置および半導体製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3675385B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0513867D0 (en) * | 2005-07-06 | 2005-08-10 | Boc Group Plc | Method of treating an exhaust gas |
JP6316759B2 (ja) * | 2015-01-21 | 2018-04-25 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス供給系清浄化方法および基板処理装置 |
JP6744181B2 (ja) * | 2016-09-26 | 2020-08-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 成膜装置及び成膜方法 |
JP7175782B2 (ja) | 2019-01-25 | 2022-11-21 | 株式会社東芝 | ケイ素含有物質形成装置 |
JP7278822B2 (ja) * | 2019-03-22 | 2023-05-22 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置、および、基板処理方法 |
JP7167864B2 (ja) * | 2019-06-21 | 2022-11-09 | 株式会社Sumco | 付着物除去装置及び付着物除去方法 |
-
2001
- 2001-10-15 JP JP2001316486A patent/JP3675385B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003124205A (ja) | 2003-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW303478B (ja) | ||
US20010020480A1 (en) | Pod and method of cleaning it | |
KR20030067468A (ko) | 반응과 이송 섹션으로 구분된 챔버를 포함하는 반도체가공장치 | |
WO1987007309A1 (en) | Deposition apparatus with automatic cleaning means and method of use | |
JP2015531546A (ja) | ヒューム除去装置及び基板処理装置 | |
KR19990077351A (ko) | 진공 겸용 수증기 및 린스 공정모듈 | |
JP3675385B2 (ja) | 半導体製造装置および半導体製造方法 | |
KR20180120586A (ko) | 기판 처리 장치, 인젝터 내의 파티클 제거 방법 및 기판 처리 방법 | |
JP6578015B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR101685095B1 (ko) | 기판 버퍼링 장치, 기판처리설비, 및 기판처리방법 | |
JP2001127044A (ja) | 真空処理装置および真空処理システム | |
JPH09232290A (ja) | 半導体製造装置 | |
JP4294976B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2003077897A (ja) | 処理装置及びその運転方法 | |
JP3066691B2 (ja) | マルチチャンバー処理装置及びそのクリーニング方法 | |
KR100700762B1 (ko) | 박막형성장치의 세정방법 | |
JPH10233389A (ja) | 半導体処理装置およびそのクリーニング方法ならびに半導体装置の製造方法 | |
JPH05217919A (ja) | 自然酸化膜除去装置 | |
JP2003045861A (ja) | 半導体製造装置 | |
WO2006003880A1 (ja) | 真空処理装置 | |
JP2003168679A (ja) | 半導体製造装置およびその清掃方法 | |
JP3681998B2 (ja) | 処理装置及びドライクリーニング方法 | |
KR20230066455A (ko) | 프로세싱 후 기판을 세정하기 위한 방법 및 장치 | |
JP2005251988A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2002075882A (ja) | 基板処理装置及び基板処理装置用ロードロックチャンバー並びに基板処理装置におけるロードロックチャンバーのクリーニング方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040510 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20050118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050315 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050412 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050425 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090513 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |