KR970022574A - 노광 장치 및 방법 - Google Patents

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KR970022574A
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미노루 무라타
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오노 시게오
니콘 가부시키가이샤
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    • G—PHYSICS
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    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

노광장치에 있어서 비용상승 및 스루풋(throughput)의 저하를 초래하지 않고 레이저 간섭계의 레이저빔의 파장을 보정한다. 이것에 의해 레티클측의 레이저 간섭계(22a) 및 웨이퍼측의 레이저 간섭계(23a)의 각각의 레이저빔의 주변의 공기의 온도를 각각 측정하는 온도센서(25,26) 및 대기압 및 온도 등을 측정하는 환경 센서(31)를 설치한다. 상기 CPU인 주체어계(13)는 레티클 스테이지 제어계(27) 및 웨이퍼 스테이지측 제어계(28)에 레티클 및 웨이퍼의 이동을 지시하고(단계 201), 그 이동 시간중에 온도 센서(25,26) 및 환경 센서(31)의 측정값을 판독하고 환경 데이터의 변화에 따르는 레이저빔의 파장을 보정하고(단계 202), 그 보정된 파장을 써서 다음의 레티클 스테이지 및 웨이퍼 스테이지의 주사 노광시의 위치 제어를 행한다.

Description

노광 장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3A는 제1도의 스테이지 제어 기구를 도시하는 블록도,
제3B도는 그 스테이지 제어 기구를 구성하는 각 제어계의 동작을 도시하는 흐름도.

Claims (9)

  1. 마스크의 자리매김을 행하기 위한 마스크 스테이지와, 기판의 자리매김을 행하기 위한 기판 스테이지와, 계측용의 광빔을 써서 상기 기판 스테이지의 위치를 계측하는 간섭계와, 상기 간섭계의 상기 광빔의 광로의 환경 변화를 검출하는 센서와, 상기 기판 스테이지의 스텝핑 구동 동작, 및 상기 마스크의 패턴의 상기 쇼트영역으로의 전사 노광 동작의 적어도 한쪽과 병렬로 상기 센서의 검출 결과에 의거해서 상기 광빔의 파장의 변동량을 구하고, 이 변동량 및 상기 간섭계의 계측값에 의거해서 상기 기판 스테이지를 구동하는 스테이지 제어 수단을 구비한 노광 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 스테이지 제어 수단은, 상기 간섭계의 계측값 및 상기 광빔의 파장에 의거하는 상기 기판 스테이지의 구동 동작, 및 상기 마스크 패턴의 상기 쇼트 영역으로의 전사 노광 동작의 적어도 한쪽을 제어하는 제1제어 수단과, 그 제1제어 수단에 제어 개시 지령을 내는 동시에, 상기 센서의 검출 결과에 의거해서 상기 광빔의 파장의 변동량을 구하는 제2제어 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 스테이지 제어 수단은, 상기 기판 스테이지의 스텝핑 구동, 상기 쇼트 영역으로의 전사 노광의 적어도 한쪽이 행해지고 있을 때 구해진 상기 광빔의 파장의 변동량을, 그후에 계속하는 쇼트영역으로의 전사 노광 및 상기 기판 스테이지의 스텝핑 구동의 적어도 한쪽을 행할 때 사용하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 마스크 스테이지는 상기 마스크를 소정의 방향에 이동하게 구성되며, 상기 마스크의 패턴을 상기 기판상의 각 쇼트 영역에 전사 노광할 때, 상기 마스크 스테이지 및 상기 기판 스테이지가 동기해서 이동되는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
  5. 전사용 패턴이 형성된 마스크의 자리매김을 행하기 위한 마스크 스테이지와, 감광성의 기판의 자리매김을 행하기 위한 기판 스테이지와, 계측용의 광빔을 써서 상기 기판 스테이지의 자리를 계측하는 간섭계와, 그 간섭계 계측값 및 상기 광빔의 파장에 의거해서 상기 기판 스테이지를 구동하는 스테이지 제어 수단을 구비하며, 그 스테이지 제어 수단에 의해 상기 기판 스테이지를 구동하여 상기 마스크와 상기 기판과와 자리 맞춤을 행하여 상기 마스크의 패턴을 상기 기관상의 각 쇼트 영역에 전사 노광하는 노광 방법에 있어서, 상기 간섭계의 상기 광빔의 광로의 환경 변화를 센서에 의해 검출하는 단계와, 상기 스테이지 제어 수단에 의해, 상기 기판 스테이지의 스텝핑 구동 동작, 및 상기 마스크 패턴의 상기 쇼트 영역으로의 전사 노광 동작의 적어도 한쪽과 병렬로 상기 센서의 검출 결과에 의거해서 상기 광 빔의 파장의 변동량을 구하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 스테이지 제어 수단에 의해 상기 광빔의 파장의 변동량을 구하는 단계는, 상기 간섭계의 계측값 및 상기 광빔의 파장에 의거해서 상기 기판 스테이지의 구동 동작, 및 상기 마스크 패턴의 상기 쇼트 영역으로의 전사 노광 동작의 적어도 한쪽을 제어하는 단계와 상기 기판 스테이지의 구동 동작, 및 상기 전사 노광 동작의 적어도 한쪽을 행하기 위한 제어 개시 지령을 내는 동시에, 상기 센서의 검출 결과에 의거해서 상기 광빔의 파장의 변동량을 구하는 단계를 갖는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 스테이지 제어 수단에 의해 구해진 상기 광빔의 파장의 변동량은, 그후에 계속하는 쇼트 영역으로의 전사 노광 및 상기 기판 스테이지의 스텝핑 구동의 적어도 한쪽을 행할 때 사용되는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  8. 제5항에 있어서, 상기 마스크 스테이지는 상기 마스크를 소정의 방향에 이동하고, 상기 마스크의 패턴을 상기 기판상의 각 쇼트 영역에 전사 노광할 때, 상기 마스크 스테이지 및 상기 기판 스테이지가 동기해서 이동되는 것을 특징으로 하는 노광 방법.
  9. 제1항에 있어서, 상기 센서는 상기 계측 빔의 광로 주변기의 대기압, 습도, 온도중 적어도 하나를 검출하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960045816A 1995-10-16 1996-10-15 노광 장치 및 방법 KR970022574A (ko)

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