JP3219349B2 - 波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用いたデバイスの製造方法 - Google Patents
波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用いたデバイスの製造方法Info
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、距離や角度等の測定を
行なうレーザ干渉測定装置の測定光の波長変動による測
定エラーを補正するための波長コンペンセータやこれを
用いた各種システムに関する。
行なうレーザ干渉測定装置の測定光の波長変動による測
定エラーを補正するための波長コンペンセータやこれを
用いた各種システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ干渉測定装置は半導体製造装置の
ステージ位置決めを始め、様々な分野で広く利用されて
いる。
ステージ位置決めを始め、様々な分野で広く利用されて
いる。
【０００３】レーザ干渉測定装置の測定光が通過する雰
囲気（圧力・温度・湿度）の変動は、測定光の波長変動
を引き起こし、高精度測定に悪影響を及ぼす。よってこ
の波長変動による影響を補正する機構として波長コンペ
ンセータが用いられている。従来の波長コンペンセータ
の一例を図８に示す。図中の符号８００は、図示しない
レーザ干渉装置のレーザ源であるレーザチューブであ
り、ここからのレーザビームが分岐される。８０１はデ
ファレンシャルプレーンミラータイプの干渉計、８０２
は溶融石英製の基準真空チューブ、８０３は基準真空チ
ューブ８０２の両端に設けられた溶融石英製のフラン
ジ、８０４は測定ビーム、８０５は基準ビーム、８０６
は雰囲気中のターゲットミラー、８０７は真空中のター
ゲットミラーである。
囲気（圧力・温度・湿度）の変動は、測定光の波長変動
を引き起こし、高精度測定に悪影響を及ぼす。よってこ
の波長変動による影響を補正する機構として波長コンペ
ンセータが用いられている。従来の波長コンペンセータ
の一例を図８に示す。図中の符号８００は、図示しない
レーザ干渉装置のレーザ源であるレーザチューブであ
り、ここからのレーザビームが分岐される。８０１はデ
ファレンシャルプレーンミラータイプの干渉計、８０２
は溶融石英製の基準真空チューブ、８０３は基準真空チ
ューブ８０２の両端に設けられた溶融石英製のフラン
ジ、８０４は測定ビーム、８０５は基準ビーム、８０６
は雰囲気中のターゲットミラー、８０７は真空中のター
ゲットミラーである。
【０００４】レーザチューブ８００からのレーザビーム
を受けて、干渉計８０１は空間的に離れた測定ビーム８
０４と基準ビーム８０５とに分離生成する。測定ビーム
８０４はフランジ８０３を透過し、雰囲気中を通過して
対向するフランジ８０３に装着された雰囲気中のターゲ
ットミラー８０６に入反射される。ダブルパスなので異
なる光路を２回通って干渉計８０１に戻る。一方、基準
ビーム８０５はフランジ８０３を透過後、基準真空チュ
ーブ８０２の中を通過して、フランジ８０３に装着され
た真空中のターゲットミラー８０７に入反射される。基
準ビーム８０５もバブルパスなので異なる光路を通って
干渉計８０１に戻る。ここで測定ビーム８０４と基準ビ
ーム８０５のそれぞれの光路長が等しくなるように各タ
ーゲットミラー８０６、８０７が配置されており、干渉
計８０１にて測定ビーム８０４と基準ビーム８０５とが
干渉する。この干渉ビームはレーザビームの波長変動に
関する情報を持っている。
を受けて、干渉計８０１は空間的に離れた測定ビーム８
０４と基準ビーム８０５とに分離生成する。測定ビーム
８０４はフランジ８０３を透過し、雰囲気中を通過して
対向するフランジ８０３に装着された雰囲気中のターゲ
ットミラー８０６に入反射される。ダブルパスなので異
なる光路を２回通って干渉計８０１に戻る。一方、基準
ビーム８０５はフランジ８０３を透過後、基準真空チュ
ーブ８０２の中を通過して、フランジ８０３に装着され
た真空中のターゲットミラー８０７に入反射される。基
準ビーム８０５もバブルパスなので異なる光路を通って
干渉計８０１に戻る。ここで測定ビーム８０４と基準ビ
ーム８０５のそれぞれの光路長が等しくなるように各タ
ーゲットミラー８０６、８０７が配置されており、干渉
計８０１にて測定ビーム８０４と基準ビーム８０５とが
干渉する。この干渉ビームはレーザビームの波長変動に
関する情報を持っている。
【０００５】以下に波長補正の動作理論を説明する。
【０００６】図８に示したように、基準真空チューブ８
０２の各フランジ８０３間の間隔をＬとすると、測定ビ
ーム８０４および基準ビーム８０５の光路長は４Ｌとな
る。このとき、基準真空チューブ８０２の外部の雰囲気
の初期の屈折率をｎ0、基準真空チューブ８０２内の屈
折率を１とすると、測定ビーム８０４と基準ビーム８０
５との光路差Ｄ0は、 Ｄ0＝４Ｌ（ｎ0−１） …（１） である。ここで、雰囲気変動により基準真空チューブ８
０２の外部の雰囲気の屈折率がｎ1に変化したとする
と、測定ビーム８０４と基準ビーム８０５との光路差Ｄ
nは、 Ｄn＝４Ｌ（ｎ1−１） …（２） となる。雰囲気変動による光路差の変化Ｄcは、
（１）、（２）式より、 Ｄc＝Ｄn―Ｄ0 ＝４Ｌ（ｎ1−ｎ0） …（３） となる。
０２の各フランジ８０３間の間隔をＬとすると、測定ビ
ーム８０４および基準ビーム８０５の光路長は４Ｌとな
る。このとき、基準真空チューブ８０２の外部の雰囲気
の初期の屈折率をｎ0、基準真空チューブ８０２内の屈
折率を１とすると、測定ビーム８０４と基準ビーム８０
５との光路差Ｄ0は、 Ｄ0＝４Ｌ（ｎ0−１） …（１） である。ここで、雰囲気変動により基準真空チューブ８
０２の外部の雰囲気の屈折率がｎ1に変化したとする
と、測定ビーム８０４と基準ビーム８０５との光路差Ｄ
nは、 Ｄn＝４Ｌ（ｎ1−１） …（２） となる。雰囲気変動による光路差の変化Ｄcは、
（１）、（２）式より、 Ｄc＝Ｄn―Ｄ0 ＝４Ｌ（ｎ1−ｎ0） …（３） となる。
【０００７】一方、波長コンペンセータの測定回路上で
の光路差の変化Ｄe は、 Ｄe ＝Ｎλv ／（２m −１） …（４） である。ただし、Ｎ＝積算カウント、λv＝真空中での
レーザの波長、ｍ＝Ａ／Ｄ変換器のビット数とする。理
論的にはＤc ＝Ｄe なので、（３）、（４）式より、 ｎ1 ＝ｎ0 ＋｛Ｎλv ／４Ｌ（２m −１）｝ …（５） が得られる。さらに、屈折率がｎ1 のときのレーザの波
長をλn1とすると、 λn1＝λv ／ｎ1 …（６） となる。（５）、（６）式より、雰囲気変動による波長
を算出して、これを基にレーザ干渉測定装置の計測値の
補正を行なうことによって測定精度を維持している。
の光路差の変化Ｄe は、 Ｄe ＝Ｎλv ／（２m −１） …（４） である。ただし、Ｎ＝積算カウント、λv＝真空中での
レーザの波長、ｍ＝Ａ／Ｄ変換器のビット数とする。理
論的にはＤc ＝Ｄe なので、（３）、（４）式より、 ｎ1 ＝ｎ0 ＋｛Ｎλv ／４Ｌ（２m −１）｝ …（５） が得られる。さらに、屈折率がｎ1 のときのレーザの波
長をλn1とすると、 λn1＝λv ／ｎ1 …（６） となる。（５）、（６）式より、雰囲気変動による波長
を算出して、これを基にレーザ干渉測定装置の計測値の
補正を行なうことによって測定精度を維持している。
【０００８】
【発明が解決しようとしている課題】上述した従来の波
長コンペンセータでは、溶融石英製の基準真空チューブ
の内部が真空であって屈折率が１に保たれている、とい
う仮定で波長補正を行なっている。
長コンペンセータでは、溶融石英製の基準真空チューブ
の内部が真空であって屈折率が１に保たれている、とい
う仮定で波長補正を行なっている。
【０００９】一方、溶融石英は、窒素や酸素に比べヘリ
ウムに対しては透過係数が７桁以上も大きいことが知ら
れている。例えば「稲葉文男 他、レーザハンドブッ
ク、朝倉書店、Ｐ．１８８、１９７３」に記載されるよ
うに、ヘリウムを密封して構成されるＨｅ−Ｎｅレーザ
においても、レーザの細管部の材料としては初期の頃は
溶融石英が用いられることが多かった。しかし、溶融石
英は管球材料中のヘリウムの透過率が大きいことが欠点
となり、近年では硼珪酸ガラスを用いることが一般的と
なっている。また、ヘリウムガス等の希ガスに対する各
種物質の透過係数は、「F.J.NORTON, "Permeation of G
ases through Solids", J.Appl.Phys., pp.34-39, 195
7」に詳しい。
ウムに対しては透過係数が７桁以上も大きいことが知ら
れている。例えば「稲葉文男 他、レーザハンドブッ
ク、朝倉書店、Ｐ．１８８、１９７３」に記載されるよ
うに、ヘリウムを密封して構成されるＨｅ−Ｎｅレーザ
においても、レーザの細管部の材料としては初期の頃は
溶融石英が用いられることが多かった。しかし、溶融石
英は管球材料中のヘリウムの透過率が大きいことが欠点
となり、近年では硼珪酸ガラスを用いることが一般的と
なっている。また、ヘリウムガス等の希ガスに対する各
種物質の透過係数は、「F.J.NORTON, "Permeation of G
ases through Solids", J.Appl.Phys., pp.34-39, 195
7」に詳しい。
【００１０】上述したように、従来のコンペンセータは
溶融石英製の真空チューブを用いているので、波長コン
ペンセータがヘリウム雰囲気中に置かれた際に、ヘリウ
ムが溶融石英を透過することにより真空チューブ内の真
空度が低下し、チューブ内の屈折率が変化してしまう。
そのため、前述の（１）〜（６）式の値に誤差が生じ、
レーザ干渉測定装置で位置決めする際の位置決め精度が
悪くなるという問題点があった。
溶融石英製の真空チューブを用いているので、波長コン
ペンセータがヘリウム雰囲気中に置かれた際に、ヘリウ
ムが溶融石英を透過することにより真空チューブ内の真
空度が低下し、チューブ内の屈折率が変化してしまう。
そのため、前述の（１）〜（６）式の値に誤差が生じ、
レーザ干渉測定装置で位置決めする際の位置決め精度が
悪くなるという問題点があった。
【００１１】例えば、雰囲気の屈折率がｎ0 からｎ1 に
変化する間に、真空チューブ内の屈折率が、ヘリウムの
漏れにより１から１＋Δｎに変化するため、漏れの有る
ときの測定ビームと基準ビームとの光路差Ｄn(He) は、 Ｄn(He) ＝４Ｌ（ｎ1 −ｌ−Δｎ） …（７） となる。雰囲気変動による光路差の変化Ｄc は、
（１）、（７）式より、 Ｄc(He) ＝Ｄn(He) −Ｄ0 ＝４Ｌ（ｎ1 −Δｎ−ｎ0 ） …（８） となる。
変化する間に、真空チューブ内の屈折率が、ヘリウムの
漏れにより１から１＋Δｎに変化するため、漏れの有る
ときの測定ビームと基準ビームとの光路差Ｄn(He) は、 Ｄn(He) ＝４Ｌ（ｎ1 −ｌ−Δｎ） …（７） となる。雰囲気変動による光路差の変化Ｄc は、
（１）、（７）式より、 Ｄc(He) ＝Ｄn(He) −Ｄ0 ＝４Ｌ（ｎ1 −Δｎ−ｎ0 ） …（８） となる。
【００１２】また、（５）式で与えられるヘリウム雰囲
気中での屈折率ｎ1(He)、およびこのときのレーザの波
長λn1(He)は、それぞれ ｎ1(He) ＝ｎ0 ＋Δｎ＋｛Ｎλv ／４Ｌ（２m −１）｝ …（９） λn1(He)＝λv ／ｎ1(He)≠λv ／ｎ1 …（１０） となり、ヘリウム雰囲気中では、正確な計測値の補正が
困難であった。
気中での屈折率ｎ1(He)、およびこのときのレーザの波
長λn1(He)は、それぞれ ｎ1(He) ＝ｎ0 ＋Δｎ＋｛Ｎλv ／４Ｌ（２m −１）｝ …（９） λn1(He)＝λv ／ｎ1(He)≠λv ／ｎ1 …（１０） となり、ヘリウム雰囲気中では、正確な計測値の補正が
困難であった。
【００１３】本発明は上記課題を解決すべくなされたも
ので、ヘリウム雰囲気中であってもより正確な計測が可
能なレーザ干渉測定装置を実現できる波長コンペンセー
タや、これを利用したステージ装置や露光システム等を
提供することを目的とする。
ので、ヘリウム雰囲気中であってもより正確な計測が可
能なレーザ干渉測定装置を実現できる波長コンペンセー
タや、これを利用したステージ装置や露光システム等を
提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の波長コンペンセータは、両端が密閉され、一端
から入射したレーザビームを他端で反射させて戻す基準
真空チューブと、前記レーザビームを干渉させる干渉手
段と、前記レーザビームの波長変動情報を持った干渉ビ
ームを受光する受光手段とを有する波長コンペンセータ
において、ヘリウム雰囲気中に配置された前記基準真空
チューブの真空劣化を減ずる手段であって該基準真空チ
ューブ内の排気を行う真空排気手段を設けたことを特徴
とする。
本発明の波長コンペンセータは、両端が密閉され、一端
から入射したレーザビームを他端で反射させて戻す基準
真空チューブと、前記レーザビームを干渉させる干渉手
段と、前記レーザビームの波長変動情報を持った干渉ビ
ームを受光する受光手段とを有する波長コンペンセータ
において、ヘリウム雰囲気中に配置された前記基準真空
チューブの真空劣化を減ずる手段であって該基準真空チ
ューブ内の排気を行う真空排気手段を設けたことを特徴
とする。
【００１５】また、前記干渉手段は、レーザビームを、
前記基準真空チューブ内を通過する基準ビームと、前記
基準真空チューブ内を通過しない測定ビームとに分離
し、前記基準ビームと測定ビームとを干渉させるもので
あってもよい。
前記基準真空チューブ内を通過する基準ビームと、前記
基準真空チューブ内を通過しない測定ビームとに分離
し、前記基準ビームと測定ビームとを干渉させるもので
あってもよい。
【００１６】
【００１７】また、前記真空チューブを構成する材質
に、ヘリウムガスの透過係数が溶融石英に比べて小さな
物質を用いたものであってもよく、この場合、前記ヘリ
ウムガスの透過係数が溶融石英に比べて小さな物質は、
ヘリウムガスの透過係数が溶融石英に比べて小さなガラ
スであってもよい。
に、ヘリウムガスの透過係数が溶融石英に比べて小さな
物質を用いたものであってもよく、この場合、前記ヘリ
ウムガスの透過係数が溶融石英に比べて小さな物質は、
ヘリウムガスの透過係数が溶融石英に比べて小さなガラ
スであってもよい。
【００１８】
【００１９】
【００２０】本発明のレーザ干渉測定装置は、レーザビ
ームを用いて物体の相対関係を測定する測定手段と、前
記レーザビームの波長変動に基づく測定誤差を補正する
ための波長コンペンセータとを有するレーザ干渉測定装
置において、前記波長コンペンセータとして、上記本発
明のいずれかの波長コンペンセータを用いたものであ
る。
ームを用いて物体の相対関係を測定する測定手段と、前
記レーザビームの波長変動に基づく測定誤差を補正する
ための波長コンペンセータとを有するレーザ干渉測定装
置において、前記波長コンペンセータとして、上記本発
明のいずれかの波長コンペンセータを用いたものであ
る。
【００２１】本発明のステージ装置は、物体が載置され
る移動可能なステージと、前記ステージの位置情報を計
測するレーザ干渉装置とを有するステージ装置におい
て、前記レーザ干渉装置として上記本発明のレーザ干渉
測定装置を用いたものである。
る移動可能なステージと、前記ステージの位置情報を計
測するレーザ干渉装置とを有するステージ装置におい
て、前記レーザ干渉装置として上記本発明のレーザ干渉
測定装置を用いたものである。
【００２２】本発明の露光システムは、被露光基板が載
置されるステージ装置と、前記被露光基板に露光を行な
う露光装置とを有する露光システムにおいて、前記ステ
ージ装置として上記本発明のステージ装置を用いたもの
である。
置されるステージ装置と、前記被露光基板に露光を行な
う露光装置とを有する露光システムにおいて、前記ステ
ージ装置として上記本発明のステージ装置を用いたもの
である。
【００２３】そして本発明のデバイスの製造方法は、マ
スクとウエハとを用い、フォトリソグラフィ技術によっ
て前記ウエハ上に回路を形成する工程を有するデバイス
の製造方法において、前記回路を形成する工程が、上記
本発明の露光システムを用いて前記マスクの回路パター
ンを前記ウエハに焼付露光する工程を含むことを特徴と
する。
スクとウエハとを用い、フォトリソグラフィ技術によっ
て前記ウエハ上に回路を形成する工程を有するデバイス
の製造方法において、前記回路を形成する工程が、上記
本発明の露光システムを用いて前記マスクの回路パター
ンを前記ウエハに焼付露光する工程を含むことを特徴と
する。
【００２４】
【作用】上記のとおり構成された本発明の波長コンペン
セータでは、基準真空チューブ内を通過したレーザビー
ム（基準ビーム）と基準真空チューブ内を通過しないレ
ーザビーム（測定ビーム）とは、干渉手段により干渉さ
れ、受光手段で受光される。干渉手段で干渉された干渉
ビームは、雰囲気変動による波長変動情報を持ってお
り、この情報に基づき、レーザ干渉測定装置の測定値の
補正が行われる。波長コンペンセータには、ヘリウム雰
囲気中に配置された基準真空チューブの真空劣化を減ず
る手段が設けられているので、ヘリウム雰囲気中におい
ても基準真空チューブ内の真空が保たれる。その結果、
雰囲気変動によるレーザビームの波長変動の補正が理論
式どおりに行われる。
セータでは、基準真空チューブ内を通過したレーザビー
ム（基準ビーム）と基準真空チューブ内を通過しないレ
ーザビーム（測定ビーム）とは、干渉手段により干渉さ
れ、受光手段で受光される。干渉手段で干渉された干渉
ビームは、雰囲気変動による波長変動情報を持ってお
り、この情報に基づき、レーザ干渉測定装置の測定値の
補正が行われる。波長コンペンセータには、ヘリウム雰
囲気中に配置された基準真空チューブの真空劣化を減ず
る手段が設けられているので、ヘリウム雰囲気中におい
ても基準真空チューブ内の真空が保たれる。その結果、
雰囲気変動によるレーザビームの波長変動の補正が理論
式どおりに行われる。
【００２５】真空劣化を減ずる手段は真空排気手段であ
り、基準真空チューブ内を強制的に排気することによっ
て基準真空チューブ内の真空が保たれる。
り、基準真空チューブ内を強制的に排気することによっ
て基準真空チューブ内の真空が保たれる。
【００２６】また、本発明のレーザ干渉測定装置では、
上記本発明の波長コンペンセータを用いているので、雰
囲気変動に影響されずに正確な計測が可能となる。
上記本発明の波長コンペンセータを用いているので、雰
囲気変動に影響されずに正確な計測が可能となる。
【００２７】本発明のステージ装置では、上記本発明の
レーザ干渉測定装置によりステージの位置情報が計測さ
れるので、より高精度なステージの位置決めが可能とな
る。
レーザ干渉測定装置によりステージの位置情報が計測さ
れるので、より高精度なステージの位置決めが可能とな
る。
【００２８】さらに、本発明の露光システムは、被露光
基板が載置されるステージ装置に上記本発明のステージ
装置を用いているので、より高精度な被露光基板の位置
決めが可能となり、この露光システムを用いて製造され
たデバイスは、より高集積度のものとなる。
基板が載置されるステージ装置に上記本発明のステージ
装置を用いているので、より高精度な被露光基板の位置
決めが可能となり、この露光システムを用いて製造され
たデバイスは、より高集積度のものとなる。
【００２９】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００３０】（第１実施例）図１は実施例の波長コンペ
ンセータの第１実施例の構成図である。
ンセータの第１実施例の構成図である。
【００３１】図１に示すように、本実施例の波長コンペ
ンセータ１０のユニットは、レーザチューブ１１から生
成された、偏光状態の異なる２つの周波数成分を持つレ
ーザビーム１２を光学的に２つに分離する一方、両者を
干渉させる干渉手段としての偏光シアプレート１０１
と、干渉計１０２と、干渉計１０２から出射されたＰ偏
光成分のビームを円偏光成分に変換するλ／４板１０３
と、ビーム引き回し用の２つのベンダーミラー１０４
と、両端がそれぞれ溶融石英製のフランジ１０５ａ、１
０５ｂによって密閉された溶融石英製の基準真空チュー
ブ１０６と、偏光シアプレート１０１と干渉計１０２と
の間に配置され、偏光シアプレート１０１から出射され
たＳ偏光成分のビームをＰ偏光成分に変換して干渉計１
０２へ出射し、あるいは干渉計１０２から出射されたＰ
偏光成分のビームをＳ偏光成分に変換して偏光シアプレ
ート１０１へ出射するλ／２板１０９と、偏光シアプレ
ート１０１から出射した干渉ビーム１８を電気信号に変
換して信号処理系１００に出力する受光手段としてのレ
シーバ２１とを含む。
ンセータ１０のユニットは、レーザチューブ１１から生
成された、偏光状態の異なる２つの周波数成分を持つレ
ーザビーム１２を光学的に２つに分離する一方、両者を
干渉させる干渉手段としての偏光シアプレート１０１
と、干渉計１０２と、干渉計１０２から出射されたＰ偏
光成分のビームを円偏光成分に変換するλ／４板１０３
と、ビーム引き回し用の２つのベンダーミラー１０４
と、両端がそれぞれ溶融石英製のフランジ１０５ａ、１
０５ｂによって密閉された溶融石英製の基準真空チュー
ブ１０６と、偏光シアプレート１０１と干渉計１０２と
の間に配置され、偏光シアプレート１０１から出射され
たＳ偏光成分のビームをＰ偏光成分に変換して干渉計１
０２へ出射し、あるいは干渉計１０２から出射されたＰ
偏光成分のビームをＳ偏光成分に変換して偏光シアプレ
ート１０１へ出射するλ／２板１０９と、偏光シアプレ
ート１０１から出射した干渉ビーム１８を電気信号に変
換して信号処理系１００に出力する受光手段としてのレ
シーバ２１とを含む。
【００３２】基準真空チューブ１０６の各フランジ１０
５ａ、１０５ｂのうち一方のフランジ１０５ａには、従
来と同様に雰囲気中に配置されたターゲットミラー１０
７と、真空中に配置されたターゲットミラー１０８とが
取り付けられている。また、基準真空チューブ１０６の
内部は真空ポンプ１１０によって排気され、真空状態が
保持されている。上述した構成のうち、各ビームの光路
上で偏光シアプレート１０１からベンダーミラー１０４
までの構成で、補正用干渉計が構成されている。
５ａ、１０５ｂのうち一方のフランジ１０５ａには、従
来と同様に雰囲気中に配置されたターゲットミラー１０
７と、真空中に配置されたターゲットミラー１０８とが
取り付けられている。また、基準真空チューブ１０６の
内部は真空ポンプ１１０によって排気され、真空状態が
保持されている。上述した構成のうち、各ビームの光路
上で偏光シアプレート１０１からベンダーミラー１０４
までの構成で、補正用干渉計が構成されている。
【００３３】上記構成に基づき、レーザチューブ１１で
生成された、直交偏光された２つの異なる周波数成分
（ｆ1、ｆ2）を持つレーザビーム１２の各成分は、偏光
シアプレート１０１により光学的に分離され、それぞれ
光路長は同一で、かつ異なる２つの光路を通り、再び偏
光シアプレート１０１上で合成されて干渉ビーム１８を
生成し、レシーバ２１に入射する。
生成された、直交偏光された２つの異なる周波数成分
（ｆ1、ｆ2）を持つレーザビーム１２の各成分は、偏光
シアプレート１０１により光学的に分離され、それぞれ
光路長は同一で、かつ異なる２つの光路を通り、再び偏
光シアプレート１０１上で合成されて干渉ビーム１８を
生成し、レシーバ２１に入射する。
【００３４】ここで上記２つの光路のうち、まず周波数
ｆ1成分が辿る光路を説明する。偏光シアプレート１０
１で分離されたＰ偏向のｆ1成分は、干渉計１０２を透
過後、λ／４板１０３を通過して円偏光に変換され、２
つのベンダーミラー１０４によって折返されて、基準真
空チューブ１０６のフランジ１０５ｂを透過して、雰囲
気中のターゲットミラー１０７により反射される。戻り
光は干渉計に１０２に戻り、干渉計１０２内のコーナー
キューブにより反射され、今度は別の光路でターゲット
ミラ１０７に当たり、再び干渉計１０２に戻る。干渉計
１０２を出射後は、λ／２板１０９を通過してＳ偏光に
変換され、偏光シアプレート１０１に入射する。
ｆ1成分が辿る光路を説明する。偏光シアプレート１０
１で分離されたＰ偏向のｆ1成分は、干渉計１０２を透
過後、λ／４板１０３を通過して円偏光に変換され、２
つのベンダーミラー１０４によって折返されて、基準真
空チューブ１０６のフランジ１０５ｂを透過して、雰囲
気中のターゲットミラー１０７により反射される。戻り
光は干渉計に１０２に戻り、干渉計１０２内のコーナー
キューブにより反射され、今度は別の光路でターゲット
ミラ１０７に当たり、再び干渉計１０２に戻る。干渉計
１０２を出射後は、λ／２板１０９を通過してＳ偏光に
変換され、偏光シアプレート１０１に入射する。
【００３５】周波数ｆ2成分（Ｓ偏光）も、ｆ1成分と同
様にしてダブルパスの光路で入反射されるが、ｆ1成分
との違いは、基準真空チューブ１０６の内部を通過し
て、真空内のターゲットミラー１０８に入反射すること
である。
様にしてダブルパスの光路で入反射されるが、ｆ1成分
との違いは、基準真空チューブ１０６の内部を通過し
て、真空内のターゲットミラー１０８に入反射すること
である。
【００３６】そして、偏光シアプレート１０１に入射し
た各戻り光は、偏光シアプレート１０１上で結合されて
干渉ビーム１８となり、レシーバ２１に入射する。
た各戻り光は、偏光シアプレート１０１上で結合されて
干渉ビーム１８となり、レシーバ２１に入射する。
【００３７】ここで基準真空チューブ１０６内の真空雰
囲気は、真空ポンプ１１０により少なくとも使用時は常
時排気され、常に屈折率が１に保たれているのが本実施
例の特徴である。すなわち、真空ポンプ１１０を含む真
空排気手段が、基準真空チューブ１０６の真空劣化を減
ずる手段となっており、高精度な波長コンペンセータを
達成している。
囲気は、真空ポンプ１１０により少なくとも使用時は常
時排気され、常に屈折率が１に保たれているのが本実施
例の特徴である。すなわち、真空ポンプ１１０を含む真
空排気手段が、基準真空チューブ１０６の真空劣化を減
ずる手段となっており、高精度な波長コンペンセータを
達成している。
【００３８】干渉ビーム１８の周波数（ビート周波数）
は、レーザの２つの周波数の差分（｜ｆ1−ｆ2｜）にな
る。ここで波長コンペンセータ付近の雰囲気の圧力・温
度・湿度などに揺らぎがあると、周波数ｆ1はドップラ
効果（ｆ1±Δｆ1）により、Δｆ1のドップラ偏移が発
生する。よって干渉ビーム１８の周波数は｛ｆ2−（ｆ1
±Δｆ1）｝となる。この偏移はレシーバ２１内のフォ
トディテクタにより検知されて電気信号に変換され、測
定信号として信号処理系１００に出力される。
は、レーザの２つの周波数の差分（｜ｆ1−ｆ2｜）にな
る。ここで波長コンペンセータ付近の雰囲気の圧力・温
度・湿度などに揺らぎがあると、周波数ｆ1はドップラ
効果（ｆ1±Δｆ1）により、Δｆ1のドップラ偏移が発
生する。よって干渉ビーム１８の周波数は｛ｆ2−（ｆ1
±Δｆ1）｝となる。この偏移はレシーバ２１内のフォ
トディテクタにより検知されて電気信号に変換され、測
定信号として信号処理系１００に出力される。
【００３９】一方、レーザチューブ１１に内蔵された周
波数偏移器からは、安定した周波数の基準信号が出力さ
れており、信号処理系１００ではこの基準信号と上記測
定信号との位相差をＡ／Ｄコンバータでサンプリング
し、アキュムレータに加算する。この加算値が先の
（４）式の積算カウントＮとなり、先の（５）、（６）
式から雰囲気変動による波長を算出する。このとき、上
述したように基準真空チューブ１０６の内部は真空ポン
プ１１０により真空状態が保持されるので、基準真空チ
ューブ１０６および各フランジ１０５ａ、１０５ｂを溶
融石英で構成しても使用雰囲気によらずに屈折率が１に
保たれている。その結果、先の理論式どおりに雰囲気変
動による波長を算出でき、これを基にレーザ干渉測定装
置の計測値の補正を正確に行なうことができる。
波数偏移器からは、安定した周波数の基準信号が出力さ
れており、信号処理系１００ではこの基準信号と上記測
定信号との位相差をＡ／Ｄコンバータでサンプリング
し、アキュムレータに加算する。この加算値が先の
（４）式の積算カウントＮとなり、先の（５）、（６）
式から雰囲気変動による波長を算出する。このとき、上
述したように基準真空チューブ１０６の内部は真空ポン
プ１１０により真空状態が保持されるので、基準真空チ
ューブ１０６および各フランジ１０５ａ、１０５ｂを溶
融石英で構成しても使用雰囲気によらずに屈折率が１に
保たれている。その結果、先の理論式どおりに雰囲気変
動による波長を算出でき、これを基にレーザ干渉測定装
置の計測値の補正を正確に行なうことができる。
【００４０】次に、上述した波長コンペンセータを用い
た露光システムについて図２を参照して説明する。この
露光システムは、物体として被露光基板が載置されるス
テージの位置が移動可能に設けられ、その位置情報をレ
ーザ干渉測定装置によって計測しつつ位置決め制御する
ステージ装置と、被露光基板に露光を行なう露光装置と
を有するものであるが、図２においては露光装置は省略
している。レーザ干渉測定装置は、レーザビームを用い
てステージの相対位置を測定する測定手段と、レーザビ
ームの波長変動による測定誤差を補正するための波長コ
ンペンセータとを有するもので、この波長コンペンセー
タとして、図１に示したものが用いられている。なお、
この露光システムには、後述する他の実施例の波長コン
ペンセータのいずれかを用いることもできる。
た露光システムについて図２を参照して説明する。この
露光システムは、物体として被露光基板が載置されるス
テージの位置が移動可能に設けられ、その位置情報をレ
ーザ干渉測定装置によって計測しつつ位置決め制御する
ステージ装置と、被露光基板に露光を行なう露光装置と
を有するものであるが、図２においては露光装置は省略
している。レーザ干渉測定装置は、レーザビームを用い
てステージの相対位置を測定する測定手段と、レーザビ
ームの波長変動による測定誤差を補正するための波長コ
ンペンセータとを有するもので、この波長コンペンセー
タとして、図１に示したものが用いられている。なお、
この露光システムには、後述する他の実施例の波長コン
ペンセータのいずれかを用いることもできる。
【００４１】図２は、本発明の露光システムの構成図で
ある。図２に示すように、Ｈｅチャンバ７内にはステー
ジ定盤６が設けられている。このステージ定盤６には、
Ｘステージガイド４に案内されてｘ方向に移動可能に設
けられたＸステージ３、およびＹステージガイド２に案
内されてｙ方向に移動可能に設けられたＹステージ１を
介して、被露光基板としてのウエハ（不図示）を把持す
るためのウエハチャック３２が支持されている。Ｙステ
ージ１には、各ステージ１、３の位置決め用のＬ型スコ
ヤーミラー５が固定されており、このＬ型スコヤーミラ
ー５までの、ｙ方向の距離を測定するためのＹ軸測距用
プレーンミラー干渉計８、およびｘ方向の距離を測定す
るためのＸ軸測距用プレーンミラー干渉計９が、それぞ
れＨｅチャンバ７内に設けられている。
ある。図２に示すように、Ｈｅチャンバ７内にはステー
ジ定盤６が設けられている。このステージ定盤６には、
Ｘステージガイド４に案内されてｘ方向に移動可能に設
けられたＸステージ３、およびＹステージガイド２に案
内されてｙ方向に移動可能に設けられたＹステージ１を
介して、被露光基板としてのウエハ（不図示）を把持す
るためのウエハチャック３２が支持されている。Ｙステ
ージ１には、各ステージ１、３の位置決め用のＬ型スコ
ヤーミラー５が固定されており、このＬ型スコヤーミラ
ー５までの、ｙ方向の距離を測定するためのＹ軸測距用
プレーンミラー干渉計８、およびｘ方向の距離を測定す
るためのＸ軸測距用プレーンミラー干渉計９が、それぞ
れＨｅチャンバ７内に設けられている。
【００４２】Ｙ軸測距用プレーンミラー干渉計８および
Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計９へは、Ｈｅチャンバ
７の外部に設けられたレーザチューブ１１から出射さ
れ、Ｈｅチャンバ７の壁に設けられたガラス窓１５を通
過してＨｅチャンバ７内に導入された２つの周波数成分
を持つレーザビーム１２が、ビームスプリッタ１３で２
つに分離された後、それぞれベンダーミラー１４で反射
されて入射される。レーザチューブ１１へは、Ｘステー
ジ３およびＹステージ１の位置決め制御用のホストコン
ピュータ２４からの指令で信号処理回路２２から出力さ
れる電気的な基準信号が入力され、レーザチューブ１１
はその基準信号に基づきレーザビーム１２を出射する。
Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計９へは、Ｈｅチャンバ
７の外部に設けられたレーザチューブ１１から出射さ
れ、Ｈｅチャンバ７の壁に設けられたガラス窓１５を通
過してＨｅチャンバ７内に導入された２つの周波数成分
を持つレーザビーム１２が、ビームスプリッタ１３で２
つに分離された後、それぞれベンダーミラー１４で反射
されて入射される。レーザチューブ１１へは、Ｘステー
ジ３およびＹステージ１の位置決め制御用のホストコン
ピュータ２４からの指令で信号処理回路２２から出力さ
れる電気的な基準信号が入力され、レーザチューブ１１
はその基準信号に基づきレーザビーム１２を出射する。
【００４３】また、Ｙ軸測距用プレーンミラー干渉計８
からの干渉ビーム１６は、ベンダーミラー１４で反射さ
れた後、ガラス窓１５を通過してレシーバ１９に入射さ
れる。Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計９からの干渉ビ
ーム１７も同様に、ガラス窓１５を通過してレシーバ２
０に入射される。これら２つのレシーバ１９、２０は、
それぞれ入射された干渉ビーム１６、１７を電気的な測
定信号に変換するものであり、これら測定信号が、信号
処理回路２２に入力される。サーボ制御回路２３は、信
号処理回路２２からの指令に基づき、Ｘステージ３やＹ
ステージ１を駆動するステージアクチュエータ（不図
示）にパルス信号を出力するものである。
からの干渉ビーム１６は、ベンダーミラー１４で反射さ
れた後、ガラス窓１５を通過してレシーバ１９に入射さ
れる。Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計９からの干渉ビ
ーム１７も同様に、ガラス窓１５を通過してレシーバ２
０に入射される。これら２つのレシーバ１９、２０は、
それぞれ入射された干渉ビーム１６、１７を電気的な測
定信号に変換するものであり、これら測定信号が、信号
処理回路２２に入力される。サーボ制御回路２３は、信
号処理回路２２からの指令に基づき、Ｘステージ３やＹ
ステージ１を駆動するステージアクチュエータ（不図
示）にパルス信号を出力するものである。
【００４４】そして、Ｈｅチャンバ７内の雰囲気変動に
よるＸ軸測距用プレーンミラー干渉計８およびＹ軸測距
用プレーンミラー干渉計９の測定光の波長変動を補正す
るために、Ｈｅチャンバ７内には、図１に示した構成の
波長コンペンセータ１０が配置されている。波長コンペ
ンセータ１０へは、レーザチューブ１１からのレーザビ
ーム１２がビームスプリッタ１３で反射されて入射され
る。波長コンペンセータ１０からの干渉ビーム１８は、
ガラス窓１５を通過してレシーバ２１に入射され、ここ
で電気的な測定信号に変換されて信号処理回路２２に入
力される。
よるＸ軸測距用プレーンミラー干渉計８およびＹ軸測距
用プレーンミラー干渉計９の測定光の波長変動を補正す
るために、Ｈｅチャンバ７内には、図１に示した構成の
波長コンペンセータ１０が配置されている。波長コンペ
ンセータ１０へは、レーザチューブ１１からのレーザビ
ーム１２がビームスプリッタ１３で反射されて入射され
る。波長コンペンセータ１０からの干渉ビーム１８は、
ガラス窓１５を通過してレシーバ２１に入射され、ここ
で電気的な測定信号に変換されて信号処理回路２２に入
力される。
【００４５】また、波長コンペンセータ１０の基準真空
チューブ１０６（図１参照）を排気するための排気ポン
プ１１０はＨｅチャンバ７の外部に設けられている。排
気ポンプ１１０は、基準真空チューブ１０６の排気の他
に、Ｈｅチャンバ７内のＨｅガスをコントロールするた
め、あるいはチャンババックグラウンド純度を上げるた
めにＨｅチャンバ７の排気も行なえる機能を有してお
り、基準真空チューブ１０６の排気とＨｅチャンバ７の
排気を切り替えるための切り替え弁１１１が設けられて
いる。
チューブ１０６（図１参照）を排気するための排気ポン
プ１１０はＨｅチャンバ７の外部に設けられている。排
気ポンプ１１０は、基準真空チューブ１０６の排気の他
に、Ｈｅチャンバ７内のＨｅガスをコントロールするた
め、あるいはチャンババックグラウンド純度を上げるた
めにＨｅチャンバ７の排気も行なえる機能を有してお
り、基準真空チューブ１０６の排気とＨｅチャンバ７の
排気を切り替えるための切り替え弁１１１が設けられて
いる。
【００４６】以上の説明から明らかなように、レーザビ
ームを用いてステージの相対位置を測定する測定手段
は、レーザチューブ１１と、Ｙ軸測距用プレーンミラー
干渉計８と、Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計９と、Ｌ
型スコヤーミラー５とを有する構成であり、これらと波
長コンペンセータ１０とを組み合せてレーザ干渉測定装
置が構成されている。さらに、このレーザ干渉測定装置
にＸステージ３およびＹステージ１を加えて、ステージ
装置が構成される。
ームを用いてステージの相対位置を測定する測定手段
は、レーザチューブ１１と、Ｙ軸測距用プレーンミラー
干渉計８と、Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計９と、Ｌ
型スコヤーミラー５とを有する構成であり、これらと波
長コンペンセータ１０とを組み合せてレーザ干渉測定装
置が構成されている。さらに、このレーザ干渉測定装置
にＸステージ３およびＹステージ１を加えて、ステージ
装置が構成される。
【００４７】本露光システムでは、ウエハチャック３２
に把持されているウエハ上に、図面の手前側からパター
ンを露光転写する。露光転写の方式としては、Ｘ線や紫
外線を用いてマスクパターンをウエハ上に焼き付ける方
式や、電子線を偏向してウエハ上にパターンを直接描画
する方式などがある。半導体デバイスはパターン転写を
何層も繰り返して製造されるため、ウエハとマスクとの
位置決め、あるいはウエハと露光ビームとの位置決め、
すなわちＸステージ３およびＹステージ１の位置決め
は、極めて高い精度が要求される。
に把持されているウエハ上に、図面の手前側からパター
ンを露光転写する。露光転写の方式としては、Ｘ線や紫
外線を用いてマスクパターンをウエハ上に焼き付ける方
式や、電子線を偏向してウエハ上にパターンを直接描画
する方式などがある。半導体デバイスはパターン転写を
何層も繰り返して製造されるため、ウエハとマスクとの
位置決め、あるいはウエハと露光ビームとの位置決め、
すなわちＸステージ３およびＹステージ１の位置決め
は、極めて高い精度が要求される。
【００４８】例えば、Ｘステージ３の任意位置への高精
度位置決めは、ホストコンピュータ２４より目標値を信
号処理回路２２に対して指令すると、信号処理回路２２
内で目標値と現在のステージ位置との偏差を演算し、サ
ーボ制御回路２３へ偏差信号として出力する。サーボ制
御回路２３はＸステージ３を駆動するためのステージア
クチュエータに所定パルスを出力してＸステージ３を移
動させる。
度位置決めは、ホストコンピュータ２４より目標値を信
号処理回路２２に対して指令すると、信号処理回路２２
内で目標値と現在のステージ位置との偏差を演算し、サ
ーボ制御回路２３へ偏差信号として出力する。サーボ制
御回路２３はＸステージ３を駆動するためのステージア
クチュエータに所定パルスを出力してＸステージ３を移
動させる。
【００４９】Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計９の干渉
ビーム１７は、図１でも説明したように周波数ｆ1のド
ップラ現象により、Ｌ型スコヤーミラー５の運動方向に
応じてΔｆ1分の増減を示し、レシーバ２０で電気的な
測定信号に変換される。レーザチューブ１１からの基準
信号とレシーバ２０からの測定信号との位相差を、信号
処理回路２２内の位相検出器で演算し、同じく信号処理
回路２２内のアキュムレータで位相差を積算し、Ｘステ
ージ３の移動量が算出され、目標値との偏差が０（ゼ
ロ）になるように常にフィードバックがかかっている。
この際、Ｘステージ３の現在位置から目標値までの移動
の間、常時あるいは必要間隔毎に、波長コンペンセータ
１０によってレーザの波長変動を計測してこれを基にＸ
軸測距用プレーンミラー干渉計９の測定値の補正（Ｘス
テージ３の駆動指令値の補正）を行なっている。
ビーム１７は、図１でも説明したように周波数ｆ1のド
ップラ現象により、Ｌ型スコヤーミラー５の運動方向に
応じてΔｆ1分の増減を示し、レシーバ２０で電気的な
測定信号に変換される。レーザチューブ１１からの基準
信号とレシーバ２０からの測定信号との位相差を、信号
処理回路２２内の位相検出器で演算し、同じく信号処理
回路２２内のアキュムレータで位相差を積算し、Ｘステ
ージ３の移動量が算出され、目標値との偏差が０（ゼ
ロ）になるように常にフィードバックがかかっている。
この際、Ｘステージ３の現在位置から目標値までの移動
の間、常時あるいは必要間隔毎に、波長コンペンセータ
１０によってレーザの波長変動を計測してこれを基にＸ
軸測距用プレーンミラー干渉計９の測定値の補正（Ｘス
テージ３の駆動指令値の補正）を行なっている。
【００５０】例えば、雰囲気波長がλn1のときにＸステ
ージ３の移動量Ｌを達成するための指令値は、Ｌ・λv
／λn1である。また、雰囲気変動により波長がλn2に変
化した場合、指令値はＬ・λv ／λn2としてＸステージ
３の移動量Ｌを達成する。
ージ３の移動量Ｌを達成するための指令値は、Ｌ・λv
／λn1である。また、雰囲気変動により波長がλn2に変
化した場合、指令値はＬ・λv ／λn2としてＸステージ
３の移動量Ｌを達成する。
【００５１】以上、Ｘステージ３の位置決めについて述
べたが、Ｙステージ１の位置決めについても同様であ
る。
べたが、Ｙステージ１の位置決めについても同様であ
る。
【００５２】露光エネルギとして、例えば数〜数十オン
グストロームの軟Ｘ線を使用する場合、Ｘ線の減衰を少
なくするためと線幅均一性の向上のために、露光雰囲気
を高純度のＨｅ雰囲気に保つ必要がある。そのためにＨ
ｅチャンバ７は上述した真空ポンプ１１０を備え、本実
施例では、この真空ポンプ１１０を利用して、切替弁１
１１により波長コンペンセータ１０の基準真空チューブ
１０６も排気できるように構成している。
グストロームの軟Ｘ線を使用する場合、Ｘ線の減衰を少
なくするためと線幅均一性の向上のために、露光雰囲気
を高純度のＨｅ雰囲気に保つ必要がある。そのためにＨ
ｅチャンバ７は上述した真空ポンプ１１０を備え、本実
施例では、この真空ポンプ１１０を利用して、切替弁１
１１により波長コンペンセータ１０の基準真空チューブ
１０６も排気できるように構成している。
【００５３】以上説明したように、測定光の波長変動を
補正する手段として本発明の波長コンペンセータを用い
ることにより、使用雰囲気に影響されずにステージ位置
をより正確に測定可能なレーザ干渉測定装置が実現され
る。また、このようなレーザ干渉測定装置を用いたステ
ージ装置は、ステージの高精度な位置決めを達成するも
のである。さらに、このステージ装置を用いた露光シス
テムは、ウエハの位置あわせ精度が高いものとなり、こ
れによって製造されたデバイスは、より高集積度のもの
とすることができる。
補正する手段として本発明の波長コンペンセータを用い
ることにより、使用雰囲気に影響されずにステージ位置
をより正確に測定可能なレーザ干渉測定装置が実現され
る。また、このようなレーザ干渉測定装置を用いたステ
ージ装置は、ステージの高精度な位置決めを達成するも
のである。さらに、このステージ装置を用いた露光シス
テムは、ウエハの位置あわせ精度が高いものとなり、こ
れによって製造されたデバイスは、より高集積度のもの
とすることができる。
【００５４】（第２実施例）上記実施例では、波長コン
ペンセータの基準真空チューブを溶融石英製としたが、
本実施例ではこれをヘリウムガスの透過係数が溶融石英
よりも小さな物質、具体的にはガラスで構成した点が、
第１実施例と異なる。その他の構成および動作は第１実
施例と同様であるので、その説明は省略する。
ペンセータの基準真空チューブを溶融石英製としたが、
本実施例ではこれをヘリウムガスの透過係数が溶融石英
よりも小さな物質、具体的にはガラスで構成した点が、
第１実施例と異なる。その他の構成および動作は第１実
施例と同様であるので、その説明は省略する。
【００５５】本実施例では、基準真空チューブをヘリウ
ムの透過係数が溶融石英に比べて小さなガラス、ヘリウ
ムの透過係数Ｋで説明すると、絶対温度をＴとしたと
き、 Ｋ＝０．０７５{-1.1(1000/T)-7.25}（cc・mm／sec・cm
2・Pa） よりも小さな透過係数を持つガラス、より好ましくは、
これよりさらに１桁以上小さな透過係数を持つガラス等
で構成している。
ムの透過係数が溶融石英に比べて小さなガラス、ヘリウ
ムの透過係数Ｋで説明すると、絶対温度をＴとしたと
き、 Ｋ＝０．０７５{-1.1(1000/T)-7.25}（cc・mm／sec・cm
2・Pa） よりも小さな透過係数を持つガラス、より好ましくは、
これよりさらに１桁以上小さな透過係数を持つガラス等
で構成している。
【００５６】こうすることで、基準真空チューブ内への
ヘリウムの漏れが少なくなるので、その屈折率ｎ＝１．
０が良好に保たれ、前述した（４）式を用いた動作理論
通りに、積算カウントＮから正確に波長コンペンセータ
の周囲の雰囲気の屈折率変動を計測することが可能とな
る。すなわち、基準真空チューブをヘリウムの透過係数
が溶融石英に比べて小さなガラスで構成したことが、基
準真空チューブの真空劣化を減ずる手段となっており、
これにより高精度な波長コンペンセータを達成してい
る。
ヘリウムの漏れが少なくなるので、その屈折率ｎ＝１．
０が良好に保たれ、前述した（４）式を用いた動作理論
通りに、積算カウントＮから正確に波長コンペンセータ
の周囲の雰囲気の屈折率変動を計測することが可能とな
る。すなわち、基準真空チューブをヘリウムの透過係数
が溶融石英に比べて小さなガラスで構成したことが、基
準真空チューブの真空劣化を減ずる手段となっており、
これにより高精度な波長コンペンセータを達成してい
る。
【００５７】真空チューブのガラス材として好ましい材
質を例示すると、パイレックス（登録商標）、硼珪酸ガ
ラス、リン酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、珪酸アルミナ
ガラス、Ｘ線シールドガラス、硼酸鉛ガラスなどがあ
る。また、これらのガラスはヘリウムより原子番号の大
きいガスに対する透過特性が優れているので、水素を除
くいかなる雰囲気であっても、同様の効果が期待でき
る。
質を例示すると、パイレックス（登録商標）、硼珪酸ガ
ラス、リン酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、珪酸アルミナ
ガラス、Ｘ線シールドガラス、硼酸鉛ガラスなどがあ
る。また、これらのガラスはヘリウムより原子番号の大
きいガスに対する透過特性が優れているので、水素を除
くいかなる雰囲気であっても、同様の効果が期待でき
る。
【００５８】なお、本実施例の場合、第１実施例で示し
たような真空排気手段は必ずしも必要はないが、あれば
より高い精度で真空状態を保つことができる。
たような真空排気手段は必ずしも必要はないが、あれば
より高い精度で真空状態を保つことができる。
【００５９】以下に、本発明の参考例について説明す
る。 （第１参考例） 図３は、本発明の波長コンペンセータの第１参考例の構
成図である。図３には、基準真空チューブ２０６と補正
用干渉計２０１が示されているが、補正用干渉計２０１
を含むその他の構成については第１実施例と同様である
のでその詳細な説明は省略する。
る。 （第１参考例） 図３は、本発明の波長コンペンセータの第１参考例の構
成図である。図３には、基準真空チューブ２０６と補正
用干渉計２０１が示されているが、補正用干渉計２０１
を含むその他の構成については第１実施例と同様である
のでその詳細な説明は省略する。
【００６０】本参考例では、基準真空チューブ２０６を
ヘリウムの透過係数が溶融石英に比べて小さな金属で構
成するとともに、基準真空チューブ２０６のフランジ２
０５ａ、２０５ｂのうち、測定ビーム２１４および基準
ビーム２１５が入出射する部位に、それぞれレーザビー
ムを透過可能な部材からなるレーザ光透過用ウィンドウ
２１０を設けている。金属は、ヘリウム等の希ガスの透
過係数が溶融石英に比べて小さいので、基準真空チュー
ブ２０６の主要部を金属で構成することにより、基準真
空チューブ２０６内の真空が良好に保たれる波長コンペ
ンセータを構成することが可能である。すなわち、基準
真空チューブ２０６の主要部をヘリウムの透過係数が溶
融石英に比べて小さな金属で構成したことが、基準真空
チューブ２０６の真空劣化を減ずる手段となっており、
これにより高精度な波長コンペンセータを達成してい
る。
ヘリウムの透過係数が溶融石英に比べて小さな金属で構
成するとともに、基準真空チューブ２０６のフランジ２
０５ａ、２０５ｂのうち、測定ビーム２１４および基準
ビーム２１５が入出射する部位に、それぞれレーザビー
ムを透過可能な部材からなるレーザ光透過用ウィンドウ
２１０を設けている。金属は、ヘリウム等の希ガスの透
過係数が溶融石英に比べて小さいので、基準真空チュー
ブ２０６の主要部を金属で構成することにより、基準真
空チューブ２０６内の真空が良好に保たれる波長コンペ
ンセータを構成することが可能である。すなわち、基準
真空チューブ２０６の主要部をヘリウムの透過係数が溶
融石英に比べて小さな金属で構成したことが、基準真空
チューブ２０６の真空劣化を減ずる手段となっており、
これにより高精度な波長コンペンセータを達成してい
る。
【００６１】基準真空チューブ２０６を構成する金属と
しては、一般に真空チャンバに用いられている放出ガス
量の少ない、表面処理したステンレス鋼やアルミニウム
等が好ましい。また、レーザ光透過用ウィンドウ２１０
は、ヘリウムの透過率が低く、かつ可視光の透過率の高
いガラス等で構成するのが好ましい。
しては、一般に真空チャンバに用いられている放出ガス
量の少ない、表面処理したステンレス鋼やアルミニウム
等が好ましい。また、レーザ光透過用ウィンドウ２１０
は、ヘリウムの透過率が低く、かつ可視光の透過率の高
いガラス等で構成するのが好ましい。
【００６２】（第２参考例） 図４は、本発明の波長コンペンセータの第２参考例の構
成図である。図４には、基準真空チューブ３０６と補正
用干渉計３０１が示されているが、補正用干渉計３０１
を含むその他の構成については第１実施例と同様である
のでその詳細な説明は省略する。
成図である。図４には、基準真空チューブ３０６と補正
用干渉計３０１が示されているが、補正用干渉計３０１
を含むその他の構成については第１実施例と同様である
のでその詳細な説明は省略する。
【００６３】本参考例では、従来と同様の溶融石英で構
成される基準真空チューブ３０６の周囲を、ヘリウムの
透過係数の小さなガラスや金属等の物質からなるコーテ
ィング材３１１で被覆したものである。基準真空チュー
ブ３０６の各フランジ３０５ａ、３０５ｂのうち、測定
ビーム３１４および基準ビーム３１５が入出射する部位
に、それぞれレーザビームを透過可能な部材からなるレ
ーザ光透過用ウィンドウ３１０を設けている。また、レ
ーザ光透過用ウィンドウ３１０は、ヘリウムの透過率が
低く、かつ可視光の透過率の高いガラス等で構成するの
が好ましい。コーティング材３１１として金属を用いる
場合には、蒸着等による被覆が可能である。
成される基準真空チューブ３０６の周囲を、ヘリウムの
透過係数の小さなガラスや金属等の物質からなるコーテ
ィング材３１１で被覆したものである。基準真空チュー
ブ３０６の各フランジ３０５ａ、３０５ｂのうち、測定
ビーム３１４および基準ビーム３１５が入出射する部位
に、それぞれレーザビームを透過可能な部材からなるレ
ーザ光透過用ウィンドウ３１０を設けている。また、レ
ーザ光透過用ウィンドウ３１０は、ヘリウムの透過率が
低く、かつ可視光の透過率の高いガラス等で構成するの
が好ましい。コーティング材３１１として金属を用いる
場合には、蒸着等による被覆が可能である。
【００６４】このように、基準真空チューブ３０６が溶
融石英製であっても、その周囲を溶融石英よりもヘリウ
ムの透過係数が小さなコーティング材３１１で被覆する
事により、ヘリウム雰囲気中においても基準真空チュー
ブ３０６内へのヘリウムの漏れの少ない波長コンペンセ
ータを構成することが可能である。すなわち、基準真空
チューブ３０６の周囲をヘリウムの透過係数が溶融石英
に比べて小さな物質でコーティングしたことが、基準真
空チューブ３０６の真空劣化を減ずる手段となってお
り、これにより高精度な波長コンペンセータを達成して
いる。
融石英製であっても、その周囲を溶融石英よりもヘリウ
ムの透過係数が小さなコーティング材３１１で被覆する
事により、ヘリウム雰囲気中においても基準真空チュー
ブ３０６内へのヘリウムの漏れの少ない波長コンペンセ
ータを構成することが可能である。すなわち、基準真空
チューブ３０６の周囲をヘリウムの透過係数が溶融石英
に比べて小さな物質でコーティングしたことが、基準真
空チューブ３０６の真空劣化を減ずる手段となってお
り、これにより高精度な波長コンペンセータを達成して
いる。
【００６５】本参考例では、測定ビーム３１４および基
準ビーム３１５が入出射する部位に、それぞれレーザビ
ームを透過可能な部材からなるレーザ光透過用ウィンド
ウ３１０を設けた例を示したが、コーティング材３１１
がレーザビームの透過性に優れた物質ならば、レーザ光
透過用ウィンドウ３１０は必ずしも必要なものではな
く、基準真空チューブ３０６の周囲全体をコーティング
材３１１で被覆してもよい。
準ビーム３１５が入出射する部位に、それぞれレーザビ
ームを透過可能な部材からなるレーザ光透過用ウィンド
ウ３１０を設けた例を示したが、コーティング材３１１
がレーザビームの透過性に優れた物質ならば、レーザ光
透過用ウィンドウ３１０は必ずしも必要なものではな
く、基準真空チューブ３０６の周囲全体をコーティング
材３１１で被覆してもよい。
【００６６】（第３参考例） 図５は、本発明の波長コンペンセータの第３参考例の構
成図である。図５には、基準真空チューブ４０６と補正
用干渉計４０１が示されているが、補正用干渉計４０１
を含むその他の構成については第１実施例と同様である
のでその詳細な説明は省略する。
成図である。図５には、基準真空チューブ４０６と補正
用干渉計４０１が示されているが、補正用干渉計４０１
を含むその他の構成については第１実施例と同様である
のでその詳細な説明は省略する。
【００６７】本参考例では、基準真空チューブ４０６の
筒状部が、第１の隔壁４０６ａとそれを取り囲む第２の
隔壁４０６ｂとを有する２重構造となっており、第１の
隔壁４０６ａで囲まれた空間Ａは真空、第１の隔壁４０
６ａと第２の隔壁４０６ｂとで囲まれた空間Ｂは、ヘリ
ウムより原子番号の大きなガスで満たされている。従っ
て、真空中のターゲットミラー４０８は第１の隔壁４０
６ａの内部に配置され、雰囲気中のターゲットミラー４
０７は第２の隔壁４０６ｂの外部に配置されている。ま
た、第１の隔壁４０６ａと第２の隔壁４０６ｂとで囲ま
れた空間Ｂの圧力は、外部雰囲気の圧力と同程度が好ま
しい。
筒状部が、第１の隔壁４０６ａとそれを取り囲む第２の
隔壁４０６ｂとを有する２重構造となっており、第１の
隔壁４０６ａで囲まれた空間Ａは真空、第１の隔壁４０
６ａと第２の隔壁４０６ｂとで囲まれた空間Ｂは、ヘリ
ウムより原子番号の大きなガスで満たされている。従っ
て、真空中のターゲットミラー４０８は第１の隔壁４０
６ａの内部に配置され、雰囲気中のターゲットミラー４
０７は第２の隔壁４０６ｂの外部に配置されている。ま
た、第１の隔壁４０６ａと第２の隔壁４０６ｂとで囲ま
れた空間Ｂの圧力は、外部雰囲気の圧力と同程度が好ま
しい。
【００６８】このように、基準真空チューブ４０６の筒
状部を２重構造とすることにより、ヘリウム雰囲気中に
おいても基準真空チューブ４０６内へのヘリウムの漏れ
の少ない波長コンペンセータを構成することが可能であ
る。ここでは、基準真空チューブ４０６の筒状部を２重
構造とした例を示したが、２重以上の多重構造としても
よいし、さらに筒状部の他に、フランジ４０５を２重構
造またはそれ以上の多重構造としてもよい。すなわち本
実施例では、基準真空チューブ４０６を多重構造とした
ことが、基準真空チューブの真空劣化を減ずる手段とな
っており、これにより高精度な波長コンペンセータを達
成している。
状部を２重構造とすることにより、ヘリウム雰囲気中に
おいても基準真空チューブ４０６内へのヘリウムの漏れ
の少ない波長コンペンセータを構成することが可能であ
る。ここでは、基準真空チューブ４０６の筒状部を２重
構造とした例を示したが、２重以上の多重構造としても
よいし、さらに筒状部の他に、フランジ４０５を２重構
造またはそれ以上の多重構造としてもよい。すなわち本
実施例では、基準真空チューブ４０６を多重構造とした
ことが、基準真空チューブの真空劣化を減ずる手段とな
っており、これにより高精度な波長コンペンセータを達
成している。
【００６９】次に、上記説明した露光システムを利用し
たデバイスの製造方法の一例について説明する。
たデバイスの製造方法の一例について説明する。
【００７０】図６は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の
半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１
（回路設計）ではデバイスの回路設計を行なう。ステッ
プ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）
ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステ
ップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によっ
てウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５
（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製されたデバイス
の動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こ
うした工程を経てデバイスが完成し、これが出荷（ステ
ップ７）される。
半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、
マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１
（回路設計）ではデバイスの回路設計を行なう。ステッ
プ２（マスク製作）では設計した回路パターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）
ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステ
ップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意
したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によっ
てウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５
（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製されたデバイス
の動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こ
うした工程を経てデバイスが完成し、これが出荷（ステ
ップ７）される。
【００７１】図７は、上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光システムによ
ってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ス
テップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ス
テップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外
の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）では
エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエ
ハ上に多重に回路パターンが形成される。上述した製造
方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度のデ
バイスを製造することができる。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光システムによ
ってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ス
テップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ス
テップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外
の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）では
エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。
これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエ
ハ上に多重に回路パターンが形成される。上述した製造
方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度のデ
バイスを製造することができる。
【００７２】
【発明の効果】本発明の波長コンペンセータは、ヘリウ
ム雰囲気中に配置された基準真空チューブの真空劣化を
減ずる手段である真空排気手段が設けられているので、
ヘリウム雰囲気中においても基準真空チューブ内の真空
を保つことができ、雰囲気変動によるレーザビームの波
長変動の補正を正確に行なうことができる。
ム雰囲気中に配置された基準真空チューブの真空劣化を
減ずる手段である真空排気手段が設けられているので、
ヘリウム雰囲気中においても基準真空チューブ内の真空
を保つことができ、雰囲気変動によるレーザビームの波
長変動の補正を正確に行なうことができる。
【００７３】
【００７４】本発明のレーザ干渉測定装置は、上記本発
明の波長コンペンセータを用いることにより、雰囲気変
動に影響されずに距離等の計測を正確に行なうことがで
きるようになる。
明の波長コンペンセータを用いることにより、雰囲気変
動に影響されずに距離等の計測を正確に行なうことがで
きるようになる。
【００７５】本発明のステージ装置は、上記本発明のレ
ーザ干渉測定装置によりステージの位置情報を計測する
ことにより、より高精度なステージの位置決めを行なう
ことができる。
ーザ干渉測定装置によりステージの位置情報を計測する
ことにより、より高精度なステージの位置決めを行なう
ことができる。
【００７６】さらに、本発明の露光システムは、被露光
基板が載置されるステージ装置に上記本発明のステージ
装置を用いることにより、被露光基板の位置決めをより
高精度に行なうことができ、この露光システムを用いて
製造されたデバイスは、より高集積度のものが可能とな
る。
基板が載置されるステージ装置に上記本発明のステージ
装置を用いることにより、被露光基板の位置決めをより
高精度に行なうことができ、この露光システムを用いて
製造されたデバイスは、より高集積度のものが可能とな
る。
【図１】本発明の波長コンペンセータの第１実施例の構
成図である。
成図である。
【図２】図１に示した波長コンペンセータを用いた露光
システムの構成図である。
システムの構成図である。
【図３】本発明の波長コンペンセータの第１参考例の構
成図である。
成図である。
【図４】本発明の波長コンペンセータの第２参考例の構
成図である。
成図である。
【図５】本発明の波長コンペンセータの第３参考例の構
成図である。
成図である。
【図６】デバイス製造フローを示す図である。
【図７】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図であ
る。
る。
【図８】従来の波長コンペンセータの構成図である。
１ Ｙステージ ２ Ｙステージガイド ３ Ｘステージ ４ Ｘステージガイド ５ Ｌ型スコヤーミラー ６ ステージ定盤 ７ Ｈｅチャンバ ８ Ｙ軸測距用プレーンミラー干渉計 ９ Ｘ軸測距用プレーンミラー干渉計 １０ 波長コンペンセータ １１ レーザチューブ １２ レーザビーム １３ ビームスプリッタ １４ ベンダーミラー １５ ガラス窓 １６、１７、１８ 干渉ビーム １９、２０、２１ レシーバ ２２ 信号処理回路 ２３ サーボ制御回路 ２４ ホストコンピュータ ３２ ウエハチャック １００ 信号処理系 １０１ 偏光シアプレート １０２ 干渉計 １０３ λ／４板 １０４ ベンダーミラー １０５ａ、１０５ｂ、２０５ａ、２０５ｂ、３０５ａ、
３０５ｂ、４０５フランジ １０６、２０６、３０６、４０６ 基準真空チューブ １０７、１０８、４０７、４０８ ターゲットミラー １０９ λ／２板 １１０ 真空ポンプ １１１ 切り替え弁 ２０１、３０１、４０１ 補正用干渉計 ２１０、３１０ レーザ光透過用ウィンドウ ２１４、３１４ 測定ビーム ２１５、３１５ 基準ビーム ３１１ コーティング材 ４０６ａ 第１の隔壁 ４０６ｂ 第２の隔壁
３０５ｂ、４０５フランジ １０６、２０６、３０６、４０６ 基準真空チューブ １０７、１０８、４０７、４０８ ターゲットミラー １０９ λ／２板 １１０ 真空ポンプ １１１ 切り替え弁 ２０１、３０１、４０１ 補正用干渉計 ２１０、３１０ レーザ光透過用ウィンドウ ２１４、３１４ 測定ビーム ２１５、３１５ 基準ビーム ３１１ コーティング材 ４０６ａ 第１の隔壁 ４０６ｂ 第２の隔壁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−210850（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−345012（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−54163（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−87447（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−125588（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−81632（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−34318（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−140439（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 9/00 - 11/30 102 G01J 9/00 - 9/04 G01N 21/17 - 21/61 (54)【発明の名称】 波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装 置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用い たデバイスの製造方法
Claims (8)
- 【請求項１】 両端が密閉され、一端から入射したレー
ザビームを他端で反射させて戻す基準真空チューブと、
前記レーザビームを干渉させる干渉手段と、前記レーザ
ビームの波長変動情報を持った干渉ビームを受光する受
光手段とを有する波長コンペンセータにおいて、ヘリウム雰囲気中に配置された 前記基準真空チューブの
真空劣化を減ずる手段であって該基準真空チューブ内の
排気を行う真空排気手段を設けたことを特徴とする波長
コンペンセータ。 - 【請求項２】 前記干渉手段は、レーザビームを、前記基
準真空チューブ内を通過する基準ビームと、前記基準真
空チューブ内を通過しない測定ビームとに分離し、前記
基準ビームと測定ビームとを干渉させるものである請求
項１に記載の波長コンペンセータ。 - 【請求項３】 前記基準真空チューブを構成する材質
に、ヘリウムガスの透過係数が溶融石英に比べて小さな
物質を用いた請求項１又は２に記載の波長コンペンセー
タ。 - 【請求項４】 前記ヘリウムガスの透過係数が溶融石英
に比べて小さな物質は、ヘリウムガスの透過係数が溶融
石英に比べて小さなガラスである請求項３に記載の波長
コンペンセータ。 - 【請求項５】 レーザビームを用いて物体の相対関係を
測定する測定手段と、前記レーザビームの波長変動に基
づく測定誤差を補正するための波長コンペンセータとを
有するレーザ干渉測定装置において、前記波長コンペン
セータとして、請求項１ないし４のいずれか１項に記載
の波長コンペンセータを用いたことを特徴とするレーザ
干渉測定装置。 - 【請求項６】 物体が載置される移動可能なステージ
と、前記ステージの位置情報を計測するレーザ干渉装置
とを有するステージ装置において、前記レーザ干渉装置
として請求項５に記載のレーザ干渉測定装置を用いた事
を特徴とするステージ装置。 - 【請求項７】 被露光基板が載置されるステージ装置
と、前記被露光基板に露光を行う露光装置とを有する露
光システムにおいて、前記ステージ装置として請求項６
に記載のステージ装置を用いた事を特徴とする露光シス
テム。 - 【請求項８】 マスクとウエハとを用い、フォトリソグ
ラフィ技術によって前記ウエハ上に回路を形成する工程
を有するデバイスの製造方法において、 前記回路を形成する工程が、 請求項７に記載の露光シス
テムを用いて前記マスクの回路パターンを前記ウエハに
焼付露光する工程を含むことを特徴とするデバイスの製
造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08640694A JP3219349B2 (ja) | 1993-06-30 | 1994-04-25 | 波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用いたデバイスの製造方法 |
| US08/269,386 US5483343A (en) | 1993-06-20 | 1994-06-30 | Wavelength compensator in a helium ambience |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16088393 | 1993-06-30 | ||
| JP5-160883 | 1993-09-22 | ||
| JP5-236169 | 1993-09-22 | ||
| JP23616993 | 1993-09-22 | ||
| JP08640694A JP3219349B2 (ja) | 1993-06-30 | 1994-04-25 | 波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用いたデバイスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07225114A JPH07225114A (ja) | 1995-08-22 |
| JP3219349B2 true JP3219349B2 (ja) | 2001-10-15 |
Family
ID=27305171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08640694A Expired - Fee Related JP3219349B2 (ja) | 1993-06-20 | 1994-04-25 | 波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用いたデバイスの製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5483343A (ja) |
| JP (1) | JP3219349B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106289336A (zh) * | 2011-11-09 | 2017-01-04 | 齐戈股份有限公司 | 双通干涉测量编码器系统 |
Families Citing this family (55)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08304203A (ja) * | 1995-05-02 | 1996-11-22 | Hitachi Ltd | 光式圧力検出方法とそのセンサ及び光式圧力センサの波長板、偏光選択装置とビーム分配器、並びに、かかる方法による多点計測光式圧力センサシステムとそのセンシングプローブ |
| JPH09115800A (ja) * | 1995-10-16 | 1997-05-02 | Nikon Corp | 露光装置 |
| US6480285B1 (en) | 1997-01-28 | 2002-11-12 | Zetetic Institute | Multiple layer confocal interference microscopy using wavenumber domain reflectometry and background amplitude reduction and compensation |
| JP3950518B2 (ja) * | 1997-06-27 | 2007-08-01 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子の製造方法 |
| US6124931A (en) * | 1997-10-02 | 2000-09-26 | Zygo Corporation | Apparatus and methods for measuring intrinsic optical properties of a gas |
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| JPH07225114A (ja) | 1995-08-22 |
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