KR970022491A - 감광성 수지 조성물, 감광성 필름, 이들을 이용한 형광체 틀의 제조방법 및 표면처리한 형광체와 이의 제조방법 - Google Patents

감광성 수지 조성물, 감광성 필름, 이들을 이용한 형광체 틀의 제조방법 및 표면처리한 형광체와 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 아래와 같이 구성된 감광성 수지 조성물로서 (A) 카르복실기를 가진 화합물; (B) 카르복실기를 가진 수지; (C) 에틸렌계 불포화기를 가진 광중합이 가능한 불포화 화합물; (D) 활성 광의 조사에 의해 자유 라디칼을 생성시키는 광중합용 개시제; (E) 형광체.
감광성 필름, 이를 이용한 형광제 틀의 제조방법과 표면처리된 형광체 및 이러한 형광체를 제조하는 방법에 관한 것이다.

Description

감광성 수지 조성물, 감광성 필름, 이들을 이용한 형광체 틀의 제조방법 및 표면처리한 형광체와 이의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 도식적으로 장벽 턱의 한 예를 나타낸 것,
제2도는 도식적으로 장벽 턱의 한 예를 나타낸 것,
제3도는 도식적으로 감광성 수지 조성물 층의 이동 단계를 나타낸 것,
제4도는 도식적으로 교류에 대한 플라스마 디스플레이 패널을 나타낸 것.

Claims (19)

  1. 아래와 같이 구성된 감광성 수지 조성물 : (A) 카르복실기를 가진 화합물; (B) 카르복실기를 가진 수지; (C) 에틸렌계 불포화기를 가진 광중합이 가능한 불포화 화합물; (D) 활성 광의 조사에 의해 자유 라디칼을 생성시키는 광중합용 개시제; (E) 형광제.
  2. 제1항에 의한 조성물 층과 그 층을 지지하는 지지 필름으로 구성된 감광성 필름.
  3. 플라스마 디스플래이 패널을 위한 기질상에 제1항에 의한 조성물을 코우팅하고, 건조와 틀 상태에서 노출시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 형광제 틀의 제조방법.
  4. 플라스마 디스플래이 패널을 위한 기질상에 제2항에 의한 필름을 라미네이팅하고 플라스마 디스플래이 패널을 위해 기질 표면에 필름의 감광성 층을 이동시키며 틀 상태에서 노출시키고 건조시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 형광제 틀의 제조방법.
  5. 아래와 같은 감광성 수지 조성물 : (B) 카르복실기를 가진 수지; (C) 에틸렌계 불포화기를 가진 광중합이 가능한 불포화 화합물; (D) 활성 광의 조사에 의해 자유 라디칼을 생성시키는 광중합용 개시제; (F) 카르복실기를 가진 (A)화합물로 표면 처리를 한 형광제.
  6. 제5항에 의한 조성물 층과 그 층을 지지하는 지지 필름으로 구성된 감광성 필름.
  7. 플라스마 디스플래이 패널을 위한 기질상에 제5항에 의한 조성물을 코우팅하고, 건조와 틀 상태에서 노출시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 형광제 틀의 제조방법.
  8. 플라스마 디스플래이 패널을 위한 기질상에 제6항에 의한 필름을 라미네이팅하고, 플라스마 디스플래이 패널을 위해 기질 표면에 필름의 감광성 층을 이동시키며 틀 상태에서 노출시키고 건조시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 형광제 틀의 제조방법.
  9. 카르복실기를 가진 화합물로 표면처리를 한 형광제.
  10. 카르복실기를 가진 화합물로 형광제 표면을 구성하고 표면처리를 한 형광제의 제조방법.
  11. 제1항에 의한 감광성 수지 조성물을 이용하여 구성된 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷 판.
  12. 플라스마 디스플래이 패널을 위해 장벽 턱을 가진 기질상에 제1항에 의한 조성물을 코팅하고 건조와 틀 상태에서 노출시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 뒷판의 생산방법.
  13. 플라스마 디스플래이 패널을 위한 장벽 턱을 가진 기질상에 제5항에 의한 조성물을 코팅하고, 틀 상태에서 노출시키고 건조시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷판의 생산방법.
  14. 플라스마 디스플래이 패널을 위해 장벽 턱을 가진 기질상에 제2항에 의한 필름을 라미네이팅하고, 플라스마 디스플래이 패널을 위해 기질 표면에 필름의 감광성 층을 이동시키며 틀 상태에서 노출시키고 건조시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷판의 생산방법.
  15. 플라스마 디스플래이 패널을 위해 장벽 턱을 가진 기질상에 제6항에 의한 필름을 라미네이팅하고, 플라스마 디스플래이 패널을 위해 기질 표면에 필름의 감광성 층을 이동시키며 틀 상태에서 노출시키고 건조시키며 현상한 다음 하소를 행하는 것으로 구성된 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷판의 생산방법.
  16. 제12항의 방법으로 생산되는 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷판.
  17. 제13항의 방법으로 생산되는 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷판.
  18. 제14항의 방법으로 생산되는 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷판.
  19. 제15항의 방법으로 생산되는 플라스마 디스플래이 패널을 위한 뒷판.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960045672A 1995-10-13 1996-10-14 감광성수지조성물,감광성필름,이를이용한형광패턴의제조방법,및표면처리한형광체와그의제조방법 KR100391506B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100855601B1 (ko) * 2000-12-18 2008-09-01 후지필름 가부시키가이샤 네거티브 감광성 열경화성 수지 조성물, 네거티브 감광성열경화성 수지층 전사재료, 및 네거티브 내성 화상형성방법

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5858616A (en) * 1995-10-13 1999-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive film and process for preparing fluorescent pattern using the same, and phosphor subjected to surface treatment and process for preparing the same
EP1387384A1 (en) * 1996-01-22 2004-02-04 Hitachi Chemical Co., Ltd. Phosphor pattern, processes for preparing the same and photosensitive element to be used for the same
US6156433A (en) * 1996-01-26 2000-12-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electrode for plasma display panel and process for producing the same
JP3766165B2 (ja) * 1997-03-07 2006-04-12 株式会社ニコン 画像形成方法及び感光材料
US6194826B1 (en) * 1997-03-11 2001-02-27 Hitachi Chemical Co., Ltd. Process for preparing phosphor pattern, phosphor pattern prepared the same and back plate for plasma display panel
JP3832013B2 (ja) * 1997-03-17 2006-10-11 Ｊｓｒ株式会社 プラズマディスプレイパネル用螢光面の形成方法
JP3510761B2 (ja) * 1997-03-26 2004-03-29 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性導電性ペースト組成物及びそれを用いて電極形成したプラズマディスプレイパネル
EP0872870A3 (en) * 1997-04-14 1999-05-06 Hitachi Chemical Co., Ltd. Fluorescent pattern, process for preparing the same, organic alkali developing solution for forming the same, emulsion developing solution for forming the same and back plate for plasma display using the same
EP0887833B1 (en) 1997-05-22 2006-08-16 Hitachi Chemical Co., Ltd. Process for preparing phosphor pattern for field emission panel and photosensitive element
US6066431A (en) * 1997-08-19 2000-05-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Photosensitive resin film and use thereof
JP3953625B2 (ja) 1998-03-02 2007-08-08 太陽インキ製造株式会社 感光性組成物
JPH11246638A (ja) * 1998-03-02 1999-09-14 Taiyo Ink Mfg Ltd 感光性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン
JP4090103B2 (ja) 1998-03-02 2008-05-28 太陽インキ製造株式会社 感光性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン
JP3920449B2 (ja) * 1998-03-13 2007-05-30 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型光硬化性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン
TW416086B (en) * 1998-03-18 2000-12-21 Nippon Synthetic Chem Ind Forming method of fluorescent pattern and plasma display panel
JP3606038B2 (ja) * 1998-03-31 2005-01-05 松下電器産業株式会社 プラズマディスプレイパネル
TWI258634B (en) * 1999-10-22 2006-07-21 Hitachi Chemical Co Ltd Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, a process for producing resist pattern and resist pattern laminate
US7049036B1 (en) 1999-10-22 2006-05-23 Hitachi Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive element using the same, method for producing resist pattern, resist pattern and substrate having the resist pattern laminated thereon
JP3729702B2 (ja) * 2000-04-13 2005-12-21 松下電器産業株式会社 ブラウン管用バルブの再生方法
JP2002203484A (ja) * 2000-12-28 2002-07-19 Sony Corp プラズマ表示装置
US20020120406A1 (en) * 2001-02-01 2002-08-29 Avraham Lorber Diagnostic method and apparatus
JP2002328467A (ja) 2001-05-01 2002-11-15 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd プラズマディスプレイパネルの製造方法
US6660184B2 (en) * 2001-12-13 2003-12-09 Osram Sylvania Inc. Phosphor paste compositions
US6693476B1 (en) * 2002-07-23 2004-02-17 Broadcom, Corp. Differential latch and applications thereof
KR20050037639A (ko) * 2003-10-20 2005-04-25 엘지전자 주식회사 에너지 회수장치
US7135267B2 (en) * 2004-08-06 2006-11-14 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous developable photoimageable compositions for use in photo-patterning methods
KR20060082527A (ko) 2005-01-12 2006-07-19 삼성에스디아이 주식회사 형광체 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널
CN1304528C (zh) * 2005-07-21 2007-03-14 大连理工大学 配位络合型稀土激活的碱土铝酸盐长余辉发光材料
KR20080098508A (ko) * 2006-02-28 2008-11-10 도레이 가부시끼가이샤 플라즈마 디스플레이용 부재 및 그의 제조 방법
CN100398624C (zh) * 2006-03-24 2008-07-02 大连理工大学 高分子配位接枝的碱土铝酸盐长余辉发光材料及制备方法
KR101299111B1 (ko) * 2006-04-06 2013-08-28 주식회사 동진쎄미켐 플라즈마 디스플레이 패널 격벽용 페이스트 조성물
JP4946748B2 (ja) * 2007-09-14 2012-06-06 Ｊｓｒ株式会社 着色層形成用感放射線性樹脂組成物およびカラーフィルタ
TWI377247B (en) * 2007-12-28 2012-11-21 Epoch Material Co Ltd Aqueous cleaning composition
KR101253586B1 (ko) * 2010-08-25 2013-04-11 삼성전자주식회사 형광체 필름, 이의 제조방법, 형광층 도포 방법, 발광소자 패키지의 제조방법 및 발광소자 패키지
WO2015095032A1 (en) * 2013-12-17 2015-06-25 3M Innovative Properties Company Composite nanoparticles including a malonic acid derivative
USD748267S1 (en) * 2014-04-04 2016-01-26 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD747487S1 (en) * 2014-04-04 2016-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD750785S1 (en) * 2014-04-04 2016-03-01 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD748801S1 (en) * 2014-04-04 2016-02-02 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge
USD746467S1 (en) * 2014-04-04 2015-12-29 Hitachi Chemical Company, Ltd. Filter sheet for a cell collecting cartridge

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4208448A (en) * 1978-10-27 1980-06-17 Westinghouse Electric Corp. Method for improving the performance of low pressure fluorescent discharge lamp which utilizes zinc silicate as a phosphor blend constituent
SU916529A1 (ru) * 1979-08-08 1982-03-30 Le Z Krasnyj Khim V Promy Obed Способ получения сульфидных люминофоров на основе цинка и/или кадмия i
DE3433963A1 (de) * 1984-09-15 1986-03-27 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum stabilisieren einer leuchtstoffsuspension
EP0184201B1 (en) * 1984-12-05 1988-05-25 Mitsubishi Kasei Corporation Rare earth phosphor and radiographic image conversion screen
US5039449A (en) * 1988-11-07 1991-08-13 Gte Laboratories Incorporated Method for improving a manganese activated zinc silicate phosphor
JP2862916B2 (ja) * 1989-10-20 1999-03-03 化成オプトニクス株式会社 蛍光体、蛍光体の表面処理方法及び蛍光膜の製造方法
US5394055A (en) * 1991-03-14 1995-02-28 Kasei Optonix Color picture tube with the fluorescent film of the red emission component having a mixture of europium activated rare earth oxide phosphors
JP3153043B2 (ja) * 1993-03-22 2001-04-03 日本合成化学工業株式会社 フォトレジストフィルム
US5858616A (en) * 1995-10-13 1999-01-12 Hitachi Chemical Company, Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive film and process for preparing fluorescent pattern using the same, and phosphor subjected to surface treatment and process for preparing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100855601B1 (ko) * 2000-12-18 2008-09-01 후지필름 가부시키가이샤 네거티브 감광성 열경화성 수지 조성물, 네거티브 감광성열경화성 수지층 전사재료, 및 네거티브 내성 화상형성방법

Also Published As

Publication number Publication date
US6248501B1 (en) 2001-06-19
US6077647A (en) 2000-06-20
DE69629259D1 (de) 2003-09-04
US5858616A (en) 1999-01-12
EP0768573A1 (en) 1997-04-16
EP0768573B1 (en) 2003-07-30
KR100391506B1 (ko) 2004-03-26

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