JPS5924844A - 光重合体組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発り］は不飽和重合体、メルカプト酸およびラジカル
開始糸を含有する光感受［１＋組成物、前記組成物から
製造されたエレメント、おまひ前記エレメントの光画像
形成法に関する。

発明の技術的背′Ｊｙとし７では次のものがあげられる
。

木田’ｐ４　’ｉｐ第４，　１　７　９，　５　３　１
　号明細￥Ｊ’　Ｖ−１、モノアルケニル芳香族ジエン
共１１（合体４ｉ＋脂、光交叉結合１６２　Ｃ＝ａ含有
単ｌｉｔ仕、ポリチオールおよび光開始剤を包含−ノー
る硬化性組成物を開示している。

＃Ｉ’ｉ；ｌ　！｝、５　ａ’＋一第４，２　３　４，
６　７　６号明ｉｔ’ｌｌ　−、ｊｌＪ：　ｋｉ　不飽
和１ｕ合体、ｉｌＳ．７δ体、チオールおよび硬化剤を
含有する硬化性組成物合一開示している。

米国ｌ［１許第４，２４８，９６０号明＋ｙｍ号！４は
その下側薄層組成物が好ましくは光硬化性重合体組成物
であるレリーフ生成性積層体を開示している。

米国！侍許第４，２６６、００４号明卸ｊ書は酸素およ
び光増感剤の存在下におけるある種の有機サルファイド
含有重合体の光画像形成法を開示し７ている。

英国判許第１．３９［１７１１号および米国豹許第３、
７６Ｚろ９ε３号各明＃ｌＨＪはメチルビニルエーテル
／マレインｔｔＲ　Ｋｌｌｔｉ水物共重合体のモノアリ
ルエステル反復単位を有する重合体およびＩｉ　リチオ
ールよりなりそして光硬化速度促進剤を含有するかまた
ｆＩ′：ｊこｈ．を含有していない硬化性組成物を開示
している。

米国！ト与旧第５１ε｛Ｏ’；：６３３号明イＩｎ，ｉ
ｔｉは分子内に反応性不飽和炭素−炭素官能基および／
壕たは反応性テオーノ１・油を含有する鎖延長ポリチオ
エーテル含有ＩＩ（Ω体組成物を開示している。

木国勃許第３，６６０，０８８号明卸１書はポリエン、
ポリチオールおよび光硬化速度促進剤よりなる光硬化性
組成物を使用する金楠エツチング法を開示している。

本田ｌ持ＦＦ′ｆ第３．９３６．５３０号明卸１書はス
ナレンーアリルアルコール共重合体ベースのポリエンお
よびポリチオール成分よりなる硬化性コーティング組成
物を１４１１示している。

木国將許第３，６２７，５２９号明細書はエチレン性不
飽和ポリエン、ポリチオールおよび光硬化性速度促進剤
の光硬化性組成物から石版印刷プレートを製造する方法
を開示している。

本国特許第４．１７９２９５号明細摺、は、分子中に脂
肪族不飽和結合を有する有機ポリシロキサンおよびメル
カプト含有有機ボリシロキサンヲ含有しておりそしてそ
の有機ポリシロキサンが交叉結合形成を行わぜる紫外線
照射により硬化される光感受性組成物を開示している。

木国將許第４，１３０，４６９号明細ジノは、懸垂メル
カフタン基全含有するＭ（合ｌζおよびビスマレイミド
交叉結合剤を含有する硬化１〆１−コーチ・ｆンク組成
物をｆｉＰＩ示しＣいる。

英国特許第１．１７Ｓ！２５２号明π１ｉ１柵は熱可塑
性弾性体組成輸の製造におけるカルボキシル基を含有す
るブタジェン重合体の使用なり；］示している。

木国刊Ｍ’＋・第２，５８９，１５１号明卸ｎ１書」、
遊Δ１［ランカル開始剤を使用して溶液中で製造された
ブタンエン１ｈ合体のチメダリコールｒ′浚アグクト（
伺加物）を開示しており、ぞしてそのアタクトの構造は
ｌ−Ｊ、Ａｍ、○ｈｅｍ、ｓｏｃ、　Ｊ　Ｍ　７０巻第
１−８０４〜１８０８頁（１９４８）中に史にｔ１詣じ
られている。

１−Ｉｎｄ、Ｋｎｇ、０１１ｅ＋ｒ＋、−１３ｆｓ　４
５巻第２０９０〜２０９ろ頁（１９５３）は極性基含有
ナオール囮えばメルカプト靜Ｍの添加によってポリブタ
ジェンを変性せしめて改善された耐油性の重合体を化成
させることを開示している。

［Ｒｅｓθａｒｃｈ　Ｄｉθｃ１ｏｓｕｒｅ　Ｊ第１４
３巻第２４Ｂ　（１９７６）　ｋＪ　液体工１／クトロ
グラフイー展開剤中の成分としての不飽和重合体のメル
カプト酸Ｕ導体の使用を開示している。

本国特許第３，８５乙８２２号および同第３，９０５，
８２０号明細１（トは、１４−１リルマレイミド単位含
有共重合体および前記共重合体を含有する光感受性複写
組成物を開示しており、前記共重合体は先駆体たる無水
物含有共重合体と脂肪族アミンとの反応により製造され
ている。

本発明は次の成分すなわち （１）成分（１）、（１１）および（ｉｉＤの全重量の
約１０〜９０チの、約ｉ、　ｏ　ｏ　ｏ〜２５，０００
の数平均分子値を有ししかも（ａ）ポリエン１００ノ当
り約２０〜１０００ミリ当量の反応性不飽和炭素−炭素
基と（ｂｌｌ約１御〜５０ 単位（ただしそのアルケニル基は約６〜１８個の炭素原
子を含有するものである）とを含有するボリエ／、 （１１）成分（１）、（１１）、および（ｌｉｉ）の全
重り量の約５〜５０％の反応性メルカプト酸、および （ｉｉｉ）　　成分（１）、（１１）および（曲の全重
量の約α１〜５０係の活性線放射によって活性化されて
ポリエンへのメルカプト酸の伺加を開始せしめうる放射
感受性ラジカル生成系 を包含−Ｊイ＞　、）ｌ，、感受性組成物に関する。

本発明１．１　・）：　ｆｃ約０．Ｉ　Ａｍ〜７　６　
０　０　μｍまたはそれ以上の範囲の厚さを有する光感
受性組成物の層をコーティングした基質を包含する光感
受性エレメントにも関する。好ましい光感受性エレメン
トはホトレジストおよびブルーフ系に使用される。その
基質は任意の天然または合成支持体好舊しくは可撓性ま
たは剛性のフィルムまたはシートの形態で存在しつるも
のでありうる。

本発明は°また、画像含有透明体を通して２０００〜５
０００　Ａの波長を含有する活性線放射に光感受性エレ
メントを像様露光させ、そしてその像を現像処理するこ
とを包含する一光画像形成法にも関する。

「反応（ｇＥ　Ｊ不飽和炭素−炭素基なる表現は、活性
線放射の下で光増感剤の存在下にメルカプト酸のチオー
ル基と反応してチオエーテル結合、芳香核例えばベンセ
ン、ピリジン、ナフタレンその他に例示される環状４ｒ
’を進中に見出される、同−条注下にチオール基と反応
してチオエーテル結合を生成宮せない「非反応性」基−
６−計に対立するものである。゛ 「不飽和炭素炭素基コなる飴は −Ｃ１１＝−ＣＩＩ−、−０ミ○）Ｉ −ＣミＣ−１−Ｃ二０１ｌ−および −ＯＨ二ＯＨ２，−０二〇Ｈ２ を：０．味している。ポリエンはそのような不飽和基の
一つのタイプを含イコしうるし、址１ｔｃ　１１それは
２　ｆｆＬ娃たはそれ以−ヒのそのＪ：うなタイプを含
有しうる。

光感受性組成物の成分（１）のポリエンは、約１．００
０−１０．０００の好ましい藪平均分子ｈｉ、およびポ
リエン１００ｇ当り約５０〜５００　ミリ尚叶の〃了“
チしい程度の反応性不飽和炭素−炭素基を含有している
。好−ましいポリエン−Ｍは成分（１）、（１１）およ
び冊の全″１Ｘｆｆｔの約４０〜８０％である。

反応性不飽和炭素−炭素基の；（にＴ［的にすべてがＮ
−アルケニルマレイミド単位中Ｋａ゛有すれ−ｃいるこ
とが好ｔＬ−い。好ましくはこれらの不飽オ「Ｉ基は「
°末端」′Ｊ−なわち１ｑ−アルクニル鎖の端に位置す
る。

好ましいホリエンは一〇＝Ｏｒ（２および−ＯＨ＝ＯＨ
２より選ばれた少くとも１個の基をその高い反応性の故
にき有している。的に女Ｉましいものはスチレンと無水
マレイン酸との共１合体から詞得された１４−アルケニ
ルマレイミド含有ポリエンである。

好ましいメルカプト服ハメルカプトカルホン岐である。

好ましくはこのメルカプト酸は成分（１）、（１１）お
よび（ｉｉｉ）の合計重量の約１０〜４０％Ｍで存在す
る。ラジカル生成系は好−ましくは成分（１）、（１１
）および（川）の合創ｊＮ　Ｊｉｉの約１〜２０係で存
在する。

好′ましいラジカル生成系はヘンジインエーテル、＋＋
　ｔｔベノジルジメチルケタールを包含する。

高品質画イ駅形成応用に対しては、本明細曹記載の光感
受１９二組成物約５０φ〜１００％を有する光感受性層
を含有する光感受性エレメントを使用することがｙも有
利であるということが見出された。）ｉ！ｔの全Ｔｌｉ
　Ｊ５１の５０％才での光感受性層のその他のものｌ：
Ｊ　、　−）’ｅ感受１り、に寄与することな（〜に物
ｊ、’ｌｉ的Ｒ：　’ｉりを改善きせるたＶ）に加乏ら
ｉする物質から、（１Ｙ成しつる。

本シ１′：明の）Ｙ、感受性絹り、に物は石版ト１コ刷
、グラビア・ｆメー！、〉、オフセットおよび平版印刷
プレートの製造、−Ｌ：ゴー川１゛ラフトフィルノ２、
印刷回路？、′！　３：ｉ’ｉ　１１１−ｉたｔ」化学
ミルにおけるホトレジスト、わＪんだマスク、フレキソ
グラフ印刷、！ｉ’；　ｆＥ　ＩＬ！！　７−？−：用
のマイクｏ両像、および紙、ガラスおよび金ｇｉ↓包駐
のラーごレーションに有用伯−を有している。

その他の！１５別の用途は当業者げに明白であろう。

この和成物？ｔ　ｌｌｊ、　−Ａｉ光、＄　ｊ１体不６
゛、そして水性浴ＩＡｔ洗去現像を使用したポジとして
で・いくものであるから、それらはポジとして働くポト
レジス１応用に７開に有用である。

好ましいＮ−アルクニルマレイミド含有ポリエンすなわ
ちスチレンと無水マレイン酸との共重合体から肪４す、
されたものに基づく光感受性組成物は、ポジとして働ら
くホトレジストとして用い人吉きｒ（従来使用さＪ”Ｌ
　ｆｃ組成物に比して極めて優れている。それらは後れ
た再画像形成性と共に写貞速吸、半水性処理可ｌ走性お
よび物理的性質のような性質の組合せにおいて大いに改
善されている。

ＩＪぜ　リ　エ　／（１） 好適な１ノ−アルクニルマレイミド含有ポリエンの例は
、例えばスチレン、α−メ、チルスチレン、ｐ−クロロ
スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ブロモスチレンお
よび他の適当なスチレン、メチルアクリレート、エチル
アクリレート、メ、チルメタクリレート、アリルメタク
リレートおよびブチルメタクリレートのようなアクレー
トエステルＳ’Ａ、”ｊタジェ／、二皇二チレン、メチ
ルヒニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソフロビ
ルビニルエーテル、２−　　エチルヘキシルビニルエー
テルおよびブチルビニルニーフールのような単ｍ体との
マレインｎ１熱水物の共重合体〃）ら誘導されたもので
ある。

本発明のボリエ／ン」、適当なマｌ／イ／酸２４に水物
共重合体と過剰のＮ−アルケニルアミンとを木Ｌ！ｉｆ
　／？Ｍ許ｈｓろ、　８５７．８２２号および同Ｍ’＋
　３，９０５，８２　。

芳容明細−１（日ζ記述された一般的操作で反応させる
ことによって製造できる。

メルカプト酸（１１） 意図さｉするメルカプト酸ｒＪ単一・のチオール（−８
Ｈ官ｈヒ基）を含有するものである。適当７よメルカプ
ト酸とし−Ｃはメルカプトカルボ／ｌ・β、メルカプト
スルホン酸、メルカプトホスホン酸およびメルカプトフ
ェノールがあげられる。鵠Ｋ　Ｆｆ　、ｔしいメルカプ
トスルホン酸は構造式Ｈａ−Ｒ−００２Ｈ （式中、Ｒは未ＩＡｅ換であるかまたはカルボキシル”
マ／コバＣ１−（！６　アルコキシカルボニル基でｔイ
換された１〜１８１［＾１の炭素原子を含有するγルキ
レンでイソる）のものである。

適当なメルカプト酸はメルカプトＬ作Ｆ輩、６−メルカ
プトプロピオン酸、２−メルカプトプロピオン１ソ、メ
ルカプトコハク酸、６−メルカプトカプロン酸、メルカ
プトイタコ／酸、２−メルツノゾトカゾロン酸、４−メ
ルカプトメチル女息香酸、４−メルカゾトメチルフェニ
ルプロビオン酸、１１−メルカプトウンデカン酸、９−
メルカプトスルホン酸、メルカプトドデシルコハク酵、
２−メルカプトエタンスルホン酸１、う−メルカ−／’
　ｌ−プロ・ξンスルホン酸、４−メルカプトブタンス
ルホン酸、メルカプトメチルホスホン酸、７−（２−メ
ルカプトエチル）フェノール、２−・（３−メルカフト
プロビル）フェノール、メルカプトコハク酸モノメチル
エステル、メルカプトコハク酸モノｎ−ヘキシルエステ
ル、メルカフトコハク酸モノー２−エトキシエチルエス
テル、Ｎ−アセチルシスティン、および１２−メルカプ
トドデカ／酸である。

ラジカル生成系０ｉｉ） 実際にはポリエンの反応性不飽和炭素−炭素基へのメル
カプト酸の伺加を開始せしめるすべての照射感受性ラジ
カル生成系が本発明の光感受性組成物中での使用に適当
である。プロセス透明画は通常の活性線放射源から発生
する熱を伝達するのであるから、好ましいラジカル生成
化合物は約８５℃以下そしてより好ましくは約１８５℃
以下では熱的に不活性である。それらは組成物中では比
較的短時間の露光において吸収された照射量の影響下Ｖ
コ所望のメルカプト酸の付加を開始させるに必安な程度
に組成物中１６分）孜性であるべきである。

このランカル生成系は約２０００〜５０００Ａの照射を
吸収しそして約２０００〜５０００Ａの範囲内に少くと
も約５０の分子吸光体ａ？有する活性線照射吸収バンド
を有する少くとも１種の成分を含有している。「活性線
照射吸収バント′」なる表現はポリエンの反応性不ノ゛
郭和炭素−炭素基へのメルカプｌ−酸の付加を開始させ
るに必賛なラジカルを生成さ−するに活性な放射バンド
を意味している。このラジカル生成系は照射に付した場
合に直接ラジカルを与える１柚またはそれ以上の化合物
より４・ＩＩ￥成されたものでありうる。あるいはまた
この系は照射付活化可能な増感剤によりそうせしめられ
た後でラジカルを生成する化合物と共に増感剤全含有し
うる。

不発ψ」の実施に当っては多数のラジヵＩし生成性化合
物を便用することかできる。そしてそれらとしては芳香
族ケト／しυえはベンゾフェノ／、ミヒラーのりと／〔
４，４−ヒス（ジメチル７ミノ）べ／シフエノン、）％
４．４’−ヒス（ジエチルアミノ）べ／シフエノン、４
−メトキ／４＋、、−ジメチルアミノベンゾフェノン、
２−エチルアントラギノン、フェナントラキノノ、２−
２ｉ′！１級プチルブントラキノ／、１，２−ベンズア
ントラキノ”、２＋３−ベンズアントラキノン、２．５
〜ジクロロナツトキノン、ベンジルジメチルフタ・−ル
、ナス４キソベ／ゾインおよびその他の刃香族ケトン、
ベンゾイン、ベンゾインニーデル例えばベン、ノ゛イン
メチルエーテル、メテルベ／ソイ／メーｔルユーデル、
ベンシイ／エチルエーテル、ζンンイ／インブチルエー
テルおよびペンゾインンエニルエーデル、メチルベンゾ
イン、エチルベンゾインおよびその曲のベンゾイン、お
よび２，４．５−１−リアリールイミダゾリル二１，１
体１タリλ−げ２−（０−クロロフェニル）−４，５−
シフェニルイミタゾリルニｊｔ体、２−（０−クロロフ
ェニル）−４，５−ｕ−（ｍ−メチルフェニル）イミタ
ゾリルニＵ体、２−（０−フルオロフェニル）　−’４
．５−　’、５フェニル’（ミタソリルニ４ｊｔ体、２
−　（ｏ−メトキシフェニル）−ノ ４．５−ジフエニニルイミグン゛リルニを体、２−　（
ｐ−メトキシフェニル）　−４，５−ジフェニルイミダ
ゾリルニ１五体、２，４−ジー（ｐ−メトキシフェニル
）−５−フェニルイミタゾリルニー胎体、２−　（２，
４−ジメトキシフェニル）　−４，５−ジフェニルイミ
タゾリルニ凰体および２−（ｐ−メチルメルカプトフェ
ニル）　−４，５−ジフェニルイミダゾリルニ量体かあ
げられる。

その他の有用な２，４．５−　）リアリールイミダゾリ
ル二量体ラジカル生成系は米国萄許第３．４７９：１８
５号および同第３，７８４，５５７号お」：び英１１將
許第９９乙３９６￥３・および同第１．　［１４７，５
６９芳容明細台中に開示されている。

前記イミタゾリルニ量体はラジカル生成性増感剤例えば
２〜メルカプｉ・ベンゾキサゾール、ロイコクリスタル
バイオレットまたはトリス（４−ジエチルアミノ−２−
メチルフェニル）メタンさ共に使用することができる。

ミヒラーのり１・／のような増感剤はまたエネルギー伝
達染料例えばローズベンカルおよびエオシンＹを使用で
きると同様ｖコそれと共に使用できる。

その池の有用なランカル生成系はシクロへキザジエノ／
化合物し１ｊえば４−メチル−４−トリクロロメチル−
２，５−シクロヘキサジェノ／、６．４−ジメチル−４
−トリクロロメチル−２，５−シクロヘキザジエノン、
４−ジクロロメチル−４−メチル２．５−シクロへキサ
ジェノン、２，６−ジ（第三級メチル）−４−メチル−
４−トリクロロメチル−２，５−シクロへキサジェノ７
お、Ｌび４位ｉ＝′Ｃト！Ｊクロロメナル基およびアル
キルまたはアリール基を含有するその他の２．５−　／
り［コヘギサジエノンを包含する。・そのようなシクロ
へキシ°ジェノ／は増感剤例えばミヒラーのケトンと共
（こ１史用することができる。

′ｂ５ｊ力１’ｌ’ｉ勿買 エレメントの光感受性層中に〕ｔ　Ｉｉ＆受注組成物と
共Ｇて包含させることのできる物質としては組ノ或′１
勿の強化またはそれの基質への接着しく没立つ重合体結
合／１１があげられる。照射に透明な・でしてフィルム
形成任でるる’ｍｉ合体が好ましい。適当在結合剤の例
は少くとも約１５００．好ましくは少くとも４０００の
数平均分子”Ａｋ有する撚回に１住篩分子有様広臼・体
であり、これは、（ａ）テレフタル酸、イソフタル酸、
セバゾ／１亥、アジピン酸およびヘキサヒドロテレフタ
ルＩｎ　Ｋ　ＭＶ　＜コポリエステル、（ｂｌす・「ロ
ンまたはポリアミド、（Ｃ）ヒニリテンクロリト゛共重
合体、（ｄ）エチレン／ビニルアセテート共ｎ合体、（
ｅ）セル０−スエーテル、（ｆ）合成ゴム、（ｇｌセル
ロースエステル、（）１）ポリビニルアセテート／アク
リレートおよびポリビニルアセテート／メタクリレート
共重合体を含むポリビニルエステル、（１）ポリアクリ
レートおよびα−°アルキルポリアクリレートエステル
例えば、１ミリメチルメタクリレート、ポリエチルメタ
クリ１−・−トおよびメチルメタクリレ−１・／エテル
アクリレート共重合体、（ｊ）約４ｏｏｏ〜１、０００
．　ＯＯＯの平均分子■を有する。−＋５リグリコール
の高分子足ポリエチレンオキシド（ｋ）ポリ塩化ビニル
および共重合体、（１）ポリビニルアセタール、（ｍ）
ボ゛リウレタン、師）ポリカーボネート、（０）ボリス
チレ／その他のような重合体タイプを包含する。

７９１望によりこのツＬ感受性組成物はまた結党１ｃ使
用される波長に本質的に透り」なｕｌｉ混和性東合体状
またｔｊ非血合体状有機光塙剤Ｊた６４１１１強削レリ
えはしＩＪ’　４戊親和性シリカ、ベン（・す−（）、
シリカ、粉末状ガシスおよびコロイドカーボン、ならＯ
−にわＬ々の夕・ｆゾの顔料を含４ｆ　シうる。そのよ
り４″Ｉ勿賀は光感受・ピＥ組成物の所望の性質によっ
てイ重々の（ｊｌでイ史用される。光Ｊｉｌ　ｊ司は組
成」勿の強度の改質、タック（オ占之訝性）６戊少およ
び更に着色ハリとじ−Ｃ南用でりる。開用し９る６Ｓｊ
力１１剤とし−Ｃは染料、着色剤、ｂｌ旧、カー１段１
’ｌ’ｌ　ｓ　Ｌ”＋Ａ度指示１住１じ合物ぞの仙かあ
げられる。

ある拙のポリエンの場合にはロエ塑剤を加え−Ｃ光感受
Ｕ層１ｃ町撓ト（ユを与え、そし−ＣＣ選択的現金容易
ならしめることが望−よしいでめろう。適尚な可塑剤と
しては、ジアルキルフタレート、ポリエチレングリコー
ルおよび開運物質例えば置換フェノール／エチレンオキ
シドアダクト例えばｏ−、ｍおよびｐ−クレゾール、Ｏ
−、ｌ１１−およＵｐ−フェニルフェノールおよびｐ−
ノニルフェノールから得られるポリエーテルがあげられ
る。これらとしては例えばアルキルフェノキシポリエチ
レンエタノールのような市場的に入手可能な物質が包含
される。その他の可塑剤としては・エチレングリコール
、ジエチレングリコール、クリセロ・−・ル、トリエチ
レングリコール、ペンタエリスリトールおよびその他の
多価アルコールのアセテート、プロピオネート、ブチレ
ート、カブリレートおよびその油のカルボキシレートエ
ステル、アルキルおよびアリールポス７エート例えばト
リブチルホスフェート、トリへキシルホスフェート、ト
リオクチルホスフエ−・ト、トリフェニルホスフェート
、トリクレジルポスフェートおよびクレジルジフェニル
ホスフェートがあげられる。

使用前の時期尚早のラジカル反応を阻止するために、光
感受性組成物中には、例えば全光感受性組成物基準で約
α００１〜２％程度の少量の安定剤例えばヒドロキノン
、第６級ブチルカテコール、４−ｙ’ｆルー２＋６−１
ｍ３Ｍブチルフェノール、米国Ｑ！ｊ許第４．１６ａ９
１３２号明細癲のニトロソ二量体阻害剤系、木国特￥［
第４，１６８，９８１号明細省のビス（１４換アミノ）
サルファイド、米ｔｓ＋ｂ許第４．１９ａ２４２号明細
誓のニトロ芳香放光阻害剤その他を包含させることがで
きる。そのような安定剤は熱的酸化または外来＋ｆＬの
放射へのゐｉ元ＶＣより誘発される反応を阻止すること
によって、光感受性エレメントの保存安定性を改善せし
める。

光感受ｆ］ユエレメント その上に光／ｉＢ受性組成物をコーティングさｔして木
兄’ＪＩＪの光感受１・生エレメントを形成する適当な
基ダｔとし−Ｃはガラス、金属／−ト獲たは箔例えば鏑
、フッ１ミニウム丑たはステンレススチール、合成’１
４機４ｆｌＪ脂の７−ト筐たはフィルム、セルロース紙
、ファイバーボードまたし」これう物質の２種またはそ
れ以上のものの複合体があげられる。その他の基質とし
ては木材、布、ノリコンウェーファＮおよびセルロース
エステル例エバセルロースアセテート、セルロースプロ
ピオイード、セ／１０−スブチレートその池があげられ
る。また、種々のフィルム形成性合成樹脂または筋度爪
冶体例えば刊加重自体、’？５にビニリデン重合体にυ
えば塩化ビニル１合体、塩化ビニルまたは塩化ビニリデ
ン（！：塩化ビニル、ビニルアセテート、スチレン、イ
ンブチレンおよびアクリロニ）ｌルとの各共重合体、後
者の重合可能単垣体との塩化ビニルの共重合体、ボリエ
、ステル例えばポリエチレンテレフタレートヲ含む線状
縮合７「合体、ポリアミド例え、げポリへキサメブレン
セバカミド、ポリエステルアミド例えばｉノ？リヘキツ
メチレンアジパミド／アジは一トその他よりなるフィル
ム寸たはプレートもまた適当でｐ〕る。

好ましい活ｌ′ｆはｉ（ケい可撓性の研磨アルミニウム
シート、スチールシート、ｆ’１１Ｕシーと、ノリコン
ウェーファー、配向ポリエチレンテレフタレートフイル
ム、ポリビニリゾ／りａリド共重合体コーティングし、
た配向ポリエステルフィルムおよびゼラチンコーティン
グした配向ポリエステルフィルムでφ）る。ｌＦ、５定
の基り（ｔは一般に意図される使用目的により決定され
る。例えば本発明の光感受性組成物中 にはホトレジストの製造に対して特に有用である。

合成、変性または天然繊維しＵえば綿、セルロースアセ
テート、ヒスコースレーヨンおよび紙のようなセルロー
ス物質を含む充填剤−または補強剤を合成樹脂または重
合体ベース中に存在させることができる。またガラスウ
ール、ナイロンその他もまた有用である。これら補強ベ
ースを積層形態で使用することができる。

この光感受性エレメントは光感受性層の下にハレーショ
ン防止作用物質を有することができる。例、ｔば２！Ｉ
￥質がハレーション防止作用物質を含有していることが
できるし丑たはそれはその表面にそのような物質の層丑
たは基層を有していることができる。使用される場合に
は光感受性層とＭ質との間の中間のハレーション防止層
は基質お」゛び光感受性層に光分な接着を有してい々く
てはならず、そして放射吸収性物質と反応り、−Ｃはな
らない。・・レーション防止顔料としてン」カーボンブ
ラック、二酸化マンカ゛ン、アシッドプルーブラック、
およびアシツドマゼ／り０がめげられる。ノ・レーショ
／防止作用物質に対する樹脂担体はアクリルおよびメタ
クリル酸の共１合体１，１５　リ塩１ヒビニル重合体お
よびビニルアセデート、ジエチルフマレート、エチルア
クリレートその他との共重合体を含むヒ゛ニル化合物の
重合体でありうる。

本発明の光感受１住組成物は光反応の酸素阻害に対して
高い抵抗性金有する光感受性エレメントを与える。高い
写Ｘ、ａ度との組合せにおけるこの現象のＡ店果とじて
空気の存在下でのエレメントの放射への銘光によって満
足すべき像を得ることができる。それに・もかかわらず
真空中で像形成を実施しまたはエレメントに対してトッ
プコートま／Ｌは保護基層を使用するのが時として望ま
しい。そのようなトップコートは活性線放射に透明であ
り、酸素に対して不買的に非透過性でありそして好゛ま
しくは水に透過性であるべきである。適当なコーティン
グとしては例えばポリビニルアルコール、ポリビニルア
ルコ−ル、ゼラチン、゛アラビアゴム、メチルビニルエ
ーテル／マし／イン酸無水物共重合体、エチレンオキシ
ド１合１．ドおよびポリビニルピロリドンがあげられ、
これらは木ＩＵ％許第３，４５８，３１１号および英国
鉤杆第１．１４ａ３６２号および同第１，３０５．５７
８号各芳容１′４Ｊの一つまたはそれ以上により詳細に
記載されている。

この光感受性組成物は通常は担体溶媒中の溶液または分
散液として基質に適用される。この溶液または分散液は
スプレーまたは刷毛塗りすることができるし、ローラー
または含浸コーターにより適用することができるし、表
面に流すここができるし含浸ビックアブまたはその他の
適当な手段で基質に適用することができる。次いで溶媒
を蒸発させる。一般に通常の圧力でワ（ｆ発性の溶媒が
使用される適当な溶媒としてはアミド例工ばＮ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミドＮ　、　Ｎ−ジメチルアセトアミド
、アルコールふ・よびエーテルアルコール例，ｔ　ハメ
タノール、エタノール、１−プロパツール、２−−／ロ
ブぞノール、ブタノール、エチレンクリコール、１，２
−ジメトキシエタン、２−ブトキシェタノールおよび２
−エトキシエタノール、エステルレリえばメチルアセテ
ートおよびエチルアセテート、芳香族炭化水素例えばベ
ンセン、０−ジクロロベンセ／およびトルエン、ケトン
例えばアセトン、２−ブタノンおよび３−はブタノン、
脂肪族炭化水素例えば１，１．１　−　トリクロロエタ
ン、メチレンクロリド、クロロホルム、　　１，１．２
　−　トリクロロエタン、１　、１　、２．２−テ（・
ラクロロエタ；／、ｉ，’１．２　−　トリクロロエタ
ン、種々の溶媒グｊえばジメチルスルホキシド、ピリジ
ン、テトラヒドロ７ラン、ジオキサン、ジシγ〕７りロ
ブタン、Ｎ−メチルピロリドンおＬび／＃　７１．Ｖ　
（１１−達成するに必要なＨｉｌｔ々の比率のこれら浴
憑の混合物７５にあげられる。

光画像形成法 本発明の光感受性組成物およびエレメントを活性線放射
１ｒ．像ｊ５＞’．　ｉ＆光させる。心光ｔ：Ｉ好まし
くは像含イｊ１ｈ明体を通して行われる。適当な放射光
源と１７−ｒ．　ｋ′ｌ）ｉＴｈ常の太陽光線および入
１光源秒１」えば太１〜〜冒ｌ、・ｇルス式および連続
キセノンフラッシュランプ、タングステンーノーロゲン
ランプ、殺菌灯、將定的に短い波長（２５３７λ）の放
射を与える蓄外勝ンンプυ工ひ、５６ＬＩＬＩＡ，　４
１Ｌｌυハ、４５００Ｘま７ｃｌＣｌ！ｊＤＤＯλＫ　
中心＜７）　９　ル１ｒＪｔ、、　イカ６るいＶ」広い
パンＩ・のより長波長の放射を与えるランプ例えば螢光
灯、水釧灯、金１４アティディブラ／プおよび１−り幻
′７）ｉあげら７１．る。アルボ７　クロー　ラフ　フ
、写真フラッドランプ、レー薯ノ゛−および螢光放射源
例えば陰極線管表面のトレー７ングも一！た使用できる
。電子加速機およ□・？ａ子ビーム源を適当なマスクｔ
（通したものも１だ適当である。こ）Ｌらの中で、水銀
蒸気ランプ、！侍ンζ太陽灯−：したは「ブラックライ
ｈ　（ｂｌａｃｋ　ｌｉｇｈｔ）　Ｊタイプ、螢光太陽
灯、キセノンフラッシュランプおよびタングステン−ハ
ロｉンランプが最も々７止しい。

放射蕗光時間は１史用される放射の強度およびスベクト
ルエ；トルギー分布、その元感受性層〃・らの距離およ
び層中の光感受性成分の性質およびｉ迂によって数分の
１秒から数分に変動させうる。通常はンＹ：　Ｍ合性層
から約１．５〜６０インチ（６，８〜１５３ｃ＋＋＋）
の距離が使用される。露光湿度はｌ詩に臨界的ではない
。しかしながら大約常湛祉たはそｈ　、ｉり少し高い湿
度すなわち約２ｏｏ〜５０℃で操作することが好ましい
。

＠仔露光は便利には光重合性エレメントをプロセス透明
画すなわち使用される放射に対して実質的に同一ツＣ学
濃度でありうる実質的に不透明の部分および実質的に透
明な部分よ＃）なる像含有透明体例えばいわゆるライ／
”またはハーフトーン陰画または陽画を通して活性線放
射に結党させることによって実施される。適当なプロセ
ス透明画としてはまた、グレードつき範囲の不透８Ａ＠
ｊ（分を有するものしυえは連続１・−／陰画があげら
れる。プロセス透明画（ｐｒｏｃｅｓｓ　ｔｒａｎｓｐ
ａｒｅｎｃｙ）はセルロースアセテートフィルムおよび
ポリエステルフィルムを含むいずれかの適当な物質から
構成さ７″Ｌうる。

露光伎、現像−Ｊ−る。現像ｔ」９４色（トナー処」」
、ｔｏｎｉｎｇ）すなわち粘着性部分に選択的に接着す
る倣細な顔料の散粉により、または染料吸収により、ｉ
　ｌ’ｃ　ｋｉ拡散の０１′（節ンこより実施すること
ができる。しかしながら一般には崩光部分に相当する／
ｉｆ部分は［Ｚ！ｌえはホトレジスト適用においては除
去せしめられる。この後者の現隊法は加圧転写、バ光部
分／未露光部分の接着性差、ビールアパート転写の使用
゛または好ましくは溶媒洗去（ｓｏｌｖｅｎｔ　ｗａｓ
ｋ＋ｏｕｔ）　Ｉ／Ｃより達成することができる。現像
に使用される溶媒液体ｅ」、組成物の結党酸性部分では
良好碌溶媒作用を有し、かつ未篇光部分では蕗光部分の
除去に硬水される時間内にはほとんど作用を有していな
いものであるべきである。

現像溶媒としては水性塩基または水溶性有機溶媒をち５
加した水性塩基を使用することが好ましい。適当な溶媒
混合物としては水酸化ナトリウム／イソプロピルアルコ
ール／水、炭ａすトリウム／水、炭酸ナトリウム／２〜
フトキシエタノール／水、硼酸ナトリウム／２−ブトキ
シェタノール／水、珪酸ナトリウム／２−ブトキシェタ
ノール／ダリセロール／水、おより　炭ｈナトリウム／
２−　（２−ブトキシエトキシ）エタノール１．・′水
／３（あげられる。選ばれるｌ時定の溶媒組合せを１轄
光されたポリエンの物理的性質およびカルボキシル含量
に依存する。

溶媒現像は約２５℃で夾施しつるがしかいν良の結果は
溶媒が３０’〜６０”Ｃの場合に得らｉｌ、る。

現保時間ｉ−ｉ変動させつるかしがしこｎは通常は約０
．５〜１５力である。像が形成される現像段１偕におい
ては、溶媒は任意の便利な方法し０えば注入、浸漬、ス
プレーまたはローラー適用にょって適用させることがで
きる。スプレーが好ましい。その理由はそれは組成物の
結党部分の除去をも助けるからである。

活１：１：線放射・＼の本発明の光感受性組成物の露光
は結党部分によ・いてポリエン中の反応性不飽和炭素−
炭素基へのメルカプト酸のメルカプト基の伺加を生ぜし
めて酸基を含有する変性重合体を生成させる。例えば水
性アルカリによる溶媒洗去による現像Ｈ酸含有重合体の
容易な溶解を与えて可溶化部分が露光部分に相当する直
接陽画像を与える。本発明の光感受性エレメントは良好
な光化学効率（良好な像形成速四゛）を与える。一 本発明の５ｕ感受ｔＬ組成物および工Ｌ７メントの１生
能に影響を与える多くの贋々相互に関連する要因がある
。それらの中で殊に重要なのはポリエン、メルカプト酸
および開始剤の選択、ポリエ／の分子量、ポリエン／メ
ルカプ）　Ｍ　／　Ｄｉｎ始剤の相対影は度、現保条件
およびｏｌ塑剤を含む添加剤の選択などである。性能を
最適ならしめる目的ならば、判定のポリエンを選択する
Ｋはその分子■および（または）使用すべきメルカプト
酸の選択に注意を要することがある。例えば、ある褌の
分子量のエチレンの共］ｉ重合体基づくポリエンを使用
した場合光分な現像が？ｔＪられ々いことが判った。か
かる欠点を克服する一つの方法は約１．０００〜５．０
００の比較的低い分子′Ｍ範囲のポリエンを使用するこ
とである。いずれにしても、本明細鵠の開示に基づいて
本発明の有用且つ効率的な光感受性組成物およびエレメ
ントを１１造するにあたって当業者は何等困離に遭遇°
Ｊ−ることはないであろう。

下記は本発明の説明例であるが、ここに特記されていな
い限りはすべての部および襲はＪｉｆｆｌ基準でありそ
してすべての度は摂氏度である。

実施例で使用された多くの不飽和Ｎ−アルケニルマレイ
ミド共共合合体、指定されたアルキルアミンを無水物基
を含有する適当な重合体と方法Ａによって反応せしめる
ことによって調製された。実施例７および８は好ましい
態様を示す。

〔方法Ａ〕

凝縮器および分液漏斗を備えた１００ｍ／のろ頚丸底フ
ラスコに、無水物共重合体１０ｊｉおよび氷酢酸５０ｍ
１を入れた。フラスコを窒素で・セージしそして存在す
る無水物基に基づいて１．２当量のアミンを室温で滴加
した。発熱反応が静まったら、反応混合物を３時間還流
加熱した。重合体は加熱期間の間に溶解した。浴Ｃ液を
室温゛まで冷却（７，２，６−ジ第６ブチルー４−メチ
ルフェノール５　ｍｇを加えそして反応混合物を水４０
’Ｄｍｌ中にゆっくり注いだ。沈殿した重合体をヂ過Ｖ
Ｃより分離し、水洗しそして風乾した。重合体を約２０
０〜３００　ＪＩＩＪのアセトン中に溶解しそして１１
Ｉ尚り５１１／の塩酸を加えて酸性にした水中に再沈殿
さ、ＩＦｌｔ為得られた刀１１合体を戸紙上で一夜乾鰍
さ−１１−イ」、゛（最後に室温で直空下に乾燥させた
。ｌ【合体ＩＪ　ｉＲ，ＮＭＲおよび元素分析によって
！１倣づけられた。

方法Ａによって製造された川、分体を表１に示す。

Ａ　　　　　（’Ｌ）　　　　１／９アリル／プロピル
　　４゜０（２１９５Ｂ　　　　（］、＋　　　９Ａγ
リル／ドデシル　３．７　　　９６０　　　　　　　　
　（：Ｓ））　　　　　　フ′　リ　ル　　　　　　　
　　　　　　　　　′ろ、１　　　　　　　　９９ｐ゛
（１）　　　　２−メチルアリルアミン　　４．６　　
　　　９４Ｇ　　　　（５）　　１／Ｉｆリル／プロピ
ル　６．ＯＬｌ　　　’　　８３Ｈ（１１アリル　　　
　　　　（４） 工（６）　　アリル　　　　　５．５　　　７１（４）
　ＮＭＲは構造と一致する。

例　　１ Ｎ−１リルマレイミド共重合体の製造 アリルアミンＺ１Ｐを１０分かけて簡加しながら、市販
のスチレン／無水マレイン酸共重合体（１ｉ１モル比、
河ｎ１６００）２５−Ｐおよび氷酢１波２５０ｍ１の混
合物を窒素下に攪拌した。次に混合物を１１４℃で２時
間加熱した。透明溶液を冷却し、２，６−ジ第３ブチル
−４−メチルフェノール（１，１２５９で処理しそして
攪拌しながら約２５００＃ｌ／の水に加えた。沈殿した
重合体を濾過し、洗浄し、約７００ｍ１のアセトン中に
再溶解しそして１１当ｆｌ１１０次／の製塩「浚で酸性
にした過剰の水に再び沈殿させた。イυられた重合体を
Ｊ（突上に一定の重量に乾燥させた。１ｑ−アリルマレ
イミド重合体が］ｊ　４ｉ　２５．４２の白色粉末とし
て得られた。赤外スペクトルは１７０５ｃｔｎ−’およ
び１７７５ａｔｌ　でイミドの吸収を示しそして／Ｉ’
−５に無水物またはアミドの吸収はみられなかった。ま
た、ｎｍｒスはクトルはスチレン／Ｎ−アリルマレイミ
ドの構造と一致した。窒素分析およびｎｍｒスペクトル
はＭ？水１勿基の１９−アリルマレイミド基への約７５
％変換率を示しそしてａ＋＋ｑ水物単位の残りに対して
完全な加水分解が示された。実６１１１値Ｎ　４．３　
Ｅｌカ。

光感受性＋ＦＪ１成物の製造および使用光感受・Ｉｉ、
　Ａｌｌｌｌ成核覆液を次のようにして調製（７だ。

Ｎ−γリルマレイミド共重合体　　　　　　１．００９
１１−メルカプトウンデカンｉｌ　　　　　　　［１１
９Ｐべ／ジルジメチルケタール　　　　　　　　０．１
５ノエゾーレンクリコールジ力フリレ　　　　　　［１
０４９−トロ」塑剤 ベンゾトリアゾール　　　　　［１，００４９０，１，
ソルベント赤色染料　　　　　　　［１００４９す１０
９ イＧられた透明々溶液を８ミル（２００μｔｎ）のドク
ターナイフを用いて２５μｍの配向ポリエステルフィル
ム基体に被覆した。被覆フィルムを５５℃の空気炉中で
３０分間乾燥して厚さ約３８μｍの被覆を与えた。次に
、フィルムと板とを機械駆動式ロールラミネーターに１
２０°／　２，５　ｆ、ｐ、＋ｎ、で通して。塗膜茫新
たに軽石研磨したブランク銅積層板にｉｆ＜層した。

、　被伏板の試料を真空焼枠中の６階段〈８ひプロセス
透明画を通して、ろ６ｏｏｕ〜４５ｏｏＡのスペクトル
範囲に及ぶハロゲ′ン化金（為ランプからの照射に、６
８　ｃｍの距＃ｉｌｔ、で２２煩位の照射線量と透り１
両の／ＩＮ　’）ｌ（：而に入射する１　９０　ｍｊ　
１０ｎ２の積１ヤニ光強度に４１１当する時間の間露光
した。ボリエスヴルカバーシートを除去しそしてｊＳ光
パネルを水２７００ｍ１．２−　（２−ブトキシェトキ
ソ）エタノール３００９および炭１１！２すトリウム２
４ノから１ｌＡｌ　製した溶液を用いてろ５°／４５ｐ
ｓｉ（３１０ｋｐａ）で噴ａ現イＩミした。現像中板を
噴バノズルから２７（１）の距＃ｋにおいた。１分後、
パネルの露光部分の段ＦＷ’　７　（３Ｄ　ｍｊ　１０
ｎ２）　ヘの現像を銅表ｒＭｉ　址Ｔ　行った。

被覆板の第２の試料を上述のようＫ　Ｌ、て露光しそし
て同じ■！作で２分間現像した。パネルを５５℃で５分
間乾燥しそして露光さノ’した銅を６０℃の塩化第二銅
浴中で５分間ファイバーグラスの実利（バッキング）か
らエツチングし／ヒ。次ｔＣ、エツチングさｒシ／こ板
をプロセス透り」画を通してさらに２２単位のｉ！ｉ（
射に再露光しそしＣ１４光された板を再び２分間現像し
た。第２の黛光ｆ１；３分のＩｌｌ像を表面祉で行った
。どの実験は、現像お」：ひエツチング後に未露光組成
物がい−まな、Ｊ・・機能を果たすので光感受性核種が
アドオン（ａｄｄ−ｏｎ　）能力を有することイ〔示し
ている。鮎ブｅされたｆ睨はすぐｈた接着性どエツチン
グ抵抗・匡を示（７た。

例　２ このＵ・υは全水注視１′８′液に」：るＷ、像をパす
。

光感受性組成物の２５係固形分被援液を次のよつｅζし
て調製し九〇 例１のＮ−アリルマレイミド共　　　　　　ｉ、　ｏ　
ＯＰ重合体 １１−メルカプドウ７デカ／赦　　　　　　□、３ａｙ
ベンジルジメチルクタール０．１０９ エチレングリコールシカフリレート０．１２．ｉ？ベン
シトすγゾール　　　　　　ＱＯＤ４ＰＯ、、Ｔ　、　
７　ルヘ７　）赤色染料　　　　　　　０．００４Ｐ÷
１０９ 組成物を例１に述べたようにして被覆踵乾燥し、銅板に
積層しそして露光した。板を水３０００ｔｎｌおよび炭
酸ナトリウム３０Ｆから調製した溶液を用い（’、　！
ｊ　ｊ１０／　３１　Ｄ　ｋＰａ　”’Ｃ噴技現像した
。３分後、バーネルの露光部分の段階４　（８７！ｎｊ
　７ｃｍ２）への現像を銅表面まで行った。例１で用い
た溶液での６５°／３１０ｋＰａにおける現像は１分後
に階段１３（１１ｍｊ／ｃ１ｎ２）ま、での現像を与え
たが、未露光部分の溶剤によるいくらかの攻撃が認めら
れた。

例　　３ 光感受性組成物の被ＪＪｉ液金次のようにして調製した
。

メルカプトこｔｊ＜敵　　　　　　　　　　　　［１３
［：ｌタベ／ジルジメチルク゛タール　　　　　　　　
０．１０９パラゾレツクス■Ｇ−３０Ｇ、０８Ｐ 可塑剤 べ／ソトリブゾール　　　　　　（１００４９Ｃ、Ｉ　
、ソルベント赤色染料　　　　　　α００４９１１［］
９ 組成物を例１に述べたようにして検校し１、乾燥し、積
層し、露光しそして現像した。４分後、階段３　（１２
０ｍｊ　／ａｒＪ２）までの板の露光部分の現像は銅表
面まで完全であった。

被覆板の第２の試料全身＾光し、現像し、エツチングし
そしてプロセス透明画を通してさらに２２単位の月６射
に再」に光した。結党板は例１に述べたようＶζ１−で
２分間現イ争されそして第２の露光部分のｙｌ、像は表
面まで完全であった。エツチング後、被覆は端部がぼる
ほろになりかくしてｐＨ’　ｉの被覆、１：リエッチン
グ剤に対する抵抗が小さかった。

例　　４ 調合にエチレングリコールンカプリレート０．１０ノ、
ベンゾトリアゾール０１２２および２，６−ジ第６プチ
ルー４−メチルフェノール０．０１２２を用いた以外に
は、例２に述べたようｔでして光感受性組成物の２５ｅ
１６固形分被ｔＪ液を調］１１゜た。組成物を例１に述
べたようにして被覆し、乾燥し、積層しそして露光、た
。２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール１２０ｍ１
と炭酸ナトリウム３０Ｐおよび水２９７０ｍ／から調製
し／こ溶液２８８０ｍ／とを混合して調製した１６液を
用いて板を４０°／３１ＱｋＰａで１穴霧現像した。１
分後、１偕段４（８７ｍｊ　／ｃｎｒ２）　°までの板
のパ光バ［１分の現像は１伺表向まで完全であった。第
２の像形成を９１Ｊ１に述べたようにして試験した場合
被覆は良好なアドオン（ａｄｄ−ｏｎ　）能力を示した
。

例　　５ アルミニウム基体を次のようにして用いた。

調合にエチレングリコールジカプリレー）（１１０）を
用いた以外には例２に述べたようンこして光感受性組成
物の２５％固形分被覆液を調製した。

組成物を被覆し、乾燥しそして」直面で研磨したアルミ
ニウムシート上に積層した。局光および４０’／３１０
ｋＰａにおけるり（春現像を例４に述べたようにして行
った。１分後、ＩＶＶｂｂ（４２ｍｊ／Ｃ１ｎ２）　ｉ
−Ｃの板の露光部分の現像ｉｆアルミニウム表面丑で完
全であった。

例　　６ 光感受イ′１２組成物の被覆液を次のようにして調製し
／ｃ０ １１−メルノｌシトウンデカ／酸　　　　　　０．２０
９メルカプトこはく酸　　　　　　　　　ｏ、ｉｏ９エ
チレング刃コールシカプリレート　　　　　　　　　ｏ
、ｉｏＰべ／シトリアゾール　　　　　　０．００４ノ
例４に述べたようにして組成物を被覆し、乾燥し、積層
し、μに光し７そして現像した。２分後、階段５（５７
ｍｊ／ｃｍ２）までの板の露光部分の現像は銅表面“ま
で完全であった。第２の像形成を例１に述べたようにし
て試験した場合、被覆はかなりの１１・′−オン能力を
示した。

例　　７ 調合にベンジルジメチルケタール０．１５Ｆおよびエナ
レングリコールジカプリレート０．１０５１を用いた以
外Ｋ　ｒｊ　、レリ２に述べたようにして光感受性組成
物の２５偵固形分被覆液を調製した。

例４に述べたようにして組成物を被覆１２、乾燥し、積
層し２、Ａ真先しそして現像した。１分後、階ｍ　４　
（ａ　７ｍｊ／ａｎ２１までの板のμＸ光部分の現像は
銅表面まで完全であった。

第２の未Ａ〆光板を現像液で２分間、４０°／３１０ｋ
Ｐａ　において噴務現像し、６０℃の塩化第二銅エツチ
ング浴中へ３分間浸漬し次Ｋｖ’７階段くさびを通して
例２　ｐｃ述べたようにして露光した。

配向ポリエステルフィルムカバーシートを露光の間被覆
と階段くさびとの間に挿入し／こ。次に、板を噴修現像
して組成物の感光連層を決定した。

１分後、階段５　（５７ｍｊ　１０ｎ２）−１での板（
７）　ｆｉｇ　光部分の現像は銅表面まで完全であった
。これは組成物のγ１・−オン感光速度が最初のプリン
）−エッチ像を作成するために用いらｉｚだ処理段階に
よって実グ“遠的に変更されないことを示している。

第６のパネルを解像ターケ゛ットを誦１．て１０単位（
８７ｍｊ　７ｃｍ２）の照射に儲光しそして上述したよ
うにして現像した。２ミル（５１ｔｔｍ　）の線および
間隔の解像力が達成された。続いて、被接の′アンダー
カッティ／り捷たは接着損失を伴なわずに、露光された
銅を６０°の塩化第二鉛ｊ浴中でパネルからエツチング
した。

［ンリ　　８ Ｎ−アリルマレイミド共重合体の製造 市販のスチレ／／無水マレイン酸井重合体（２ｉ１モル
比、乳、１７００）２５ｊｉ、氷酢酸２５〇−およびア
リルアミン４．６５９の混合物を調製しそして例１で共
重合体について述べた方法によって処理した。全体で２
３．４．！ｊの乾燥Ｎ−７リルマレイミド共重合体が得
ら瓦た。赤外スペクトルは無水物またはアミドの痕跡量
の吸収を示した。窒素分析およびｎｍｒスペクトルは無
水物基のイミド基への約８５チ変換率を示しそして無水
物単位の残りに対して完全力加水分解が示された。実６
１り値Ｎ　３．３４％。

光感受性組成物の製造および使用 光感受性組成物の２５％固形分被覆液を次のようにして
製造した。

Ｎ−アリルマレイミド共重合体　　　　　　１．０Ｏｊ
ｉ１１−メルカプトウンデカン酸　　　　　　０．３０
ｊｉベンジルジメチルケタール　　　　　０．１５Ｐエ
テ：／／グリコールシカプリレート　　　　　　　　　
（１１ａｙ２．６・−、；ｒｌ＋　３ノナルー４−メチ
　　　　　α００４９ルフニ１．ノー　、７レ ベンゾ・トリアゾール　　　　　　α００４９Ｃ１■、
ソルベント赤色染料　　　　　　α０Ｏ４Ｐす１０９ 組成物を例４に述べたようにして被覆１−１乾燥し、積
層し、露光しそして現像した。１分後、パネルの露光部
分の階段５　（５７ｍｊ／ａｎ２）’１での現像は網底
１０１壕で完全であった。

第２の末席光パネルを例７に述べたようにして予現像踵
エツチングし、露）′ｃしそして現像した。２分後、パ
ネルの露光部分の階段６（４２ｍｊ　／ｃｍ’　）まで
の現像は銅表面まで完全であった。

現像時間１分後、段階損失のない部分現像だけが認めら
れた。

Ｍ３のパネルを上述したようにして解像ターゲットを通
して１０単位（１８７ｍｊ／ｃＩｎ２）の照射に露光し
そして現像した。３Ｊｔ像１分後、２ミル（５１μｍ）
の線および間隔が認められた。被株のエツチング姐抗巳
およｒｔ接着性は例７に述べた被徨と同様であった。

例　９〜１４ 光感受性組成物の被覆液を次のようにして調製した。

表１に記載した表示の共重合体　　　　　　１００９１
１−メルカプトウンデカン酸　　　　　　０．３０９ベ
ンジルジメチルケタール　　　　　　　　　　　　ｎｉ
ｓ、ｐエチレンクリコール）カブ）レート　　　　　　
　　　Ｑｌ　０Ｐベンツトリアソール　　　　　　０．
００４ＰＣ，■、　　ソルベント赤色染料　　　　　α
ｏｏ４ｐす１０９ メチレ／クロライド／メタノ−４゜６０Ｐル（９０／１
０）溶剤 組成物を例１に述べたようにして被ｕし、乾燥し、銅板
にｔｙｔ層しそして蕗うＬした。現像後、追加（アト・
７ｊ／）像の解ｎ力、エツチング抵抗性および感光速波
を・列７に述べ／ζようにして６＋１Ｊ定した。Ｊｌｉ
像力および１酎エツチング住の測定のために露光された
検校パネル（第６のパネル）を例９、レリ１〔］、１３
’！ｌｉｔおよびレリ１４における１３０ｍｊ／１１１
１２の光強度および例１２お上び例１６に対する８　７
　’ｍｊ　／　ｃｒｎ２の強度に相当〜する時間ｋ（５
Ｙ：　した。

これらの結果を表２および３に示゛Ｊ−０表　２ ９　　　　Ａ　　　　（１）　　　　　５　　　４　（
８７）１０　　　　Ｂ　　　　（１７１，６（４２）ｉ
　　１　　　　　　　　　　Ｄ　　　　　　　　　　　
（２）　　　　　　　　　　　　　３　　　　　　　　
　　３　　　（１２０）’＋２　　　１）　　　　＋２
）　　　　　１　　　７（３０）１３　　　　Ｉｌｌ　
　　　（２ｉ　　　　１　　　６（４２）１４　　　　
ｍｌ’　　　　（１）　　　　　１　　　４（８７）表
　　３ 追加像 ９　　　　　’　　４　　　　６　　（４２）　　　１
３０（１１良好１０　　　　　１（２＋　　　　５（５
７）　　　　５０　　　　　良好１１　　　　５　　　
５（５７）　　　１１（１）１２　１１．５　　（Ｚ）
　　７５　−１３　　　　　１（３）　　　　　　５０
　　　　　　良好１４　　　　１．５　　　　６（４２
）　　　　５０　　　　　良好（］）すすぎの間層１い
線は洗去された。

（２）未Ｊｊｇ元パネルを２分に代えて１分間予現像し
た。

（３）　　現で象中彼桂は洗去し友。

例　　１５ 光感受性組成物の被覆を次のようにして調製共１！ｆ合
体ｏ　　　　　　　　　　　１．　ＯＯｆｌｌ−メルカ
プトウンデカン［［１，３０／ベンジル、ンメチルケタ
ール　　　　　　　　０．１５Ｐエチレングリコールシ
カプリレート　　　　　　　　　０．１２り２．６−ジ
第６プテルー４−メチ　　　　　［１００４９ルフエノ
ーノ１／ ベンゾトリアゾール　　　　　　［１Ｏ０４ＰＣ，１，
ソルベント赤色染料　　　　　０．［Ｊ［］４ノ・−１
０９ 組成物を例１に述べたようにして被覆し、乾燥し、７１
１・１板に積層しそして２０°Ｑｍｊ／ａｎ２の積算光
強度に相当する照射線ｍＫ露光した。２−（２−ブトキ
シエトキシ）エタノール１２０ｍ／と炭酸ナトリウム６
０９および水２９７０ｍ１から調製した溶液２８８０＋
ｄとを混合して調製された溶液を用いて板を室湛乙３１
１１　ｋＰａで噴霧現像した。５０秒後、階段２までの
・ξネルの線光部分の現俸妙；認めらノｔだ。

）ンリ　　　１６ 光感受ロニ九ｌ」酸物の・披￥ｉを次のようにして調製
した。

共重合体Ｈ１，００、Ｐ ｌｌ−メルカプトウンデカンｔ’Ｒ［１２２，Ｐベンゾ
フェノン　　　　　　　　［１，１８７ミヒラーのケト
ン　　　　　　　　　　０．０２ノノン エチレングリコールジ力ゾリレート　　　　　　　　　
０．１２Ｐべ／シトリアソール　　　　　　　Ｑ、ＤＤ
４ＰＣ，Ｌ　　ソルベント赤色染料　　　　　［３，０
０４５１す１（Ｊ９ 組成物を例１に述べたようにして被覆踵乾燥し、ｆｌ「
ｌ板Ｋ　８を層しそしで２００　ｍ　ｊ　／ｃ１ｎ２の
積算光強度に相当するＨ！＋射紳ｌｆ１にふ６元した。

２−（２−ブ′トニ〜・ソエトキシ）エタノール１２０
ｍｌ　トＭｔｒ’＆ナトリウｌ、６うｏ２および水２９
７０ｍＪがら調製した浴液２＋１８０＋＋／とを混合し
て調製された溶液を用いて板ヲ３５°／３１０ｋＰａで
”Ｒ２’を現ｉＭ４　した。２分後、この現像ｔ」基４
ｊノ咬で完全に６し去され７）いレリーフ像を生じた。

例　　１ノ 光感受付組成物の被覆を次のようにして８１１表した。

共垂ｒｌ’　１１’　　　　　　　　　　　　　　１．
０　［）　９１１−ノル？ノゾトウンテカンＩＤｒ　　
　　　　　０．２０９Ｌべ、／ツルジメチルケタール　
　　　　０１５．ｐベンゾトリアゾール　　　　　　　
０．００４ＪｌＯ，１，ツルくント友自沖す鋤、１斗す
１０９　　　　　　　　　　　　　　Ｑ、００４りアセ
ト／溶剤　　　　　　　　　２．７７Ｐ組成物を例１に
述べたようにして被覆し、乾燥し、銅板に積層し、露光
しそして現像した。

６５°で６０秒間現像後、可視像が認められたが、大部
分の段階が洗去されていた。

舶許出１ｉｉ口人　　イー・アイ・デュポン・ド・ネモ
アース・アンド・コンパ二一

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）次の成分すなわち （１）成分（１）、（１１）および（ｌｉｉ）の全重量
   の約１０〜９０襲の、約１．０００〜２５，０００の数
   平均分子量を有し、しかも （ａ）　　ポリエン１００２尚り約２０〜＋、　０００
   ミリ当足の反応性不飽和炭素−炭素基と（ｂ）約１０〜
   ９０モルチのＮ−フルクニルマレイミド単位（ただしア
   ルケニル基は約３〜１８個の炭素原子を含有するもので
   ある）とを含有するポリエン、 （１１）成分（１）、（１１）および（冊の全重量の約
   ５〜５０チの反応性メルカプト酸、および （ｌｉｉ）　　成分（１）、（１１ンおよび＜１ｆｆ）
   　（７）全！ｔｏ約［１１１〜５０％の、活性線放射に
   よって活性化されてポリエンへのメルカプト酸の伺加を
   開始せしめうる放射感受性ラジカル生成系 を包含する光感受性組成物。 ２）ポリエ／が一−Ｈ２および一０Ｈ＝ＯＨ２より選ば
   れた少くとも１個の基を３有している、前記特許請求の
   範囲第１項記載の組成物。 ３）ポリエンが、実質的にスチレン、α〜メチルスチレ
   ン、ｐ−クロロスチレ、／、ｐ−メチルスチレン、ｐ−
   ブロモスチレン、メチルアクリレート、エチルアクリレ
   ート、メチルメタクリレート、アリルメタクリレートお
   よびブチルメタクリレートからなる群の少くども一員、
   　フタジエン、エチレン、メチルビニルエーテル、エチ
   ルビニル、エーテル、イソフロビルビニルエーテル、２
   −エチルヘキシルビニル１−７−ルおよヒプチルビニル
   エーテルとマレ・ｆン酸無水物との共産合体から８か等
   されたものである、前記特許請求の範囲第２項記載の組
   成物。 ４）ポリエンが実質的にスチレ／とマレイン酸無水物と
   の共ｆｆ７合本のＮ−アルケニルマレイミド肋導体から
   なる前記ｌ特許請求の範囲第３項り己市Ｉシの組成９勿
   。 ５）ポリエンの分子鼠が約４．０００〜ｉｎ、ｏｏｏで
   ありそしてポリエン１００２当り約５０〜５００ミリ当
   Ｈの反応性不飽和炭素−炭素基が存在している、前記Ｑ
   ！ｊ　ｉｆ梢求の範囲第１項記載の組成物。 ６）メルカプト酸がメルカプトカルボン酸である、前記
   特許請求の範囲第１項記載の組成物。 ７）メルカプト酸がＨＤ−Ｒ−００２Ｈ（ただし、Ｒは
   未（ｉ換のまたはカルボキシルないしアルコキシカルボ
   ゛ニル基で置］美された１〜１８　＠の炭素原子を有す
   るアルキレンである）の構造をもちそ１．゛ＣＣフジル
   生成系がベンゾインエーテルを包へ゛１．ている、前記
   特許請求のＲ１１）四組５項記載の組成物。 ８）メルカプト酸が１１−メルカプトウンデカン酸であ
   りそしてラジカル生成系がベンニンルジメチルケタール
   化合物である、前記１特許請求の範囲第４項記載の組成
   物。 ９）ラジカル生成系が４−メチル−４−トリクロロメチ
   ル−２，５−ンクロヘキサジェノン、インシフエノンお
   よびミヒラーのケトン（Ｍｊｃｂ−１０ｒ′日ｋｏｔｏ
   ｎθ）を包含する前記特許請求の範囲第４項記載の組成
   物。 １０）前記特許請求の範囲第１項記載の光感受性組成物
   でコーティングされた基質を包含する、光感受性エレメ
   ント。 １１）前記特許請求の範囲第１０項記秒の光感受性エレ
   メントを活性線放射に像様露光させそしてその像を現像
   させることを包含する、光画像形成法。