KR970016761A - 건식식각이 가능한 포토마스크 제조방법 - Google Patents
건식식각이 가능한 포토마스크 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
건식식각이 가능한 포토마스크의 제조 방법에 관한 것으로, 차광막과 감광막 사이에 상기 감광막 및 차광막과의 식각 선택비가 큰 중간식각저지막을 형성하고 상기 차광막을 건식식각하기 이전에 세정을 실시하여 종래의 포토마스크의 건식식각법이 가지고 있는 파티클 제거의 곤란 및 선폭제어의 곤란을 제거할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2a도 내지 제 2c도는 본 발명에 따른 포토마스크 제조 방법을 나타낸다.
Claims (2)
- 반도체 장치의 포토마스크의 제조 방법에 있어서, 반도체기판 상면에 차광막, 중간식각저지층 및 감광막을 순차적으로 형성하는 단계, 상기 감광막을 노광 및 식각하여 감광막 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광막 패턴을 마스크로 이용하여 상기 식각저지층을 건식식각하여 식각저지층 패턴을 형성하는 단계, 상기 감광막 패턴을 제거함과 동시에 세정하는 단계, 상기 식각저지층 패턴을 마스크로 이용하여 상기 차광막을 건식식각하는 단계, 상기 식각저지층 패턴을 제거하고 포토마스크 패턴을 완성하는 단계를 구비함을 특징으로 하는 반도체 장치의 마스크 제조 방법.
- 제 1항에 있어서, 상기 중간식각저지막으로 이산화실리콘 및 질화실리콘 중의 어느 하나임을 특징으로 하는 반도체 장치의 마스크 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950031051A KR970016761A (ko) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 건식식각이 가능한 포토마스크 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950031051A KR970016761A (ko) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 건식식각이 가능한 포토마스크 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970016761A true KR970016761A (ko) | 1997-04-28 |
Family
ID=66615769
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950031051A KR970016761A (ko) | 1995-09-21 | 1995-09-21 | 건식식각이 가능한 포토마스크 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970016761A (ko) |
-
1995
- 1995-09-21 KR KR1019950031051A patent/KR970016761A/ko not_active Application Discontinuation
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