KR960017678A - 새로운 선스크린제들, 그것을 함유하는 광보호성 화장용 조성물과 그 용도 - Google Patents

새로운 선스크린제들, 그것을 함유하는 광보호성 화장용 조성물과 그 용도 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 공통 특징으로서 아크릴레이드 또는 아크릴아미드 관능기를 함유하고 있는 적어도 하나의 벤조트리아졸 단위를 갖는, 짧은 사슬의 선형 혹은 고리형 디오르가노실론산형 또는 트리오르가노실란 형의 새로운 화합물들, 더욱 특별하게는 자외선 복사(UV-A 및 UV-B)에 대해 피부 및 모발의 보호를 위한 화장용 조성물에서 유기 선스크린제로 사용할 수 있는 새로운 화합물들에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 화합물을 함유하는, 성질이 개선된 화장용 조성물에 관한 것 일뿐만 아니라. 그 화합물을 상기의 화장품으로 이용하는 용도에 관한 것이기도 하다.

Description

새로운 선스크린제들, 그것을 함유하는 광보호성 화장용 조성물과 그 용도
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (25)

  1. 다음의 식을 갖는 화합물:
    또는
    또는
    〔식(1) 내지 식(3)에서 : -기 R은 (동일하거나 서로 다를 수 있음) C1-C10알킬, 페닐 및 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼에서 선택되고, 라디칼들 R의 수로 환산하여 80％ 이상은 메틸이고, -기 B는 (동일하거나 서로 다를 수 있음) 상기의 라디칼들 R과 아래에 정의한 라디칼 A에서 선택되고, -기 R′은 (동일하거나 서로 다를 수 있음) C1-C8알킬 라디칼들 또는 페닐 라디칼들에서 선택되고, -r은 0과 50을 포함하여 0과 50사이의 정수이며, s는 0과 20을 포함하여 0과 20사이의 정수이고(단, s가 0이면, 기호 B 2개 중의 하나 이상은 A를 표시함을 조건으로 함), -u는 1과 6을 포함하여 1과 6사이의 정수이며, t는 0과 10을 포함하여 0과 10사이의 정수이고(단, t+u는 3이거나 3보다 큰 것을 조건으로 함), -그리고 기호 A는 규소 원자에 직접 연결된 1가 라디칼을 표시하며, 다음의 식(4)에 해당하는 것이다:
    식(4)에서 : -n은 0과 3을 포함하여 0과 3사이의 정수이고, X는 (동일하거나 서로 다를 수 있음) C1-C8알킬 라디칼들, 할로겐 및 C1-C4알콕시 라디칼들에서 선택되고, -m은 0 혹은 1이고, Y는 -O-, -NH-, -COO-, O(CH2)V-COO- 또는 -(CH2)W-OCONH-를 나타내고, v는 w는 0과 12를 포함하여 0과 12사이의 정수를 나타내고, -p는 0 또는 1이고, -q는 0과 12를 포함하여 0과 12사이의 정수를 나타내고, -k는 -O- 또는 -NH-를 나타태고, -R1은 수소 또는 C-C4알킬 라디칼을 나타내고, -R2는 수소 또는 메틸라디칼을 나타낸다.]
  2. 제1항에 있어서, 라디칼들 R은 알킬 라디칼들인 것을 특징으로 하는, 식(1) 또는 식(2)에 해당하는 화합물.
  3. 제2항에 있어서, 라디칼들 R은 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, n-옥틸 혹은 2-에틸헥실 라디카인 것을 특징으로 하는 화합물.
  4. 제3항에 있어서, 라디칼들 R은 메틸 라디칼인 것을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 라디칼들 B는 알킬 라디칼들인 것을 특징으로 하는, 식(1)에 해당하는 화합물.
  6. 제5항에 있어서, 라디칼들 B는 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, n-옥틸 혹은 2-에틸헥실 라디칼인 것을 특징으로 하는 화합물.
  7. 제6항에 있어서, 라디칼들 B는 메틸 라디칼인 것을 특징으로 하는 화합물.
  8. 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, r은 0과 3을 포함하여 0과 3사이이고 s는 0과 3을 포함하여 0과 3사이인 것을 특징으로 하는, 식(1)에 해당하는 화합물.
  9. 제1항 내지 제4항의 어느 한 항에 있어서, t+u는 3과 5를 포함하여 3과 5사이에 있는 것을 특징으로 하는, 식(2)에 해당하는 화합물.
  10. 제1항에 있어서, 라디칼들 R′은 메틸, 에틸, 프로필, n-부틸, n-옥틸 그리고 2-에틸헥실 라디칼에서 선택된 알킬 라디칼인 것을 특징으로 하는, 식(3)에 해당하는 화합물.
  11. 제10항에 있어서, 라디칼들 R′은 메틸 라디칼인 것을 특징으로 하는 화합물.
  12. 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 있어서, n은 0이 아니며 바람직하게는 1 또는 2이고, X는 메틸, tert-부틸 그리고 C1-C4알콕시, 특시 메톡시에서 선택되는 것을 특징으로 하는 화합물.
  13. 제1항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, m은 0이 아니며 Y는 -O- 혹은 -NH-인 것을 특징으로 하는 화합물.
  14. 제1항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, p는 0이 아니며 R1이 수소인 것을 특징으로 하는 화합물.
  15. 제1항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서, q는 0과 3를 포함하여 0과 3사이에 있는 것을 특징으로 하는 화합물.
  16. 제1항 내지 제15항 중의 어느 한 항에 있어서, 사슬 단위 -(Y)m-(CH2-CHR1)p-(CH2)q-Z-CO-CHR2-CH2-와 벤조트리아졸 단위간의 연결은 벤조트리아졸 단위의 3번, 4번, 4′번 또는 5번의 위치에서 일어나는 것을 특징으로 하는 화합물.
  17. 제16항에 있어서, 상기 연결이 3번, 4번 또는 5번 위치에서 일어나는 것을 특징으로 하는 화합물.
  18. 제1항 내지 제17항 중의 어느 한 항에 있어서, 치환기 X와 벤조트리아졸 단위간의 연결은 벤조트리아졸 단위의 3번, 4번, 4′번, 5번 및/또는 6번 위치에서 일어나는 것을 특징으로 하는 화합물.
  19. UV-A와 UV-B 영역에 활성이 있는 선스크린제로서 사용되는 것을 특징으로 하는, 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 각각 정의된 바와 같은, 식(1)∼(3)의 화합물.
  20. 화장용으로 허용가능한 부형제 내에, 제1항 내지 제18항의 어느 한 항에 정의된 화합물 하나 이상을 유효량 함유하는 것을 특징으로 하는 특히 자외선을 차단하기 위한 화장용 조성물.
  21. 제20항에 있어서, 상기의화장용으로 허용가능한 부형제는 적어도 하나의 지방상(fatty phase)이나 하나의 유기용매를 함유하는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
  22. 제21항에 있어서, 상기의 부형제는 수중유형 에멀션 혹은 유중수형 에멀션의 형태를 취하는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
  23. 제20항 내지 제22항 중의 어느 한 항에 있어서, 스크린 화합물(들)의 함량은 상기 조성물의 총 중량에 대해 0.1 중량％와 20 중량％의 사이에 있는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
  24. 제23항에 있어서, 상기 함량은 0.5중량％와 10 중량％ 사이에 있는 것을 특징으로 하는 화장용 조성물.
  25. 피부 및/또는 모발에 상기 항 중의 어느 한 항에서 정의한 바의 하나 이상의 화합물이나 하나 이상의 조성물을 유효량 바르느 것으로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는, 자외선 복사, 특히 태양광 복사로부터 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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