JPH0820718A - ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 - Google Patents
ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物Info
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- JPH0820718A JPH0820718A JP17620494A JP17620494A JPH0820718A JP H0820718 A JPH0820718 A JP H0820718A JP 17620494 A JP17620494 A JP 17620494A JP 17620494 A JP17620494 A JP 17620494A JP H0820718 A JPH0820718 A JP H0820718A
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- carbon
- polyphenylene ether
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）系樹脂の
優れた物性を保持しつつ耐光性に優れたＰＰＥ系樹脂組
成物を提供する。 【構成】 ＰＰＥ系樹脂またはこれとポリスチレン系樹
脂１００重量部、および紫外線吸収剤から誘導される残
基を有するオルガノシロキサン０．１〜５重量部を含む
樹脂組成物。
優れた物性を保持しつつ耐光性に優れたＰＰＥ系樹脂組
成物を提供する。 【構成】 ＰＰＥ系樹脂またはこれとポリスチレン系樹
脂１００重量部、および紫外線吸収剤から誘導される残
基を有するオルガノシロキサン０．１〜５重量部を含む
樹脂組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ポリフェニレンエーテ
ル（以下、ＰＰＥということがある）系樹脂組成物に関
し、さらに詳しくは、紫外線吸収剤から誘導される残基
を含有するオルガノシロキサンを含むＰＰＥ系樹脂組成
物に関する。
ル（以下、ＰＰＥということがある）系樹脂組成物に関
し、さらに詳しくは、紫外線吸収剤から誘導される残基
を含有するオルガノシロキサンを含むＰＰＥ系樹脂組成
物に関する。
【０００２】
【従来の技術およびその課題】ＰＰＥ系樹脂は、機械特
性、電気特性、耐熱性等に優れ、各種用途に使用されて
いる。特に、ポリスチレン（以下、ＰＳということがあ
る）系樹脂とのブレンド物は、成形加工性とのバランス
にも優れ、射出成形用の樹脂として広範に用いられてい
る。
性、電気特性、耐熱性等に優れ、各種用途に使用されて
いる。特に、ポリスチレン（以下、ＰＳということがあ
る）系樹脂とのブレンド物は、成形加工性とのバランス
にも優れ、射出成形用の樹脂として広範に用いられてい
る。
【０００３】ところがＰＰＥ系樹脂は、耐光性が劣り、
長期間光に曝されている間に表面が変色し、色調が損な
われるという欠点を有する。この点を改良するために、
従来、各種の安定剤を添加することが行われている。例
えば、特開昭59-8752 号公報、特開昭59-8751 号公報等
に記載の添加剤を用いる方法が挙げられる。しかし、こ
れら安定剤は、組成物を製造するための溶融混練過程で
分解飛散し、耐光性が効果的に改善されない。また、多
量の安定剤を用いた場合には、耐熱性、機械的特性の低
下を招く。
長期間光に曝されている間に表面が変色し、色調が損な
われるという欠点を有する。この点を改良するために、
従来、各種の安定剤を添加することが行われている。例
えば、特開昭59-8752 号公報、特開昭59-8751 号公報等
に記載の添加剤を用いる方法が挙げられる。しかし、こ
れら安定剤は、組成物を製造するための溶融混練過程で
分解飛散し、耐光性が効果的に改善されない。また、多
量の安定剤を用いた場合には、耐熱性、機械的特性の低
下を招く。
【０００４】そこで本発明は、安定剤が揮散したりする
ことがなく、ＰＰＥ系樹脂の優れた物性を保持しつつ耐
光性の改善されたＰＰＥ系樹脂組成物を提供することを
目的とする。
ことがなく、ＰＰＥ系樹脂の優れた物性を保持しつつ耐
光性の改善されたＰＰＥ系樹脂組成物を提供することを
目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）ポリフ
ェニレンエーテル系樹脂またはこれとポリスチレン系樹
脂１００重量部、および（Ｂ）紫外線吸収剤から誘導さ
れる残基を有するオルガノシロキサン０．１〜５重量部
を含むことを特徴とするポリフェニレンエーテル系樹脂
組成物を提供するものである。
ェニレンエーテル系樹脂またはこれとポリスチレン系樹
脂１００重量部、および（Ｂ）紫外線吸収剤から誘導さ
れる残基を有するオルガノシロキサン０．１〜５重量部
を含むことを特徴とするポリフェニレンエーテル系樹脂
組成物を提供するものである。
【０００６】本発明においては、ＰＰＥ系樹脂は公知の
ものが使用できる。ＰＰＥ系樹脂とは、例えば一般式
（化３）：
ものが使用できる。ＰＰＥ系樹脂とは、例えば一般式
（化３）：
【０００７】
【化３】 （式中Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 およびＲ4 はそれぞれ独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基およびハロゲン原子とフェニル環との間に少くとも２
個の炭素原子を有するハロアルキル基またはハロアルコ
キシ基で第３級α‐炭素を含まないものから選ばれた一
価置換基を表し、ｎは重合度を表わす整数である）で示
される重合体の総称であって、上記一般式で示される重
合体の一種単独であっても、二種以上が組合わされた共
重合体であってもよい。好ましい具体例ではＲ1 および
Ｒ2 が炭素原子数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3 およ
びＲ4 が水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル
基である。例えばポリ(2,6‐ジメチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジエチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐エチル‐1,4 ‐
フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐プロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジプロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐エチル‐
６‐プロピル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、などが挙
げられる。またＰＰＥ共重合体としては上記ポリフェニ
レンエ―テル繰返し単位中にアルキル三置換フェノ―ル
例えば 2,3,6‐トリメチルフェノ―ルを一部含有する共
重合体を挙げることができる。またこれらのＰＰＥに、
スチレン系化合物がグラフトした共重合体であってもよ
い。スチレン系化合物グラフト化ポリフェニレンエ―テ
ルとしては上記ＰＰＥにスチレン系化合物として、例え
ばスチレン、α‐メチルスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレンなどをグラフト重合して得られる共重合体
である。
て、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ
基およびハロゲン原子とフェニル環との間に少くとも２
個の炭素原子を有するハロアルキル基またはハロアルコ
キシ基で第３級α‐炭素を含まないものから選ばれた一
価置換基を表し、ｎは重合度を表わす整数である）で示
される重合体の総称であって、上記一般式で示される重
合体の一種単独であっても、二種以上が組合わされた共
重合体であってもよい。好ましい具体例ではＲ1 および
Ｒ2 が炭素原子数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3 およ
びＲ4 が水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル
基である。例えばポリ(2,6‐ジメチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジエチル‐1,4 ‐フェニレ
ン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐エチル‐1,4 ‐
フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐メチル‐６‐プロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ(2,6‐ジプロピ
ル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、ポリ（２‐エチル‐
６‐プロピル‐1,4 ‐フェニレン）エ―テル、などが挙
げられる。またＰＰＥ共重合体としては上記ポリフェニ
レンエ―テル繰返し単位中にアルキル三置換フェノ―ル
例えば 2,3,6‐トリメチルフェノ―ルを一部含有する共
重合体を挙げることができる。またこれらのＰＰＥに、
スチレン系化合物がグラフトした共重合体であってもよ
い。スチレン系化合物グラフト化ポリフェニレンエ―テ
ルとしては上記ＰＰＥにスチレン系化合物として、例え
ばスチレン、α‐メチルスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレンなどをグラフト重合して得られる共重合体
である。
【０００８】本発明においては、成分（Ａ）は上記した
ポリフェニレンエーテル系樹脂またはこれとポリスチレ
ン系樹脂である。ポリスチレン系樹脂はそれ自体公知で
あり、一般式（化４）：
ポリフェニレンエーテル系樹脂またはこれとポリスチレ
ン系樹脂である。ポリスチレン系樹脂はそれ自体公知で
あり、一般式（化４）：
【０００９】
【化４】 （式中Ｒは水素原子または炭素原子数１〜４のアルキル
基であり、Ｚはハロゲン原子または炭素原子数１〜４の
アルキル基である置換基を表し、ｘは０〜５の整数であ
る）で示される芳香族ビニル化合物から誘導された繰返
し構造単位を、その重合体中に少くとも25重量％以上有
するものでなければならない。かかるスチレン系重合体
としては、スチレンもしくはその誘導体例えばｐ‐メチ
ルスチレン、α‐メチルスチレン、α‐メチル‐ｐ‐メ
チルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等の単
独重合体および共重合体が挙げられる。また、上記した
芳香族ビニル化合物を70〜99重量％と、ジエンゴム１〜
30重量％とからなるゴム変性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）
を使用することができる。ＨＩＰＳを構成するジエンゴ
ムとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等
の共役ジエン系化合物の単独重合体、共役ジエン系化合
物と不飽和ニトリル化合物または芳香族ビニル化合物と
の共重合体さらには天然ゴムなどが挙げられ、１種また
は２種以上用いることができる。特にポリブタジエン、
ブタジエン‐スチレン共重合体が好ましい。
基であり、Ｚはハロゲン原子または炭素原子数１〜４の
アルキル基である置換基を表し、ｘは０〜５の整数であ
る）で示される芳香族ビニル化合物から誘導された繰返
し構造単位を、その重合体中に少くとも25重量％以上有
するものでなければならない。かかるスチレン系重合体
としては、スチレンもしくはその誘導体例えばｐ‐メチ
ルスチレン、α‐メチルスチレン、α‐メチル‐ｐ‐メ
チルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等の単
独重合体および共重合体が挙げられる。また、上記した
芳香族ビニル化合物を70〜99重量％と、ジエンゴム１〜
30重量％とからなるゴム変性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）
を使用することができる。ＨＩＰＳを構成するジエンゴ
ムとしては、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等
の共役ジエン系化合物の単独重合体、共役ジエン系化合
物と不飽和ニトリル化合物または芳香族ビニル化合物と
の共重合体さらには天然ゴムなどが挙げられ、１種また
は２種以上用いることができる。特にポリブタジエン、
ブタジエン‐スチレン共重合体が好ましい。
【００１０】ＨＩＰＳは、乳化重合、懸濁重合、塊状重
合、溶液重合またはそれらの組合せの方法により得られ
る。
合、溶液重合またはそれらの組合せの方法により得られ
る。
【００１１】ＰＰＥ系樹脂とＰＳ系樹脂とは任意の割合
で配合できるが、通常その配合比率はＰＰＥ系樹脂10〜
100 重量部に対してＰＳ系樹脂90〜０重量部である。好
ましくは、ＰＰＥ系樹脂10〜90重量部に対してＰＳ系樹
脂90〜10重量部である。
で配合できるが、通常その配合比率はＰＰＥ系樹脂10〜
100 重量部に対してＰＳ系樹脂90〜０重量部である。好
ましくは、ＰＰＥ系樹脂10〜90重量部に対してＰＳ系樹
脂90〜10重量部である。
【００１２】本発明で使用する成分（Ｂ）オルガノシロ
キサンは、紫外線吸収剤から誘導される残基を有するこ
とが必要である。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリア
ゾール系、ベンゾフェノン系およびサリチル酸系の炭素
‐炭素不飽和結合含有化合物から選択されるのが好まし
い。そのようなオルガノシロキサンは、好ましくは次式
（１）または（２）で示される。
キサンは、紫外線吸収剤から誘導される残基を有するこ
とが必要である。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリア
ゾール系、ベンゾフェノン系およびサリチル酸系の炭素
‐炭素不飽和結合含有化合物から選択されるのが好まし
い。そのようなオルガノシロキサンは、好ましくは次式
（１）または（２）で示される。
【００１３】
【化５】
【００１４】
【化６】 ［上記式中、Ｒ1 およびＲ3 は互いに同じでも異なって
いてもよく、直鎖状または分枝状の炭素原子１〜１０個
を有するアルキル基、炭素原子５〜１１個を有する脂環
式基または置換されていてもよいフェニル基であり；Ｒ
2 はベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系またはサ
リチル酸系の、炭素‐炭素不飽和結合を含有する紫外線
吸収剤のヒドロシリル化反応により導入される基であ
り；ｎは１以上の整数であり、ｍおよびｐは互いに同一
でも異なっていてもよい０以上の整数であり、ただし１
≦（ｎ＋ｍ＋ｐ）≦５０であり；上記式（１）または
（２）中の繰り返し単位はブロック状またはランダム状
に配置されることができる］。
いてもよく、直鎖状または分枝状の炭素原子１〜１０個
を有するアルキル基、炭素原子５〜１１個を有する脂環
式基または置換されていてもよいフェニル基であり；Ｒ
2 はベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系またはサ
リチル酸系の、炭素‐炭素不飽和結合を含有する紫外線
吸収剤のヒドロシリル化反応により導入される基であ
り；ｎは１以上の整数であり、ｍおよびｐは互いに同一
でも異なっていてもよい０以上の整数であり、ただし１
≦（ｎ＋ｍ＋ｐ）≦５０であり；上記式（１）または
（２）中の繰り返し単位はブロック状またはランダム状
に配置されることができる］。
【００１５】上記式において、直鎖状または分枝状の炭
素原子数１〜１０個を有するアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基等が挙げられる。また、炭素原子数５〜１１個を有
する脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。フェニル基
の置換基となり得る基としては、例えばメチル基、エチ
ル基等の低級アルキル基が挙げられる。
素原子数１〜１０個を有するアルキル基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、
ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基等が挙げられる。また、炭素原子数５〜１１個を有
する脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。フェニル基
の置換基となり得る基としては、例えばメチル基、エチ
ル基等の低級アルキル基が挙げられる。
【００１６】次に、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェ
ノン系またはサリチル酸系の、炭素‐炭素不飽和結合を
含有する紫外線吸収剤のヒドロシリル化反応により導入
される基は、上記の紫外線吸収剤の炭素‐炭素不飽和基
を、オルガノハイドロジェンシロキサンのＳｉＨ基と反
応させることにより導入できる。そのような不飽和基を
有する紫外線吸収剤としては、例えばベンゾフェノン系
化合物として、次式(i) 〜(ii)：
ノン系またはサリチル酸系の、炭素‐炭素不飽和結合を
含有する紫外線吸収剤のヒドロシリル化反応により導入
される基は、上記の紫外線吸収剤の炭素‐炭素不飽和基
を、オルガノハイドロジェンシロキサンのＳｉＨ基と反
応させることにより導入できる。そのような不飽和基を
有する紫外線吸収剤としては、例えばベンゾフェノン系
化合物として、次式(i) 〜(ii)：
【００１７】
【化７】 （上記式中、Ｒは水素原子または炭素原子数１〜10個の
直鎖または分枝状のアルキル基を表す）で示される化合
物群が挙げられ、ベンゾトリアゾール系化合物として、
次式(iii) 〜(vi)：
直鎖または分枝状のアルキル基を表す）で示される化合
物群が挙げられ、ベンゾトリアゾール系化合物として、
次式(iii) 〜(vi)：
【００１８】
【化８】 （上記式中、Ｒ′は水素原子または炭素原子数１〜10個
の直鎖または分枝状のアルキル基を表し、Ｘは炭素原子
数１〜10個のアルキレン基を表す）で示される化合物群
が挙げられ、サリチル酸系化合物として、ビニルサリチ
ル酸フェニル、アリルサリチル酸フェニル等が挙げられ
る。好ましくは、ベンゾトリアゾール系化合物である。
の直鎖または分枝状のアルキル基を表し、Ｘは炭素原子
数１〜10個のアルキレン基を表す）で示される化合物群
が挙げられ、サリチル酸系化合物として、ビニルサリチ
ル酸フェニル、アリルサリチル酸フェニル等が挙げられ
る。好ましくは、ベンゾトリアゾール系化合物である。
【００１９】なお、上記した炭素‐炭素不飽和基を有す
る紫外線吸収剤は公知であり、例えば特開昭51-76345号
公報、特開昭58-132039 号公報（上記式(i) の化合
物）、特公昭53-27738号公報（上記式(ii)の化合物）、
特公昭38-25036号公報（上記式(iii) の化合物）、特開
昭53-16093号公報（上記式(iv)の化合物）、特開昭58-3
8269号公報（上記式(v) の化合物）、特開昭60-38411号
公報（上記式(vi)の化合物）に記載されている。
る紫外線吸収剤は公知であり、例えば特開昭51-76345号
公報、特開昭58-132039 号公報（上記式(i) の化合
物）、特公昭53-27738号公報（上記式(ii)の化合物）、
特公昭38-25036号公報（上記式(iii) の化合物）、特開
昭53-16093号公報（上記式(iv)の化合物）、特開昭58-3
8269号公報（上記式(v) の化合物）、特開昭60-38411号
公報（上記式(vi)の化合物）に記載されている。
【００２０】上記式（１）または（２）において、ｎは
１〜50の整数であるのが好ましく、ｍは０〜30の整数で
あるのが好ましく、ｐは０〜10の整数であるのが好まし
く、また１≦（ｎ＋ｍ＋ｐ）≦50であるのが好ましい。
１〜50の整数であるのが好ましく、ｍは０〜30の整数で
あるのが好ましく、ｐは０〜10の整数であるのが好まし
く、また１≦（ｎ＋ｍ＋ｐ）≦50であるのが好ましい。
【００２１】特に好ましくは、前記式（１）または
（２）において、Ｒ1 およびＲ3 が直鎖状または分枝状
の炭素原子１〜３個を有するアルキル基であり、かつＲ
2 がベンゾトリアゾール系の炭素‐炭素不飽和結合含有
紫外線吸収剤から誘導される基である。
（２）において、Ｒ1 およびＲ3 が直鎖状または分枝状
の炭素原子１〜３個を有するアルキル基であり、かつＲ
2 がベンゾトリアゾール系の炭素‐炭素不飽和結合含有
紫外線吸収剤から誘導される基である。
【００２２】上記した（Ｂ）オルガノシロキサンは、例
えばオルガノハイドロジェンシロキサンと、上記した炭
素‐炭素不飽和基を有する紫外線吸収剤とをヒドロシリ
ル化反応させることにより製造できる。好ましくはオル
ガノハイドロジェンシロキサン１００重量部に対して、
炭素‐炭素不飽和基を有する紫外線吸収剤を５０〜５０
０重量部の量比で反応させる。
えばオルガノハイドロジェンシロキサンと、上記した炭
素‐炭素不飽和基を有する紫外線吸収剤とをヒドロシリ
ル化反応させることにより製造できる。好ましくはオル
ガノハイドロジェンシロキサン１００重量部に対して、
炭素‐炭素不飽和基を有する紫外線吸収剤を５０〜５０
０重量部の量比で反応させる。
【００２３】反応は、一般に２０〜１００℃で、ヒドロ
シリル化反応に使用される慣用の触媒、例えばＨ2 Ｐｔ
Ｃｌ4 、［ＰｔＣｌ2 （Ｐｐｈ3 ）2 ］、［ＰｄＣｌ2
（Ｐｐｈ3 ）2 、［ＲｈＣｌ（Ｐｐｈ3 ）3 ］（ｐｈは
フェニル基を表す）等に代表される白金族系触媒の存在
下で行う。触媒濃度は、金属として、反応媒体中におい
て通常１〜２００ｐｐｍ、好ましくは５〜５０ｐｐｍで
ある。反応は通常、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水
素から選ばれる有機溶媒中または無溶媒下で行う。
シリル化反応に使用される慣用の触媒、例えばＨ2 Ｐｔ
Ｃｌ4 、［ＰｔＣｌ2 （Ｐｐｈ3 ）2 ］、［ＰｄＣｌ2
（Ｐｐｈ3 ）2 、［ＲｈＣｌ（Ｐｐｈ3 ）3 ］（ｐｈは
フェニル基を表す）等に代表される白金族系触媒の存在
下で行う。触媒濃度は、金属として、反応媒体中におい
て通常１〜２００ｐｐｍ、好ましくは５〜５０ｐｐｍで
ある。反応は通常、脂肪族、脂環式および芳香族炭化水
素から選ばれる有機溶媒中または無溶媒下で行う。
【００２４】成分（Ｂ）オルガノシロキサンは、上記し
た成分（Ａ）１００重量部に対して０．１〜５重量部配
合される。好ましい上限値は３重量部であり、また好ま
しい下限値は０．３重量部である。成分（Ｂ）の配合量
が上記の範囲より下の場合には、耐光性の改善がみられ
ず、また上記の範囲より上の場合には成形品外観の悪
化、機械的特性の低下等を招く。
た成分（Ａ）１００重量部に対して０．１〜５重量部配
合される。好ましい上限値は３重量部であり、また好ま
しい下限値は０．３重量部である。成分（Ｂ）の配合量
が上記の範囲より下の場合には、耐光性の改善がみられ
ず、また上記の範囲より上の場合には成形品外観の悪
化、機械的特性の低下等を招く。
【００２５】本発明の組成物には、さらに所望に応じ、
トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、レゾルシノール
テトラフェニルジホスフェートなどの有機リン酸エステ
ル化合物を添加することができる。
トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、レゾルシノール
テトラフェニルジホスフェートなどの有機リン酸エステ
ル化合物を添加することができる。
【００２６】また、本発明の樹脂組成物には、その物性
を損なわない限りにおいて、その目的に応じて樹脂の混
合時、成形時に、慣用の他の添加剤、例えば顔料、染
料、補強剤（ガラス繊維（ＧＦ）、炭素繊維、タルク、
マイカ、チタン酸カリウム繊維など）、充填剤（カ―ボ
ンブラック、シリカ、酸化チタンなど）、耐熱剤、酸化
劣化防止剤、耐候剤、滑剤、離型剤、結晶核剤、可塑
剤、流動性改良剤、帯電防止剤等を添加することができ
る。
を損なわない限りにおいて、その目的に応じて樹脂の混
合時、成形時に、慣用の他の添加剤、例えば顔料、染
料、補強剤（ガラス繊維（ＧＦ）、炭素繊維、タルク、
マイカ、チタン酸カリウム繊維など）、充填剤（カ―ボ
ンブラック、シリカ、酸化チタンなど）、耐熱剤、酸化
劣化防止剤、耐候剤、滑剤、離型剤、結晶核剤、可塑
剤、流動性改良剤、帯電防止剤等を添加することができ
る。
【００２７】本発明の樹脂組成物を製造するための方法
に特に制限はなく、通常の方法が満足に使用できる。し
かしながら一般に溶融混合法が望ましい。少量の溶剤の
使用も可能であるが、一般に必要ない。装置としては特
に押出機、バンバリ―ミキサ―、ロ―ラ―、ニ―ダ―等
を例として挙げることができ、これらを回分的または連
続的に運転する。成分の混合順は特に限定されない。
に特に制限はなく、通常の方法が満足に使用できる。し
かしながら一般に溶融混合法が望ましい。少量の溶剤の
使用も可能であるが、一般に必要ない。装置としては特
に押出機、バンバリ―ミキサ―、ロ―ラ―、ニ―ダ―等
を例として挙げることができ、これらを回分的または連
続的に運転する。成分の混合順は特に限定されない。
【００２８】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２９】なお、実施例においては次の化合物を使用
した。 成分（Ａ） ＰＰＥ：固有粘度（クロロホルム、30℃）0.47ｄｌ／ｇ
のポリ(2,6- ジメチル-1,4- フェニレン）エ−テル、日
本ジーイープラスチックス社製（以下、これをＰＰＥと
称する） ＰＳ：トーポレックス 870-ST（商標、三井東圧化学株
式会社製、ハイインパクトポリスチレン）（以下、これ
をＨＩＰＳと称する） 成分（Ｂ） Si化合物（Ｉ）：次式（Ｉ）：
した。 成分（Ａ） ＰＰＥ：固有粘度（クロロホルム、30℃）0.47ｄｌ／ｇ
のポリ(2,6- ジメチル-1,4- フェニレン）エ−テル、日
本ジーイープラスチックス社製（以下、これをＰＰＥと
称する） ＰＳ：トーポレックス 870-ST（商標、三井東圧化学株
式会社製、ハイインパクトポリスチレン）（以下、これ
をＨＩＰＳと称する） 成分（Ｂ） Si化合物（Ｉ）：次式（Ｉ）：
【００３０】
【化９】 で示されるオルガノシロキサン。以下のようにして製造
した：撹拌機、コンデンサーおよび滴下ロートを備えた
フラスコに、トルエン100 ml、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メ
タクリロキシエチルフェニル）-2H-ベンゾトリアゾール
20ｇ、Ｈ2 ＰｔＣｌ6 ・６Ｈ2 Ｏの４％イソプロピルア
ルコール溶液0.5 mlを仕込んだ。1,3,5,7-テトラメチル
シクロシロキサン５ｇを還流下に２時間かけて滴下し、
さらに２時間反応を行った。反応終了後、トルエンおよ
び未反応物を留去して、目的物を得た。
した：撹拌機、コンデンサーおよび滴下ロートを備えた
フラスコに、トルエン100 ml、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メ
タクリロキシエチルフェニル）-2H-ベンゾトリアゾール
20ｇ、Ｈ2 ＰｔＣｌ6 ・６Ｈ2 Ｏの４％イソプロピルア
ルコール溶液0.5 mlを仕込んだ。1,3,5,7-テトラメチル
シクロシロキサン５ｇを還流下に２時間かけて滴下し、
さらに２時間反応を行った。反応終了後、トルエンおよ
び未反応物を留去して、目的物を得た。
【００３１】Si化合物（II）：次式（II）：
【００３２】
【化１０】 （上記式中、ｎの平均値は３０である）で示されるオル
ガノシロキサン。以下のようにして製造した：1,3,5,7-
テトラメチルシクロシロキサン５ｇに代えて、メチルハ
イドロジェンポリシロキサン（ｎは約30）５ｇを用い
て、上記したSi化合物（Ｉ）の合成と同様の操作を行
い、目的物を得た。
ガノシロキサン。以下のようにして製造した：1,3,5,7-
テトラメチルシクロシロキサン５ｇに代えて、メチルハ
イドロジェンポリシロキサン（ｎは約30）５ｇを用い
て、上記したSi化合物（Ｉ）の合成と同様の操作を行
い、目的物を得た。
【００３３】紫外線吸収剤（比較のために使用）：次
式：
式：
【００３４】
【化１１】 で示されるベンゾトリアゾール系化合物。アメリカンサ
イアナミッド社製、商標；CYASORB UV-5411 （以下で
は、ＵＶＡと称する） 任意成分 トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ） 酸化チタン（ＴｉＯ2 ）実施例１〜２および比較例１〜２ 表１に示す割合（重量比）の成分を、二軸押出機を用い
て 280℃で溶融混練し、ペレットを作成した。得られた
ペレットから射出成形により各種試験片を成形し、以下
の特性について評価した。結果を表１に示す。 (1) アイゾット衝撃強度 ＡＳＴＭ Ｄ２５６にしたがって、厚み1/8 インチ、ノ
ッチ付で、２３℃において測定した。 (2) 熱変形温度（ＨＤＴ） ＡＳＴＭ Ｄ６４８にしたがって、荷重18.6 kg/cm2 に
て測定した。 (3) 耐光性 アトラス社製フェードオメータを用いて、ブラックパネ
ル温度６３℃、照射光度0.39 W/m2 の条件で、色差（Δ
Ｅ）および黄変度（ＹＩ）を測定した。数値が小さいほ
ど耐光性に優れる。測定は、照射100 時間後、200 時間
後および300 時間後の３回行った。なお黄変度について
は照射前（０時間）の値も記載した。
イアナミッド社製、商標；CYASORB UV-5411 （以下で
は、ＵＶＡと称する） 任意成分 トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ） 酸化チタン（ＴｉＯ2 ）実施例１〜２および比較例１〜２ 表１に示す割合（重量比）の成分を、二軸押出機を用い
て 280℃で溶融混練し、ペレットを作成した。得られた
ペレットから射出成形により各種試験片を成形し、以下
の特性について評価した。結果を表１に示す。 (1) アイゾット衝撃強度 ＡＳＴＭ Ｄ２５６にしたがって、厚み1/8 インチ、ノ
ッチ付で、２３℃において測定した。 (2) 熱変形温度（ＨＤＴ） ＡＳＴＭ Ｄ６４８にしたがって、荷重18.6 kg/cm2 に
て測定した。 (3) 耐光性 アトラス社製フェードオメータを用いて、ブラックパネ
ル温度６３℃、照射光度0.39 W/m2 の条件で、色差（Δ
Ｅ）および黄変度（ＹＩ）を測定した。数値が小さいほ
ど耐光性に優れる。測定は、照射100 時間後、200 時間
後および300 時間後の３回行った。なお黄変度について
は照射前（０時間）の値も記載した。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【発明の効果】本発明のＰＰＥ系樹脂組成物は、耐光性
が優れているので、工業的に非常に有用である。
が優れているので、工業的に非常に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 25:04 83:05）
Claims (5)
- 【請求項１】 （Ａ）ポリフェニレンエーテル系樹脂ま
たはこれとポリスチレン系樹脂１００重量部、および
（Ｂ）紫外線吸収剤から誘導される残基を有するオルガ
ノシロキサン０．１〜５重量部を含むことを特徴とする
ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。 - 【請求項２】 成分（Ｂ）において、紫外線吸収剤が、
ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系およびサリチ
ル酸系の炭素‐炭素不飽和結合含有化合物から選択され
る請求項１記載のポリフェニレンエーテル系樹脂組成
物。 - 【請求項３】 紫外線吸収剤から誘導される残基を有す
るオルガノシロキサンが、一般式（１）： 【化１】 または一般式（２）： 【化２】 ［上記式中、Ｒ1 およびＲ3 は互いに同じでも異なって
いてもよく、直鎖状または分枝状の炭素原子１〜１０個
を有するアルキル基、炭素原子５〜１１個を有する脂環
式基または置換されていてもよいフェニル基であり；Ｒ
2 はベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系またはサ
リチル酸系の、炭素‐炭素不飽和結合を含有する紫外線
吸収剤のヒドロシリル化反応により導入される基であ
り；ｎは１以上の整数であり、ｍおよびｐは互いに同一
でも異なっていてもよい０以上の整数であり、ただし１
≦（ｎ＋ｍ＋ｐ）≦５０であり；上記式（１）または
（２）中の繰り返し単位はブロック状またはランダム状
に配置されることができる］で示される請求項１または
２記載のポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。 - 【請求項４】 紫外線吸収剤のヒドロシリル化反応によ
り導入される基を有するオルガノシロキサンが、オルガ
ノハイドロジェンシロキサン１００重量部に対して、炭
素‐炭素不飽和結合を含有する紫外線吸収剤を５０〜５
００重量部の量比でヒドロシリル化反応させることによ
って得られたものである請求項３記載のポリフェニレン
エーテル系樹脂組成物。 - 【請求項５】 前記式（１）または（２）において、Ｒ
1 およびＲ3 が直鎖状または分枝状の炭素原子１〜３個
を有するアルキル基であり、かつＲ2 がベンゾトリアゾ
ール系の炭素‐炭素不飽和結合含有紫外線吸収剤から誘
導される基である請求項２〜４のいずれか１項項記載の
ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17620494A JPH0820718A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17620494A JPH0820718A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0820718A true JPH0820718A (ja) | 1996-01-23 |
Family
ID=16009451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17620494A Pending JPH0820718A (ja) | 1994-07-06 | 1994-07-06 | ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0820718A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08208668A (ja) * | 1994-11-08 | 1996-08-13 | L'oreal Sa | 新規なサンスクリーン剤およびそれらを含有する化粧品組成物類とその使用方法 |
| JP2016094514A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化性シリコーンゴム組成物 |
-
1994
- 1994-07-06 JP JP17620494A patent/JPH0820718A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08208668A (ja) * | 1994-11-08 | 1996-08-13 | L'oreal Sa | 新規なサンスクリーン剤およびそれらを含有する化粧品組成物類とその使用方法 |
| JP2016094514A (ja) * | 2014-11-13 | 2016-05-26 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化性シリコーンゴム組成物 |
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