KR960005820A - 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법 - Google Patents
반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법에 있어서, 폴리실리콘막을 불산용액을 사용하여, 세정하고 초순수로 세척하는 단계; 불산, 질산, 초산 및 초순수 혼합액을 사용하여 상기 폴리실리콘막을 세정하고 초순수 세척하는 단계; 불산용액을 사용하여 상기 폴리실리콘막을 세정하고 초순수로 세척한 후 회전건조기로 건조시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법에 관한 것으로, 폴리실리콘막 표면에 잔류 자연산화막과 불순물입자를 완전하게 제거함으로써 소자의 수율 및 신뢰성을 향상시키는 효과를 갖는다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (3)
- 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법에 있어서, 폴리실리콘막을 불산용액을 사용하여, 세정하고 초순수로 세척하는 단계; 불산, 질산, 초산 및 초순수 혼합액을 사용하여 상기 폴리실리콘막을 세정하고 초순수 세척하는 단계; 불산용액을 사용하여 상기 폴리실리콘막을 세정하고 초순수로 세척한 후 회전건조기로 건조시키는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법.
- 제1항에 있어서, 상기 혼합액은 불산:질산:초산:초순수=1:5:5:10의 비율로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법.
- 제2항에 있어서, 상기 불산, 질산, 초산, 초산 및 초순수 혼합액을 사용하여 폴리실리콘막 세정시 상기 폴리실리콘막 표면이 약 50A 내지 500A 정도 식각되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940016515A KR960005820A (ko) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940016515A KR960005820A (ko) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960005820A true KR960005820A (ko) | 1996-02-23 |
Family
ID=66689001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940016515A KR960005820A (ko) | 1994-07-08 | 1994-07-08 | 반도체 소자의 폴리실리콘막 세정방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960005820A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100827684B1 (ko) * | 2001-10-30 | 2008-05-07 | 에이펫(주) | 반도체 소자의 세정액 및 이를 이용한 세정 방법 |
-
1994
- 1994-07-08 KR KR1019940016515A patent/KR960005820A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100827684B1 (ko) * | 2001-10-30 | 2008-05-07 | 에이펫(주) | 반도체 소자의 세정액 및 이를 이용한 세정 방법 |
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