KR940002968A - 반도체기판의 표면세정방법 - Google Patents
반도체기판의 표면세정방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 반도체기판의 표면세정방법에 관한 것이다.
본 발명에 의하면, HF 와 NH3수용액과 H2O로 이루어진 세정액에 의해 반도체기판 표면의 오영을 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 표면세정방법이 제공되며 이에 따라 웨이퍼표면의 금속불순물 및 미립자에 의한 오염을 효율적으로 제거할 수 있어 고집적화된 디바이스의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 세정방법을 설명하기 위한 세정장치의 구성도.
Claims (1)
- HF와 NH3수용액과 H2O로 이루어진 세정액에 의해 반도체기판 표면의 오염을 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 표면세정방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019920013272A KR940002968A (ko) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 반도체기판의 표면세정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019920013272A KR940002968A (ko) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 반도체기판의 표면세정방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR940002968A true KR940002968A (ko) | 1994-02-19 |
Family
ID=67147137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019920013272A KR940002968A (ko) | 1992-07-24 | 1992-07-24 | 반도체기판의 표면세정방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR940002968A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100868018B1 (ko) * | 2007-07-26 | 2008-11-10 | 솔엔텍 주식회사 | 반도체 제조장치의 장치부품용 세정물질 및 이의 제조방법,이를 사용한 장치부품 세정방법 |
-
1992
- 1992-07-24 KR KR1019920013272A patent/KR940002968A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100868018B1 (ko) * | 2007-07-26 | 2008-11-10 | 솔엔텍 주식회사 | 반도체 제조장치의 장치부품용 세정물질 및 이의 제조방법,이를 사용한 장치부품 세정방법 |
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