KR940002968A - 반도체기판의 표면세정방법 - Google Patents

반도체기판의 표면세정방법 Download PDF

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KR940002968A
KR940002968A KR1019920013272A KR920013272A KR940002968A KR 940002968 A KR940002968 A KR 940002968A KR 1019920013272 A KR1019920013272 A KR 1019920013272A KR 920013272 A KR920013272 A KR 920013272A KR 940002968 A KR940002968 A KR 940002968A
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KR
South Korea
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semiconductor substrate
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surface cleaning
cleaning
present
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KR1019920013272A
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박태훈
안성규
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 반도체기판의 표면세정방법에 관한 것이다.
본 발명에 의하면, HF 와 NH3수용액과 H2O로 이루어진 세정액에 의해 반도체기판 표면의 오영을 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 표면세정방법이 제공되며 이에 따라 웨이퍼표면의 금속불순물 및 미립자에 의한 오염을 효율적으로 제거할 수 있어 고집적화된 디바이스의 신뢰성을 향상시킬 수 있게 된다.

Description

반도체기판의 표면세정방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 세정방법을 설명하기 위한 세정장치의 구성도.

Claims (1)

  1. HF와 NH3수용액과 H2O로 이루어진 세정액에 의해 반도체기판 표면의 오염을 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체기판의 표면세정방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920013272A 1992-07-24 1992-07-24 반도체기판의 표면세정방법 KR940002968A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100868018B1 (ko) * 2007-07-26 2008-11-10 솔엔텍 주식회사 반도체 제조장치의 장치부품용 세정물질 및 이의 제조방법,이를 사용한 장치부품 세정방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100868018B1 (ko) * 2007-07-26 2008-11-10 솔엔텍 주식회사 반도체 제조장치의 장치부품용 세정물질 및 이의 제조방법,이를 사용한 장치부품 세정방법

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