TH23135A - วิธีการของการทำความสะอาดฐานรองรับ - Google Patents
วิธีการของการทำความสะอาดฐานรองรับInfo
- Publication number
- TH23135A TH23135A TH9601000887A TH9601000887A TH23135A TH 23135 A TH23135 A TH 23135A TH 9601000887 A TH9601000887 A TH 9601000887A TH 9601000887 A TH9601000887 A TH 9601000887A TH 23135 A TH23135 A TH 23135A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- cleaning
- support
- solution
- supports
- methods
- Prior art date
Links
Abstract
วิธีการทำความสะอาดผิวฐานรองรับ ในที่นี้ขั้นตอนที่หนึ่งของกรรมวิธีการทำความ สะอาดรองรับรวมถึงขั้นตอนของการทำความสะอาดผิวของฐานรองรับโดยสารละลายที่เป็น กรด, สารละลายที่เป็นสารออกซิไดซิง, หรือสารละลายที่เป็นด่าง ที่ประกอบด้วยขั้นตอนของ การขจัดฟิล์มออกไซด์ธรรมชาติที่เกิดบนผิวของฐานรองรับออก
Claims (2)
1. วิธีการทำความสะอาดผิวฐานรองรับ ในที่นี้ขั้นตอนที่หนึ่งของกรรมวิธี การทำความสะอาดรองรับรวมถึงขั้นตอนของการทำความสะอาดผิวฐานรองรับโดยการ ละลายที่เป็นกรด, สารละลายที่เป็นสารออกซิไดซิง, หรือสารละลายที่เป็นด่าง ที่ประกอบด้วยขั้น ตอนของการขจัดฟิล์มออกไซด์ธรรมชาติที่เกิดบนผิวของฐานรองรับออก
2. วิธีการทำความสะอาดฐานรองรับตามที่กำหนดไว้ก่อนในข้อถือสิทธิ์ข้อ 1 ในที่ นี้ฟิล์มออกไซด์ธรรมชาติจะถูกขจัดออกโดยการจุ่มฐานรองรับลงในสารละลายที่ประกอบด้วยกรด ไฮโดรฟลูออริค แท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH23135A true TH23135A (th) | 1997-01-21 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY135992A (en) | Method of cleaning porous body, and process for producing porous body, non-porous film or bonded substrate | |
| MY133080A (en) | Post-lapping cleaning process for silicon wafers | |
| DE69023951D1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kontakten an einer Halbleitervorrichtung. | |
| DE69003063D1 (de) | Verfahren zur herstellung von sulfonylimiden. | |
| MY122745A (en) | Method for removing an aluminide coating from a substrate | |
| KR910005382A (ko) | 반도체기판의 접착방법 및 접착장치 | |
| DE69133004T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterkörpers | |
| DE69515691D1 (de) | Reinigung von aluminium werkstücken | |
| KR920005267A (ko) | 반도체장치의 제조방법 | |
| NO904044D0 (no) | Fremgangsmaate til fjerning av biofilm fra overflater neddykket i vann. | |
| CA2485841A1 (en) | Self-contained, self-powered electrolytic devices for improved performance in automatic dishwashing | |
| DE3777589D1 (de) | Verfahren zur produktion von halbleiteranordnungen. | |
| DE68920571D1 (de) | Halbleiterlaser-Vorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung. | |
| DE69411696T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines integrierten, optischen Halbleiterschaltkreises | |
| DE3783608D1 (de) | Planarizierungsverfahren fuer die herstellung von kontaktloechern in siliziumkoerpern. | |
| DE69630496D1 (de) | Verfahren zum Reinigen einer alkalischen Lösung und Methode zum Ätzen von Halbleiterscheiben | |
| DE58901324D1 (de) | Verfahren zur herstellung von solarsilicium. | |
| DE59007360D1 (de) | Verfahren zur hydrothermalen herstellung von kaliumsilikatlösungen. | |
| DE69616293D1 (de) | Reinigungsverfahren und -vorrichtung | |
| DE69829066D1 (de) | Verfahren zur reinigung von alkanolaminen | |
| EP0246802A3 (en) | Process for cleaning surface of semiconductor substrate | |
| TH23135A (th) | วิธีการของการทำความสะอาดฐานรองรับ | |
| DE60042777D1 (de) | Verfahren für die herstellung von monodispergierten polymerteilchen | |
| DE69824329D1 (de) | Verfahren zum Reinigen einer alkalischen Lösung und Methode zum Ätzen von Halbleiterscheiben | |
| DE3778442D1 (de) | Verfahren zur herstellung von metallfluoriden, verwendbar zur herstellung von fluorid-glaesern. |