KR950704382A - 원료 물질내의 금속 이온을 감소시키는 방법(Metal lon reduction in the raw materials) - Google Patents

원료 물질내의 금속 이온을 감소시키는 방법(Metal lon reduction in the raw materials)

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KR950704382A KR1019950701956A KR19950701956A KR950704382A KR 950704382 A KR950704382 A KR 950704382A KR 1019950701956 A KR1019950701956 A KR 1019950701956A KR 19950701956 A KR19950701956 A KR 19950701956A KR 950704382 A KR950704382 A KR 950704382A
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Abstract

본 발명은 분자량이 거의 일정하며, 매우 낮은 합량의 금속 이온을 갖는 수-불용성이 수성 알칼리 가용성 노볼락 수지를 제조하는 방법, 상기 노볼락 수지로부터 감광제 조성물을 제조하는 방법, 및 상기 감광제 조성물을 사용하여 반도체 장치를 제조하는 방법에 관한 것이다.

Description

원료 물질내의 금속 이온을 감소시키는 방법(Metal lon reduction in the raw materials)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (21)

  1. 물로 산성의 이온 교환 수지를 세정한 후, 이어서 무기 산 용액으로 세정함으로써 상기 이온 교환 수지내의 나트륨 및 철 이온을 각각 500ppb 이하로 감소시키는 단계: b)물/포름알데히드 용액을 상기 이온 교환 수지에 통과시킴으로써 상기 용액중의 나트륨 및 철 이온의 농도를 각각 500ppb 이하로 감소시키는 단계 : 이어서 c)하나 이상의 페놀 화합물을 상기 이온 교환 수지에 통과시킴으로써 나트륨 및 철 이온 함량을 각각 200ppb이하로 감소시키거나; 또는 하나 이상의 페놀 화합물을 증류시킴으로써 나트륨 및 철 이온 함량을 각각 200ppb이하로 감소시키거나; 또는 하나 이상의 페놀 화합물로 부터 무기 산 용액으로 금속 이온을 추출함으로써 나트륨 및 철 이온함량을 각각 200ppb 이하로 감소시키는 단계 및 상기 포름알데히드와 하나 이상의 페늘 화합물을 촉매 존재하에서 축합반응시키고, 상기 축합 반응 전에 루이스의 염기의 농도를 약 10내지 1000ppm으로 조정함으로써, 목적하는 범위의 거의 일정한 분자량을 갖고 나트륨과 철 이온의 농도가 각각 500ppb 이하인 수-불용성의 수성 알칼리 가용성 노볼락 수지를 제조하는 단계틀 포함하여, 수-불용성의 수성 알칼리 가용성 노볼락 수지를 제조하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 루이스의 염기의 농도가 축합 반응 후에만 조정되는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 촉매가 산 촉매인 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 유기 반대 이온의 수산화물인 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 수산화암모늄인 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 1)순수한 고체 또는 액체로서, 또는 2)물, 적합한 유기 용매 또는 유기 용매와 물의 혼합물중의 염 또는 용액으로서 첨가되는 유기 염기이고, 하기 일반식 2 내지 4중 하나 이상의 일반식을 갖는 유기 화합물인 방법;
    상기 X는 N 또는 CR6이되, X가 CR6인 경우, X는 상기 분자내의 하나 이상의 염기 중심에 존재하고, 일반식 2에서 X는 P일 수 있으며; R1내지 R6은 1) 수소 알킬쇄가 헤테로원자로 치환될 수 있는 C1-10알킬(양자는 직쇄 및 분지쇄 임); 2)C3-10시클로알킬; 3)히드록시; 4)C1-10알콕시, C3-10시클로알킬옥시 및 C6-12아릴옥시; 5)R이 H, C1-10알킬 또는 C6-12아릴인 C1-10카르복실산 또는 에스테르 -COOR 및 케토-치환제 -C(=0)R; 6)할로겐 또는 니트로; 7)아미노, C1-10알킬- 또는 디알킬아미노; 8)C3-10시클로알킬아미노 및 디시클로알킬아미노; 및 9)상기 치환제 R1내지 R5중 2개 이상이 사이클 또는 폴리사이클 고리시스템의 한 부분인 C3-10시클로로알킬중 임의의 것일 수 있다.
  7. 제1항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 하기 일반식 1을 갖는 유기 반대 이온의 4-치환된 수산화 암모늄인 방법;
    상기 식중에서, 치환체 A, B, C 및 D는 1)C1-10알킬; 2)C3-10시클로알킬; 3)C6-12알킬 또는 알킬아릴(C1-10알킬, C6-12아릴)치환체; 4)C1-10알킬옥시 또는 C3-10시클로알킬옥시; 5)C6-12아릴옥시; 6)R이 H, C1-10알킬 또는 C6-12아릴인 C1-10알킬 또는 C6-12아릴 카르복실산 또는 에스테르 -COOR 및 케토-치환체 -C(=0)R; 7)아미노, C1-5알킬- 및 디알킬아미노; 8)C3-10시클로알킬아미노 및 디시클로알킬아미노; 및 9)상기 치환체 A 내지 D중 2개 이상이 C3-10사이클 또는 폴리사이클고리 시스템인 C3-10시클로알킬일 수 있다.
  8. a)물로 산성의 이온 교환 수지를 세정한 후, 이어서 무기 산 용액으로 세정함으로써 상기 이온 교환 수지내의 금속 이온을 각각 500 ppb 이하로 감소시키는 단계; b)물/포름알데히드 용액을 상기 이온 교환 수지에 통과시킴으로써 상기 용액중의 금속 이온의 농도른 각각 500 ppb 이하로 감소시키는 단계 : c)금속 이온의 함량이 200 ppb 이하인 하나 이상의 페놀 화합물을 산출하는 단계; d)상기 포름알데히드와 하나 이상의 페놀 화합물을 촉매 존재하에서 축합반응시키고, 상기 축합 반응 전에 루이스의 염기의 농도를 약 10 내지 1000 ppb으로 조정함으로써, 목적하는 범위의 거의 일정한 분자량을 갖고 금속 이온의 농도가 각각 500 ppb 이하인 수-불용성의 수성 알칼리 가용성 노볼락 수지를 제조하는 단계: 및 e) 1)상기 감광제 조성물을 감광화시키기에 충분한 양의 감광화제 성분; 2)수-불용성의 수성 알칼리 가용성 노볼락 수지: 및 3)적합한 용매의 혼합물을 제공하는 단계를 포함하여, 양성 감광제 조성물을 제조하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 루이스의 염기의 농도가 축합 반응 후에 조정되는 방법.
  10. 제8항에 있어서, 상기 촉매가 산 촉매인 방법.
  11. 제8항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 유기 반대 이온의 수산화물인 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 수산화암모늄인 방법.
  13. 제8항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 상기 반응 혼합물에 1)순수한 고체 또는 액체로서, 또는 2)물 또는 적합한 유기 용매 또는 유기 촉매와 물의 혼합물중의 염 또는 용액으로서 첨가되는 유기 염기이고, 하기 일반식 2 내지 4중 하나 이상의 일반식을 갖는 유기 화합물인 방법;
    상기 식중에서, X는 N 또는 CR6이되, X가 CR6인 경우, X는 상기 분자내의 하나 이상의 염기 중심에 존재하고, 일반식 2에서 X는 P일 수 있으며; R1내지 R6은 1) 수소, C1-10알킬; 2)C3-10시클로알킬: 3)히드록시; 4)C1-10알콕시, C3-10시클로알킬옥시 및 C6-12아릴옥시; 5)R이 H, C1-10알킬 또는 C6-12아릴인 C1-10알킬 또는 C6-12아릴 카르복실산 또는 에스테르 -COOR 및 케토-치환제 -C(=0)R;6)할로겐 또는 니트로; 7)아미노, C1-10알킬- 또는 디알킬아미노; 8)C3-10시클로알킬아미노 및 디시클로알킬아미노; 및 9)상기 치환체 R1내지 R5중 2개 이상이 사이클 또는 폴리사이클 고리시스템의 한 부분인 C3-10시클로알킬중 임의의 것일 수 있다.
  14. 제8항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 하기 일반식 1을 갖는 유기 반대 이온의 4-치환된 수산화 암모늄인 방법;
    상기 식중에서, 치환체 A, B, C 및 D는 1)C1-12알킬; 2)C3-10시클로알킬; 3)C6-12알킬 또는 알킬아릴(C1-10알킬, C6-12아릴)치환체; 4)C1-10알킬옥시 또는 C3-10시클로알킬옥시; 5)C6-12아릴옥시; 6)R이 H, C1-10알킬 또는 C6-12아릴인 C1-10알킬 또는 C6-12아릴 카르복실산 또는 에스테르 -COOR 및 케토-치환체-C(=0)R; 7)아미노, C1-5알킬- 및 디알킬아미노; 8)C3-10시클로알킬아미노 및 디시클로알킬아미노; 및 9)상기 치환체 A 내지 D중 2개 이상이 C3-10사이클 또는 폴리사이클고리 시스템인 C3-10시클로알킬일 수 있다.
  15. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 용매가 폴리프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 에틸 아세테이트 및 에틸 3-에톡시프로피오네이트로 구성되는 군에서 선택되는 방법.
  16. a)물로 산성의 이온 교환 수지률 세정한 후, 이어서 무기 산 용액으로 세정함으로써 상기 이온 교환 수지내의 금속 이온을 각각 500 ppb 이하로 감소시키는 단계; b)물/포름알데히드 용액을 상기 이온 교환 수지에 통과시킴으로써 상기 용액중의 금속 이온의 농도를 각각 500 ppb 이하로 감소시키는 단계; c)금속 이온의 함량이 200 ppb 이하인 하나 이상의 페놀 화합물을 산출하는 단계; d)상기 포름알데히드와 하나 이상의 페놀 화합물을 촉매 존재하에서 축합반응시키고, 상기 축합 반응 전에 루이스의 염기의 농도를 약 10 내지 1000 ppb으로 조정함으로써, 금속 이온의 농도가 각각 500 ppb 이하인 수-불용성의 수성 알칼리 가용성 노볼락 수지를 제조하는 단계 e) 1)상기 감광제 조성물을 감광화시키기에 충분한 양의 감광화제 성분; 2)수-불용성의 수성 알칼리 가용성 노볼락 수지; 및 3)적합한 용매의 혼합물을 제공함으로써 양성 작용 감광제 조성물을 제조하는 단계; f) 상기 감광제 조성물을 적합한 기재에 코팅하는 단계; 9)상기 용매가 거의 모두 다 제거될 때까지 상기 코팅된 기재를 부식처리하는 단계: h)상기 감광제 조성물을 영상 방식으로 노출시키는 단계; 및 i)상기 감광제 조성물중 영상 방식으로 노출된 부분을 적합한 현상제로 제거하는 단계를 포함하여, 적합한 기재상에 광-영상을 형성시킴으로써 반도체 장치를 제조하는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 루이스의 염기의 농도가 축합 반응 후에 조정되는 방법.
  18. 제16항에 있어서, 상기 촉매가 산 촉매인 방법.
  19. 제16항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 유기 반대 이온의 수산화물인 방법.
  20. 제19항에 있어서, 상기 루이스의 염기가 수산화암모늄인 방법.
  21. 제16항에 있어서, 상기 용매가 폴리프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이트, 에틸 아세테이트 및 에틸 3-에톡시프로피오네이트로 구성되는 군에서 선택되는 방법.
    ※ 참고사항 :최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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